진공 열간 프레스로
진공 열간 프레스 용광로
품목 번호 : KT-VHP
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 작동 온도
- 1500℃ / 2200℃
- 작동 압력
- 10-400T
- 프레스 거리
- 100-200mm
- 진공 압력
- 6x10-3Pa
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소개
진공 열간 프레스로는 진공 또는 대기 상태에서 재료를 가열하고 가압하는 완전한 장비 세트입니다. 다양한 재료와 가열 온도에 따라 가열 요소는 흑연 히터, 몰리브덴 히터, 유도 가열 등이 될 수 있으며 유압 가압에는 단방향 또는 양방향 가압을 사용할 수 있습니다.
고온 고압 및 진공 또는 대기 하에서 원료 고체 입자는 서로 결합되고 입자가 자라며 공극 (기공)과 입자 경계가 점차 감소하고 재료의 이동을 통해 총 부피가 줄어들고 밀도가 증가하여 특정 미세 구조를 가진 조밀 한 다결정 소결체가되어 재료를 압착 및 형성 할 수 있습니다.
완성된 재료의 밀도, 경도 및 기타 기계적, 전자적 및 열적 특성은 진공 또는 대기 상태뿐만 아니라 고온 및 고압에서도 크게 향상될 수 있습니다.
응용 분야
진공 튜브 핫 프레스 퍼니스는 다양한 산업 분야에서 고온 공정에 사용되는 다재다능하고 강력한 도구입니다. 진공 또는 제어된 분위기에서 작동할 수 있는 이 퍼니스는 특히 정밀한 온도 제어와 청결한 환경이 필요한 애플리케이션에 적합합니다. 주요 응용 분야는 다음과 같습니다:
- 결정 성장: 전자 및 반도체 산업에서 중요한 다양한 유형의 결정의 합성 및 성장에 이상적입니다.
- 열처리: 금속 및 합금의 열처리를 통해 경도, 연성, 강도 등의 기계적 특성을 향상시키는 데 사용됩니다.
- 박막 증착: 전자 장치, 태양 전지, 광학 코팅 제조 시 박막 증착에 필수적입니다.
- 재료 과학 연구: 세라믹, 복합재, 첨단 합금을 포함한 신소재 연구를 위해 실험실에서 널리 사용됩니다.
- 야금학: 금속의 정제 및 합금, 내화물 생산에 도움이 됩니다.
- 전자 제품 제조: 어닐링, 소결 및 전자 부품 생산과 같은 공정에 필수적입니다.
- 화학 산업: 고온 화학 반응 및 통제된 분위기에서 화학 물질 합성에 활용됩니다.
- 유리 제조: 특수 유리 생산 및 열처리를 통한 유리 특성 변경에 유용합니다.
- 특수 재료 생산: 항공우주 및 방위산업에 사용되는 것과 같이 독특한 특성을 가진 소재를 만드는 데 관여합니다.
- 학술 및 연구 기관: 첨단 소재 연구 및 개발을 위한 대학 실험실 및 연구 센터의 필수 요소입니다.
세부 사항 및 부품
- 수냉식 재킷이 있는 이중 쉘 구조, 내부 쉘은 스테인리스 스틸로 만들어졌으며 미세하게 연마되었습니다. 하우징은 녹 방지 처리된 고품질 탄소강 또는 패드 블라스팅 처리된 스테인리스 스틸입니다.
- 발열체는 흑연 또는 몰리브덴 와이어를 채택합니다. 가열은 1 상 또는 3 상 가열로 나뉩니다. 발열체의 합리적인 설계는 캐비티 내 온도의 균일 성을 향상시키는 데 도움이됩니다.
- 퍼니스는 전기 제어 시스템을 통해 쉽게 작동 할 수 있습니다. 온도와 압력은 PLC 아날로그로 제어되거나 온도 및 압력 프로그래밍 가능 컨트롤러를 사용하여 소결 공정이 자동으로 완료됩니다. 제어 시스템에는 물 차단, 과온 및 과전류와 같은 경보 및 보호 기능이 있습니다.
원리
진공 튜브 열간 프레스로는 진공 또는 대기 상태에서 재료를 가열하고 가압하는 방식으로 작동합니다. 흑연 또는 몰리브덴 히터와 같은 발열체를 사용하며 단방향 또는 양방향 가압을 적용할 수 있습니다. 이 공정은 원료 입자를 결합하고, 공극을 줄이며, 밀도를 높여 컴팩트한 소결체를 형성합니다. 이 퍼니스는 다양한 산업에 맞게 설계되어 정밀한 열처리와 재료 소결을 보장합니다.
