플라즈마 보조 화학 기상 증착(PACVD) 기계는 표준 화학 기상 증착에 비해 낮은 온도에서 기판에 여러 재료의 박막을 증착하는 데 도움이 되는 반도체 제조 도구입니다. 가스가 플라즈마로 변환되는 병렬 전극 사이에 반응 가스를 도입하여 작동하여 기판에 반응 생성물을 증착하는 화학 반응을 일으킵니다. 이 기계는 우수한 필름 균일성, 저온 처리 및 높은 처리량을 제공하는 현대 반도체 제조에 필수적입니다. 고급 전자 장치에 대한 수요가 계속 증가함에 따라 PACVD 기계는 반도체 산업에서 점점 더 중요한 역할을 하게 될 것입니다.
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pacvd
품목 번호 : KT-PED
당사는 고품질 박막 생산을 위한 최고의 플라즈마 보조 화학 기상 증착(PACVD) 기계 솔루션을 제공합니다. 당사의 기계는 플라즈마 보조 화학 기상 증착(PACVD)을 사용하여 균일성과 접착력이 우수한 박막을 생성합니다. 당사의 기계는 저압 및 원격 플라즈마 강화 CVD를 포함하여 다양한 형식으로 제공됩니다. 우리는 또한 고객의 특정 요구를 충족시키기 위해 맞춤형 디자인 서비스를 제공합니다. 광범위한 솔루션 포트폴리오를 통해 고객의 요구 사항을 충족하는 적절한 표준 솔루션을 보유하고 있음을 보장합니다.
PACVD 기계의 응용
- 전자소자용 박막 증착
- 태양 전지 및 광전지 장치의 코팅
- 광학 장치용 무반사 코팅 제조
- 절삭 공구 및 기계 부품용 내마모성 코팅 생산
- 오염 방지를 위한 식품 포장용 배리어 코팅제 개발
- 의료 기기용 생체 적합성 코팅제 생성
- 자동차 부품용 보호 코팅 생산
- 항공우주 부품용 코팅 제조
- MEMS(Microelectromechanical Systems)용 코팅 개발
- 나노기술 적용을 위한 코팅 생성
PACVD 장비의 장점
- 낮은 증착 온도
- 높은 증착 효율
- 제어 가능한 매개변수
- 증착된 박막의 우수한 유전 특성
- 증착된 박막의 낮은 기계적 응력
- 증착된 박막에서 우수한 컨포멀 스텝 커버리지 및 균일성
당사의 PACVD 기계는 고품질의 합리적인 가격의 박막 증착을 찾는 사람들에게 완벽한 솔루션입니다. 우리 기계는 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PACVD) 방법을 사용하여 다른 증착 공정보다 낮은 기판 온도에서 증착할 수 있습니다. 당사의 PACVD 기계는 비용 효율적일 뿐만 아니라 고객의 특정 요구 사항에 맞는 완벽한 맞춤화 서비스도 제공합니다.
FAQ
PACVD는 PECVD입니까?
예, PACVD(플라즈마 보조 화학 기상 증착)는 PECVD(플라즈마 강화 화학 기상 증착)의 또 다른 용어입니다. 이 프로세스는 열적 CVD보다 낮은 온도에서 CVD 반응을 활성화하기 위해 전기장에서 형성된 에너지 플라즈마를 사용하므로 열 예산이 낮은 기판 또는 증착된 필름에 이상적입니다. 플라즈마를 변화시킴으로써 증착된 필름의 특성에 추가적인 제어가 추가될 수 있습니다. 대부분의 PECVD 공정은 방전 플라즈마를 안정화하기 위해 저압에서 수행됩니다.
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