진공 열간 프레스로

진공로는 어떤 용도로 사용되나요?

진공로는 오염 없이 제어된 환경에서 재료의 고온 처리에 사용됩니다. 제품을 진공으로 둘러싸서 작동하여 대류에 의한 제품의 산화 및 열 손실을 방지합니다. 이 퍼니스는 일반적으로 1200 °C 미만의 온도에서 강철 합금의 열처리에 사용됩니다. 고온 진공 용광로는 최대 3000°C의 온도에 도달할 수 있으며 소결, 브레이징, 어닐링 및 열 처리와 같은 산업 공정에 높은 일관성과 낮은 오염으로 사용됩니다. 전체 공작물에 걸쳐 균일한 가열을 달성하는 능력은 고온 진공로를 사용하는 주요 이점입니다.

CVD로란?

화학 기상 증착(CVD)은 가열, 플라즈마 여기 또는 빛 방사와 같은 다양한 에너지원을 사용하여 기상 또는 기체-고체 계면에서 기체 또는 증기 화학 물질을 화학적으로 반응시켜 반응기에서 고체 침전물을 형성하는 기술입니다. 화학 반응. 간단히 말해서 두 가지 이상의 기체 상태의 원료를 반응 챔버에 넣은 다음 서로 반응하여 새로운 물질을 형성하고 기판 표면에 증착합니다.

CVD로는 고온 관상로 장치, 가스 제어 장치 및 진공 장치가 있는 하나의 결합된로 시스템으로 복합 재료 준비, 마이크로 전자 공정, 반도체 광전자, 태양 에너지 이용, 광섬유 통신, 초전도체의 실험 및 생산에 널리 사용됩니다. 기술, 보호 코팅 분야.

치과 용광로는 무엇입니까?

치과 용광로는 치과 용 오븐으로도 알려져 있으며 크라운, 브리지, 인레이 및 온 레이와 같은 세라믹 치과 수복물의 생산에 사용되는 장비입니다. 퍼니스는 세라믹 재료를 경화된 최종 상태로 처리하기 위해 고온 및 압력에 도달할 수 있습니다. 세라믹 조합로, 소결로 및 글레이징로를 포함하여 다양한 유형의 치과 용광로가 있습니다. 최신 치과용 퍼니스는 마이크로프로세서로 제어되어 프로그래밍 가능성의 이점과 사용자가 모두 정확하게 실행할 수 있는 최대 200개의 서로 다른 프로그램을 기억할 수 있는 메모리 시스템을 제공합니다.

랩 프레스란?

실험실 프레스라고도 하는 실험실 프레스는 제약 개발, 분광학 및 폭탄 열량 측정과 같은 다양한 응용 분야를 위해 분말 재료에서 압축 펠릿을 만드는 데 사용되는 기계입니다. 분말은 다이에 넣고 유압 작용에 의해 모양이 압축됩니다. 랩 프레스는 15~200미터톤의 광범위한 압력을 가질 수 있으며 다양한 크기 또는 맞춤형 다이를 수용할 수 있습니다. 그들은 일반적으로 제약, 라미네이팅, 고무 및 플라스틱 몰딩과 같은 산업과 R&D 작업, 테스트, 단기 생산, 한정 생산, 셀 제조 및 린 제조에 사용됩니다.

관상로란 무엇입니까?

실험실 용광로는 하나의 고전적인 외부 가열 고온 용광로이며 고온 벽 가열로라고도합니다.

다른 작동 온도에 따라 퍼니스 튜브 재료는 일반적으로 투명한 석영 튜브, 고순도 알루미나 세라믹 튜브 및 고강도 금속 합금 튜브가 될 수 있습니다.

다양한 열 연구 목적을 충족하기 위해 튜브 퍼니스는 다중 가열 영역으로 설계되어 튜브 작업 챔버에서 온도 구배를 유연하게 제어할 수 있습니다. 용광로 튜브는 제어된 대기 작업 환경 또는 고진공 작업 환경에서 작동할 수 있습니다.

진공 핫 프레스 퍼니스의 목적은 무엇입니까?