장점
진공 튜브 핫 프레스 퍼니스는 다양한 열처리 공정 및 응용 분야에 탁월한 선택이 될 수 있는 수많은 장점을 제공합니다. 다음은 몇 가지 주요 이점입니다:
- 열처리 공정의 다양성: 이 퍼니스는 광범위한 열처리 공정을 지원하므로 다양한 재료와 산업에 적합합니다. 이러한 다용도성 덕분에 재료 가공의 다양한 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
- 고압 가스 담금질을 통한 고속 사이클: 이 퍼니스는 효율적인 생산에 필수적인 고속 사이클을 용이하게 하도록 설계되었습니다. 고압 가스 담금질 기능은 냉각 공정을 개선하여 사이클 시간을 단축하고 생산성을 높입니다.
- 에너지 및 자원 효율성: 에너지 및 공정 가스의 소비가 적어 환경 친화적이고 비용 효율적입니다. 이러한 효율성은 운영 비용을 절감할 뿐만 아니라 환경 발자국도 최소화합니다.
- 저배출로 환경 친화적입니다: 퍼니스의 설계는 공정 가스의 배출을 최소화하여 환경에 미치는 영향을 최소화하려는 업계에 친환경적인 선택이 될 수 있습니다.
- 단순하고 모듈식 디자인: 퍼니스의 단순한 디자인으로 설치와 유지보수가 용이합니다. 모듈식으로 설계되어 특정 작업과 공장 조건에 맞게 장착 및 조정할 수 있어 최적의 성능을 보장합니다.
- 보장된 품질과 반복 가능한 공정 결과: 이 퍼니스는 보장된 품질과 반복 가능한 공정 결과를 제공하도록 설계되었으며, 이는 정밀도와 일관성이 가장 중요한 산업에 매우 중요합니다.
- 예측 유지보수: 예측 유지보수와 같은 고급 기능은 문제가 확대되기 전에 잠재적인 문제를 식별하여 가동 중단 시간을 최소화하고 장비의 수명을 연장하는 데 도움이 됩니다.
구조 소개
이 전기로는 흑연 가열과 저항선 가열의 두 가지 유형이 있으며, 진공 및 hh 온도 열간 프레스 하에서 금속 분말, 무기 비금속 재료 등을 소결하는 데 적합하며 물론 보호 분위기 하에서 열간 프레스 소결도 수행 할 수 있습니다. 이러한 방식으로 재료의 치밀화를 완료하고 변형을 방지하며 나노 분말의 입자 크기를 억제 할 수 있습니다.
사양 |
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퍼니스 쉘 |
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스토브 측면 |
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발열체 |
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절연 층 |
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진공 시스템 |
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전기 제어 시스템의 주요 회로 |
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특징
- 이중층 SUS304 스테인리스 스틸 진공 챔버 구조, 퍼니스 표면 온도를 유지하기위한 재킷 냉수 순환 냉각 방식
- 이중 기둥지지 구조, 안정적인 유압 프레스 시스템, 압력은 수동 제어 또는 자동 제어, 정확한 압력 조절 및 유지 관리가 가능합니다.
- 열전도율이 낮고 단열 효과가 좋은 고급 단열재로 열을 효과적으로 차단하고 에너지 소비를 줄일 수 있습니다.
- 온도 범위가 넓습니다. 흑연, 몰리브덴, 텅스텐, 유도 가열 등과 같은 다양한 발열체를 선택할 수 있습니다. 온도는 적절한 보호 분위기에서 2800 ℃에 도달 할 수 있으며, 이는 다양한 재료의 열간 프레스 소결에 적응할 수 있습니다;
- 다양한 진공 시스템 구성, 공정에 따라 다른 진공도가 선택됩니다;
- 진공 환경, 불활성 분위기 또는 환원 분위기에서 열간 프레스 소결에 사용할 수있는 충전 및 방전 시스템이 제공됩니다;
- 인간화 된 구성, 수동 작동 및 지능형 작동을 모두 실현할 수 있습니다;
- 하나의 용광로를 다목적 용광로로 단순 진공 또는 대기 소결 용광로로 사용할 수 있습니다;
- 다양한 옵션 기능 유형, 수직 상부 배출, 수직 측면 배출, 단방향 가압, 양방향 가압 등 사용 가능.