진공 핫 프레스 퍼니스의 목적은 진공 또는 대기, 핫 프레싱 및 고온 소결을 결합하여 새로운 재료를 형성하는 것입니다. 투명 세라믹, 공업용 세라믹, 금속의 진공 소결 및 탄화 규소, 질화 규소 등의 세라믹 재료의 고온 소결에 사용할 수 있습니다. 또한 주요 구성 요소의 녹는점보다 낮은 온도에서 분말 및 성형체의 열처리에 사용할 수 있으며 입자 간의 야금학적 결합을 통해 강도를 향상시킵니다. 완성된 재료는 기계적, 전자적 및 열적 특성이 개선되었습니다.

진공로의 공정은 무엇입니까?

진공로의 공정은 부품을 챔버에 적재하고 진공 펌프를 사용하여 내부에 진공을 생성하는 과정을 포함합니다. 다음 단계는 화씨 1,500도에서 5,400도 사이에 도달할 수 있는 온도 제어를 사용하여 부품을 가열하는 것입니다. 이 공정은 산화 및 오염 가능성을 제거하여 최종 제품의 순도를 높입니다. 가열 후 진공로에서 꺼내기 전에 부품을 냉각하고 마무리합니다. 용광로는 진공 시스템, 용광로 외피, 전기 발열체, 온도 조절 장치, 전원 공급 시스템, 운송 장치를 포함한 다양한 구성 요소로 구성됩니다.

CVD 전기로는 어떻게 작동합니까?

CVD로 시스템은 고온 튜브로 장치, 반응 가스 소스 정밀 제어 장치, 진공 펌프 스테이션 및 해당 조립 부품으로 구성됩니다.

진공 펌프는 반응 튜브에서 공기를 제거하고 반응 튜브 내부에 원치 않는 가스가 없는지 확인한 후 튜브 퍼니스가 반응 튜브를 목표 온도로 가열한 다음 반응 가스 소스 정밀 제어 장치가 다른 도입할 수 있음을 확인합니다. 화학 반응을 위해 로 튜브에 설정된 비율로 가스를 넣으면 화학 기상 증착이 CVD 로에서 형성됩니다.

진공 아크 용융 공정이란 무엇입니까?

VAR(진공 아크 용융)은 항공 우주, 에너지 및 원자력과 같은 산업에서 중요한 응용 분야를 위해 화학적 및 기계적 균질성이 높은 금속 주괴를 생산하는 데 사용되는 2차 용융 공정입니다. 이 공정에는 진공 상태에서 액체 금속을 정제하고 응고 속도를 제어하는 작업이 포함됩니다. 이것은 주조 내화물과의 접촉 없이 반응성 티타늄 또는 지르코늄 합금의 정화 및 강철 및 초합금의 개재물 청정도 개선에 사용됩니다. 재용해된 원통형 주괴는 무게가 몇 톤에 달할 수 있으며 VAR은 특수 야금 기술 산업에 혁명을 일으켰습니다.

펠렛 프레스의 용도는 무엇입니까?

펠렛 프레스는 다양한 산업 분야에 걸쳐 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다. 이는 제약 산업에서 일반적으로 약물 제제용 균일하고 압축된 펠렛을 생산하는 데 사용됩니다. 식품 산업에서 펠렛 프레스는 동물 사료 펠릿뿐만 아니라 스낵 및 아침 시리얼용 펠릿을 만드는 데 사용됩니다. 펠렛 프레스는 화학 산업에서 촉매, 비료, 화학 첨가제로도 사용됩니다. 또한 그들은 연료용 목재 펠릿 생산을 위한 바이오매스 산업뿐만 아니라 추가 가공을 위한 금속 펠릿 생산을 위한 야금 산업에도 적용할 수 있습니다.

치과 용광로의 다른 유형은 무엇입니까?

다양한 유형의 치과 용광로에는 세라믹 용광로, 세라믹 조합 용광로, 소결 용광로 및 유약 용광로가 포함됩니다. 세라믹 로는 기존의 세라믹을 처리하고, 세라믹 콤비네이션 로는 압축 가능한 세라믹으로 작업하는 데 필요한 압력 하에서 작동할 수 있는 기능을 추가하고, 소결로는 지르코니아를 처리하는 데 필요한 극한의 온도에 도달할 수 있으며, 글레이징 로는 특정 얼룩과 유약을 설정하는 데 사용됩니다. 치과용 퍼니스를 선택할 때 실습이나 기공소에서 사용되는 재료를 가공할 수 있고 세척이 용이하며 적절하게 관리되는 것을 선택하는 것이 중요합니다.

실험실에서 유압 프레스의 목적은 무엇입니까?

실험실의 유압 프레스는 재료의 강도와 내구성을 테스트하고, 다양한 물질에 대한 고압의 영향을 조사하고, 샘플 분석을 위한 펠릿을 만드는 데 사용됩니다. 유체 압력을 사용하여 힘을 발생시키는 기계로, 재료를 압축하거나 성형하는 데 사용할 수 있습니다. 실험실 유압 프레스는 보다 정밀하고 제어할 수 있는 산업용 기계의 소형 버전입니다. 일반적으로 재료의 원소 구성을 연구하기 위해 FTIR용 KBr 펠릿과 XRF용 일반 샘플 펠릿을 만드는 데 사용됩니다.

PECVD 방법이란?

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)는 마이크로 전자 장치, 광전지 및 디스플레이 패널에 박막을 증착하기 위해 반도체 제조에 사용되는 프로세스입니다. PECVD에서 전구체는 기체 상태로 반응 챔버에 도입되며 플라즈마 반응 매체의 도움으로 CVD보다 훨씬 낮은 온도에서 전구체를 분리합니다. PECVD 시스템은 우수한 필름 균일성, 저온 처리 및 높은 처리량을 제공합니다. 그들은 광범위한 응용 분야에서 사용되며 첨단 전자 장치에 대한 수요가 계속 증가함에 따라 반도체 산업에서 점점 더 중요한 역할을 할 것입니다.

대기로 란 무엇입니까?

대기로는 다양한 절차를 위해 통제된 환경을 제공하는 일종의 실험실 장비입니다. 특정 온도와 분위기를 유지하도록 설계되어 정밀성과 정확성이 요구되는 작업을 완료하는 데 필수적입니다. 퍼니스는 적절한 환경을 보장하기 위해 단단히 밀봉되어 있으며 사용된 가스 혼합물을 정확하게 측정하여 원하는 결과를 얻습니다. 이 유형의 용광로는 일반적으로 불활성 분위기에서 산화되기 쉬운 샘플의 접착, 경화 및 열처리에 사용됩니다.

관상로는 어떻게 작동합니까?

관로 가열 요소는 원통형 캐비티 주변에 배치되며, 퍼니스는 간접 열 복사를 통해서만 원통형 캐비티의 샘플을 가열할 수 있습니다. 퍼니스 튜브는 샘플 재료가 퍼니스 가열 요소 및 단열재와 접촉하는 것을 방지할 수 있으므로 튜브 퍼니스는 깨끗한 절연을 생성합니다. 챔버를 가열하고 용광로에 의해 시료 물질이 오염될 위험을 줄입니다.

RF PECVD란?

RF PECVD는 저압 화학 기상 증착이 진행되는 동안 프로세스에 영향을 미치기 위해 글로우 방전 플라즈마를 사용하여 기판에 다결정 필름을 준비하는 데 사용되는 기술인 무선 주파수 플라즈마 강화 화학 기상 증착을 나타냅니다. RF PECVD 방법은 일반적으로 평평한 웨이퍼가 기판으로 사용되는 표준 실리콘 집적 회로 기술에 대해 잘 확립되어 있습니다. 이 방법은 저비용의 필름 제조가 가능하고 증착 효율이 높기 때문에 유리합니다. 재료는 굴절률 등급 필름 또는 각각 다른 특성을 가진 나노 필름 스택으로 증착될 수도 있습니다.

진공 핫 프레스 퍼니스의 장점은 무엇입니까?

진공 열간 프레스로는 금속 및 세라믹 분말의 열간 압착 소결, 세라믹/금속 복합재 및 금속간 화합물의 제조, 확산 용접 공정의 연구 개발, 산소/질소/붕소/탄소 화합물의 치밀화 열간 압착 소결 및 그들의 혼합물. 진공 또는 대기 하의 고온 및 고압은 원료 고체 입자를 함께 결합하고, 공극 및 결정립계를 감소시키며, 완제품의 기계적, 전자적 및 열적 특성을 개선하는 데 도움이 됩니다.

진공로에서 사용되는 가스는?

용도에 따라 진공로에서 다양한 가스를 사용할 수 있습니다. 일반적으로 진공로는 아르곤, 질소, 수소, 일산화탄소, 헬륨 등과 같은 가스 또는 혼합물을 사용할 수 있습니다. 이러한 가스를 사용하면 진공 납땜 및 브레이징, 진공 어닐링 및 소결과 같은 다양한 응용 분야에 필요한 정의된 대부분 비산화 분위기에서 열처리가 가능합니다. 또한 공기 조성과 다른 정의된 산소 농도로 작업할 수 있습니다.

CVD 공정에 사용되는 가스는?

CVD 공정에는 엄청난 가스 소스가 사용될 수 있으며 CVD의 일반적인 화학 반응에는 열분해, 광분해, 환원, 산화, 산화 환원이 포함되므로 이러한 화학 반응에 관련된 가스를 CVD 공정에서 사용할 수 있습니다.

CVD 그래핀 성장을 예로 들면 CVD 공정에 사용되는 가스는 CH4,H2,O2 및 N2입니다.

VAR 진공 아크 재용해로(VAR) Furnace란 무엇입니까?

VAR 또는 진공 아크 재용융은 표준 공기 용융, 진공 유도 용융 또는 ESR 재용융 합금으로 만든 잉곳의 청결도를 개선하고 개선하는 데 사용되는 프로세스입니다. 항공 우주, 발전, 국방, 의료 및 원자력과 같은 산업에서 철강, 초합금, 티타늄, 지르코늄 및 그 합금에 사용됩니다. VAR은 전극과 구리 주형 사이에 아크를 발생시키는 데 사용되는 DC 전원을 사용하여 진공 상태에서 소모성 전극을 연속적으로 재용융하는 공정입니다. 이 공정은 용존 가스를 제거하고, 원하지 않는 미량 원소를 줄이고, 산화물 청정도를 개선하고, 잉곳을 아래에서 위로 방향성 응고시킵니다.

펠렛 프레스는 어떻게 작동하나요?

펠릿 프레스는 재료를 회전하는 롤러나 압출판에 의해 압축되는 챔버에 공급하여 작동합니다. 가해지는 압력은 펠렛의 크기와 모양을 결정하는 특정 크기와 모양의 구멍이 있는 다이를 통해 재료를 밀어냅니다. 그런 다음 펠렛을 원하는 길이로 자르고 추가 처리 또는 포장을 위해 수집합니다. 일부 펠렛 프레스에는 특정 응용 분야에 따라 펠릿을 건조하거나 냉각하는 등의 추가 단계가 포함될 수도 있습니다.

치과 용광로의 온도는 무엇입니까?

치과 용광로의 온도는 일반적으로 600°C에서 1600°C 사이입니다. 얻어진 소성 결과는 실제 온도의 정확도에 영향을 받습니다. 다른 치과용 퍼니스는 동일한 디지털 외부 디스플레이를 가질 수 있지만, 유사한 조건에서 동일한 세라믹을 처리할 때 소성 정도에 관한 다른 결과를 식별할 수 있습니다. 국제 표준은 예를 들어 800°C에서 열전대를 사용하여 소성실에서 온도 제어의 최종 조정을 통해 원산지 공장을 기반으로 치과용 퍼니스의 최종 보정 사이에 현재 존재하는 차이를 평준화합니다.

랩 프레스의 다른 유형은 무엇입니까?

다양한 유형의 실험실 프레스에는 수동 유압 프레스, 자동 유압 프레스가 포함됩니다. 수동 유압 프레스는 수동식 레버를 사용하여 압력을 가하는 반면, 자동 프레스는 제품을 보다 정확하고 일관되게 프레스할 수 있는 프로그래밍 가능한 제어 장치가 장착되어 있습니다. 유압 프레스를 선택할 때 특정 샘플에 필요한 힘의 양, 실험실에 제공되는 공간, 프레스를 펌핑하는 데 필요한 에너지와 강도를 고려하는 것이 중요합니다.

PECVD는 무엇을 위해 사용됩니까?

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)는 반도체 산업에서 광전지, 마찰 공학, 광학 및 생의학 분야뿐만 아니라 집적 회로를 제조하는 데 널리 사용됩니다. 마이크로 전자 장치, 광전지 및 디스플레이 패널용 박막을 증착하는 데 사용됩니다. PECVD는 일반적인 CVD 기술만으로는 생성할 수 없는 고유한 화합물 및 필름을 생성할 수 있으며 화학적 및 열적 안정성과 함께 높은 용매 및 내식성을 나타내는 필름을 생성할 수 있습니다. 또한 넓은 표면에 균질한 유기 및 무기 폴리머를 생산하는 데 사용되며, 마찰 공학용 DLC(Diamond-like Carbon)도 사용됩니다.

대기로의 용도는 무엇입니까?

분위기 가열로는 실험실에서 다양한 공정을 위한 통제된 환경을 제공하는 데 사용됩니다. 용광로는 정밀한 온도와 대기 제어가 가능하며 이는 정확한 온도가 필요한 절차에 매우 중요합니다. 퍼니스는 프로젝트에 적합한 환경을 보장하기 위해 단단히 밀봉되어 있습니다. 대기 용광로의 주요 구성 요소는 프로젝트의 성공에 필수적인 정확한 가스 혼합입니다. 분위기 가열로는 열처리 공정의 성공에 중요한 역할을 합니다. 가공 중인 소재를 보호하거나 가공 중인 소재의 표면을 변화시키기 위해 사용합니다.

관상로의 용도는 무엇입니까?

관로는 주로 야금, 유리, 열처리, 리튬 양극 및 음극 재료, 신 에너지, 연마재 및 기타 산업에 사용되며 특정 온도 조건에서 재료를 측정하는 전문 장비입니다.

관상로는 간단한 구조, 쉬운 작동, 쉬운 제어 및 연속 생산을 특징으로 합니다.

관상로는 또한 CVD(화학 기상 증착) 및 플라즈마 강화 CVD 시스템에 널리 적용됩니다.

회전로 유형은 무엇입니까?

회전로 유형에는 회전 및 기울이기 기능이 있는 회전식 및 틸팅로가 포함되어 건조 및 코팅 응용 분야에서 균일성을 허용합니다. KINTEK 용광로는 다구역 가열 옵션을 제공하고 내화 라이닝에 알루미나 섬유를 활용하고 온도 컨트롤러를 사용하여 효율성을 높입니다. 이러한 용광로는 연속 처리 및 배치 작업에 적합합니다. 또한 다른 튜브 또는 반응기를 사용하기 위해 열 수 있습니다. 아연 도금 코팅으로 덮인 에폭시 페인트 구조는 더 긴 수명과 미학을 제공합니다. 전반적으로 회전식 및 틸팅로는 재료 생산, 건조, 노화 및 산화 공정에 널리 사용됩니다.

진공 핫 프레스 퍼니스는 어떻게 작동합니까?

진공 핫 프레스로는 진공, 핫 프레싱 및 고온 소결을 결합한 장비입니다. 진공 또는 대기 상태에서 재료를 가열 및 가압하여 기계적, 전자적 및 열적 특성이 개선된 소형 다결정 소결체를 생성합니다. 퍼니스는 퍼니스 본체, 가열 및 보온, 온도 측정 시스템, 진공 시스템, 공기 충전 시스템, 수냉 시스템, 제어 시스템 및 압력 시스템을 포함한 여러 시스템으로 구성됩니다. 가열 요소는 흑연 히터, 몰리브덴 히터 또는 유도 가열이 될 수 있으며 수압 가압에는 단방향 또는 양방향 가압을 사용할 수 있습니다.

진공로에서 사용되는 발열체는 무엇입니까?

진공 용광로의 가열 요소는 적절한 기능에 매우 중요하며 최대 작동 온도, 전력 부하, 분압 및 냉각 가스, 기대 수명과 같은 요인에 따라 달라집니다. 진공로는 스테인레스 스틸, 니켈-크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 탄탈륨과 같은 고온 금속 합금 또는 흑연 및 탄화 규소와 같은 비금속 재료를 포함하여 다양한 재료로 만들어진 전기 저항 요소로 가열됩니다. 가열 요소의 재료 선택은 수명, 신뢰성, 효율성 및 궁극적으로 공정 결과를 최대화하는 데 중요합니다.

CVD 시스템의 장점은 무엇입니까?

• 필요에 따라 금속막, 비금속막, 다성분 합금막 등 다양한 피막을 생산할 수 있습니다. 동시에 GaN, BP 등 다른 방법으로는 얻기 힘든 고품질 결정을 제조할 수 있다.
• 필름 형성 속도는 빠르며 일반적으로 분당 수 미크론 또는 분당 수백 미크론입니다. LPE(액상 에피택시) 및 MBE(분자선 에피택시)와 같은 다른 필름 제조 방법과 비교할 수 없는 균일한 조성으로 많은 양의 코팅을 동시에 증착할 수 있습니다.
• 작업 조건은 상압 또는 저진공 조건에서 수행되므로 코팅은 회절이 좋으며 복잡한 형상의 작업물을 균일하게 코팅할 수 있어 PVD보다 훨씬 우수합니다.
• 반응 기체, 반응 생성물 및 기질의 상호 확산으로 인해 내마모성 및 부식 방지 필름과 같은 표면 강화 필름을 제조하는 데 중요한 접착 강도가 우수한 코팅을 얻을 수 있습니다.
• 일부 필름은 필름 재료의 녹는점보다 훨씬 낮은 온도에서 성장합니다. 저온 성장 조건에서는 반응 가스와 반응기 벽 및 그 안에 포함된 불순물이 거의 반응하지 않아 순도가 높고 결정성이 좋은 막을 얻을 수 있다.
• 화학 기상 증착은 매끄러운 증착 표면을 얻을 수 있습니다. 이는 LPE와 비교하여 화학적 기상 증착(CVD)이 고포화 상태에서 수행되어 높은 핵 생성 속도, 높은 핵 생성 밀도 및 전체 평면에 균일한 분포로 인해 거시적으로 매끄러운 표면을 생성하기 때문입니다. 동시에 화학 기상 증착에서 분자(원자)의 평균 자유 경로는 LPE보다 훨씬 크므로 분자의 공간 분포가 더 균일하여 매끄러운 증착 표면을 형성하는 데 도움이 됩니다.
• MOS(금속산화물반도체) 및 기타 소자 제조에 필요한 조건인 낮은 Radiation Damage

진공 아크 용해로는 어떻게 작동합니까?

진공 아크 용해로는 전기 아크를 사용하여 진공 또는 저압 분위기에서 재료를 녹이는 방식으로 작동합니다. 퍼니스는 두 개의 전극을 사용하며 그 중 하나는 용융될 재료입니다. 전극이 서로 가까워지고 전극 사이에 전기 아크가 발생하여 재료가 녹습니다. 그런 다음 용광로를 비워 불순물을 제거하고 용융된 재료를 원하는 모양으로 주조합니다. 이 공정은 항공 우주, 전자 및 생체 공학과 같은 산업에서 사용되는 고순도 금속, 합금 및 금속 간 화합물의 생산에 사용됩니다.

펠릿 프레스를 사용하면 어떤 이점이 있나요?

펠릿 프레스는 재료를 회전하는 롤러나 압출판에 의해 압축되는 챔버에 공급하여 작동합니다. 가해지는 압력은 펠렛의 크기와 모양을 결정하는 특정 크기와 모양의 구멍이 있는 다이를 통해 재료를 밀어냅니다. 그런 다음 펠렛을 원하는 길이로 자르고 추가 처리 또는 포장을 위해 수집합니다. 일부 펠렛 프레스에는 특정 응용 분야에 따라 펠릿을 건조하거나 냉각하는 등의 추가 단계가 포함될 수도 있습니다.

도자기로의 용도는 무엇입니까?

치과 용광로는 크라운 및 베니어와 같은 치과 수복물에 사용되는 초벌구이 세라믹 재료 인 치과 용 도자기를 만들기 위해 치과에서 사용됩니다. 퍼니스는 세라믹 재료가 모양을 잡을 수 있을 만큼 부드러워질 때까지 가열한 다음 원하는 치아 패턴을 만들기 위해 냉각 및 연마됩니다. 치과용 도재 퍼니스 시스템에는 두 가지 주요 유형이 있습니다. 직접 소성 기술은 외부 소스를 사용하여 세라믹 재료를 직접 소성하므로 간접 소성 기술보다 비용 효율적입니다.

PECVD의 장점은 무엇입니까?

PECVD의 주요 장점은 낮은 증착 온도에서 작동할 수 있어 고르지 않은 표면에서 더 나은 정합성 및 스텝 커버리지를 제공하고 박막 프로세스를 보다 엄격하게 제어하며 높은 증착 속도를 제공한다는 것입니다. PECVD는 기존의 CVD 온도가 잠재적으로 코팅되는 장치나 기판을 손상시킬 수 있는 상황에서 성공적인 적용을 허용합니다. 더 낮은 온도에서 작동함으로써 PECVD는 박막 층 사이에 응력을 덜 생성하여 고효율 전기 성능과 매우 높은 기준에 대한 접합을 허용합니다.

관상로의 종류는 몇 가지입니까?

관상로는 다양한 기계적 기능과 원활하게 작동할 수 있으므로 실험 목적에 따라 다양한 유형의 관상로 변형이 있으며 일반적인 용광로는 다음과 같습니다.

• 수평 튜브로
• 수직 튜브로
• 분할 튜브로
• 회전식 튜브로
• 틸팅 튜브로
• 슬라이딩 튜브로
• 빠른 가열 및 냉각 튜브 퍼니스
• 연속 공급 및 방전 관로

로터 퍼니스의 장점은 무엇입니까?

회전식 튜브 퍼니스는 정적 프로세스에 비해 몇 가지 이점을 제공합니다. 샘플의 지속적인 이동은 처리 중에 전체 표면 영역이 대기에 노출되도록 하여 가스 확산을 개선하고 가스 소비를 줄이며 열처리 효율을 높입니다. 또한 재료는 일관된 온도 프로파일을 유지하는 고온 용광로를 지속적으로 통과하여 제품 균질성을 향상시킵니다. 회전로는 또한 다른 형태의 연속 고온 장비에 비해 처리량 및 에너지 효율성 측면에서 상당한 이점을 제공하므로 분말 재료의 고온 처리를 위한 최신 기술입니다.

PECVD는 무엇을 의미합니까?

PECVD는 플라즈마를 이용하여 반응 가스를 활성화하고 기판 표면 또는 표면 공간 근처에서 화학 반응을 촉진하여 고체 막을 생성하는 기술입니다. 플라즈마 화학 기상 증착 기술의 기본 원리는 RF 또는 DC 전기장의 작용하에 소스 가스가 이온화되어 플라즈마를 형성하고 저온 플라즈마를 에너지 원으로 사용하고 적절한 양의 반응 가스가 플라즈마 방전을 이용하여 반응가스를 활성화시켜 화학기상증착을 구현한다.

플라즈마를 발생시키는 방법에 따라 RF 플라즈마, DC 플라즈마 및 마이크로파 플라즈마 CVD 등으로 나눌 수 있습니다.

펠렛 프레스를 선택할 때 고려해야 할 요소는 무엇입니까?

펠렛 프레스를 선택할 때 몇 가지 요소를 고려해야 합니다. 여기에는 원하는 펠릿 크기 및 모양, 재료 특성, 필요한 생산 능력, 사용 가능한 공간 및 자원이 포함됩니다. 수분 함량, 입자 크기, 유동성 등 처리되는 재료의 유형과 상태도 펠릿 프레스 선택에 영향을 미칠 수 있습니다. 또한 전력 요구 사항, 작동 및 유지 관리의 용이성, 예비 부품 및 기술 지원 가용성과 같은 요소를 고려해야 합니다. 최적의 성능과 비용 효율성을 보장하려면 특정 요구 사항 및 응용 분야의 목적에 맞는 펠릿 프레스를 선택하는 것이 중요합니다.

ALD와 PECVD의 차이점은 무엇입니까?

원자층 증착(ALD: Atomic Layer Deposition)은 원자층 두께 분해능, 종횡비가 높은 표면 및 핀홀 없는 층의 우수한 균일성을 가능하게 하는 박막 증착 공정입니다. 이것은 자기 제한 반응에서 원자층의 연속적인 형성에 의해 달성됩니다. 반면에 PECVD는 플라즈마를 사용하여 소스 재료를 하나 이상의 휘발성 전구체와 혼합하여 소스 재료를 화학적으로 상호 작용하고 분해합니다. 공정은 더 높은 압력으로 열을 사용하여 필름 두께가 시간/전력으로 관리될 수 있는 더 재현 가능한 필름으로 이어집니다. 이 필름은 더 화학양론적이고 밀도가 높으며 더 높은 품질의 절연 필름을 성장시킬 수 있습니다.

회전로의 효율성은 무엇입니까?

회전식 튜브 퍼니스는 재료 배치를 지속적으로 실행하면서 짧은 시간 동안 열을 전달하는 데 매우 효율적입니다. 또한 재료 취급을 최소화하여 분말 처리에 이상적입니다. KINTEK은 최대 온도 제어, 작업 공간 크기, 체류 시간, 튜브 회전 속도, 튜브 경사각, 온도 프로필, 대기 유량, 파우더 베드 깊이 및 공급 속도에 대한 특정 요구 사항에 맞게 제작할 수 있는 맞춤형 회전식 튜브 퍼니스를 제공합니다. 용광로용 튜브를 선택할 때 주요 고려 사항에는 회전 속도, 재료의 양, 튜브 직경, 매달린 길이 및 튜브 두께가 포함됩니다. 튜브 재료의 선택은 또한 잠재적인 응용을 기반으로 해야 합니다.

CVD와 PECVD의 차이점은 무엇입니까?

PECVD와 기존 CVD 기술의 차이점은 플라즈마가 화학 기상 증착 공정에 필요한 활성화 에너지를 제공할 수 있는 많은 수의 고에너지 전자를 포함하여 반응 시스템의 에너지 공급 모드를 변경한다는 것입니다. 플라즈마의 전자 온도는 10000K만큼 높기 때문에 전자와 가스 분자 간의 충돌은 반응 가스 분자의 화학 결합 파괴 및 재결합을 촉진하여 더 많은 활성 화학 그룹을 생성하는 반면 전체 반응 시스템은 더 낮은 온도를 유지합니다.

따라서 CVD 공정에 비해 PECVD는 더 낮은 온도에서 동일한 화학 기상 증착 공정을 수행할 수 있습니다.

PECVD와 스퍼터링의 차이점은 무엇입니까?

PECVD 및 스퍼터링은 둘 다 박막 증착에 사용되는 물리적 기상 증착 기술입니다. PECVD는 스퍼터링이 가시선 증착인 반면 매우 고품질의 박막을 생성하는 확산 가스 구동 프로세스입니다. PECVD는 트렌치, 벽과 같은 고르지 않은 표면에 더 나은 커버리지를 허용하고 높은 적합성을 제공하며 고유한 화합물과 필름을 생성할 수 있습니다. 반면에 스퍼터링은 여러 재료의 미세한 층을 증착하는 데 적합하며 다층 및 다단계 코팅 시스템을 만드는 데 이상적입니다. PECVD는 주로 반도체 산업, 마찰 공학, 광학 및 생물 의학 분야에서 사용되는 반면 스퍼터링은 주로 유전체 재료 및 마찰 공학 응용 분야에 사용됩니다.