기술 사양
작동 온도 | 1500℃ / 2200℃ |
---|---|
발열체 | 몰리브덴/흑연 |
작동 압력 | 10-400T |
프레스 거리 | 100-200mm |
진공 압력 | 6x10-3Pa |
유효 작업 영역 직경 범위 | 90-600mm |
유효 작업 영역 직경 범위 | 120-600mm |
경고
작업자 안전이 가장 중요한 문제입니다! 주의하여 장비를 작동하십시오. 인화성 및 폭발성 또는 독성 가스로 작업하는 것은 매우 위험하므로 작업자는 장비를 시작하기 전에 필요한 모든 예방 조치를 취해야 합니다. 반응기 또는 챔버 내부에서 양압으로 작업하는 것은 위험하므로 작업자는 안전 절차를 엄격히 준수해야 합니다. 특히 진공 상태에서 공기 반응성 물질을 사용하여 작동할 때는 각별한 주의를 기울여야 합니다. 누출은 장치 안으로 공기를 빨아들여 격렬한 반응을 일으킬 수 있습니다.
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FAQ
진공로는 어떤 용도로 사용되나요?
CVD로란?
화학 기상 증착(CVD)은 가열, 플라즈마 여기 또는 빛 방사와 같은 다양한 에너지원을 사용하여 기상 또는 기체-고체 계면에서 기체 또는 증기 화학 물질을 화학적으로 반응시켜 반응기에서 고체 침전물을 형성하는 기술입니다. 화학 반응. 간단히 말해서 두 가지 이상의 기체 상태의 원료를 반응 챔버에 넣은 다음 서로 반응하여 새로운 물질을 형성하고 기판 표면에 증착합니다.
CVD로는 고온 관상로 장치, 가스 제어 장치 및 진공 장치가 있는 하나의 결합된로 시스템으로 복합 재료 준비, 마이크로 전자 공정, 반도체 광전자, 태양 에너지 이용, 광섬유 통신, 초전도체의 실험 및 생산에 널리 사용됩니다. 기술, 보호 코팅 분야.
치과 용광로는 무엇입니까?
랩 프레스란?
진공 핫 프레스 퍼니스의 목적은 무엇입니까?
진공로의 공정은 무엇입니까?
CVD 전기로는 어떻게 작동합니까?
CVD로 시스템은 고온 튜브로 장치, 반응 가스 소스 정밀 제어 장치, 진공 펌프 스테이션 및 해당 조립 부품으로 구성됩니다.
진공 펌프는 반응 튜브에서 공기를 제거하고 반응 튜브 내부에 원치 않는 가스가 없는지 확인한 후 튜브 퍼니스가 반응 튜브를 목표 온도로 가열한 다음 반응 가스 소스 정밀 제어 장치가 다른 도입할 수 있음을 확인합니다. 화학 반응을 위해 로 튜브에 설정된 비율로 가스를 넣으면 화학 기상 증착이 CVD 로에서 형성됩니다.
진공 아크 용융 공정이란 무엇입니까?
펠렛 프레스의 용도는 무엇입니까?
치과 용광로의 다른 유형은 무엇입니까?
실험실에서 유압 프레스의 목적은 무엇입니까?
PECVD 방법이란?
진공 핫 프레스 퍼니스의 장점은 무엇입니까?
진공로에서 사용되는 가스는?
CVD 공정에 사용되는 가스는?
CVD 공정에는 엄청난 가스 소스가 사용될 수 있으며 CVD의 일반적인 화학 반응에는 열분해, 광분해, 환원, 산화, 산화 환원이 포함되므로 이러한 화학 반응에 관련된 가스를 CVD 공정에서 사용할 수 있습니다.
CVD 그래핀 성장을 예로 들면 CVD 공정에 사용되는 가스는 CH4,H2,O2 및 N2입니다.
VAR 진공 아크 재용해로(VAR) Furnace란 무엇입니까?
펠렛 프레스는 어떻게 작동하나요?
치과 용광로의 온도는 무엇입니까?
랩 프레스의 다른 유형은 무엇입니까?
PECVD는 무엇을 위해 사용됩니까?
진공 핫 프레스 퍼니스는 어떻게 작동합니까?
진공로에서 사용되는 발열체는 무엇입니까?
CVD 시스템의 장점은 무엇입니까?
- 필요에 따라 금속막, 비금속막, 다성분 합금막 등 다양한 피막을 생산할 수 있습니다. 동시에 GaN, BP 등 다른 방법으로는 얻기 힘든 고품질 결정을 제조할 수 있다.
- 필름 형성 속도는 빠르며 일반적으로 분당 수 미크론 또는 분당 수백 미크론입니다. LPE(액상 에피택시) 및 MBE(분자선 에피택시)와 같은 다른 필름 제조 방법과 비교할 수 없는 균일한 조성으로 많은 양의 코팅을 동시에 증착할 수 있습니다.
- 작업 조건은 상압 또는 저진공 조건에서 수행되므로 코팅은 회절이 좋으며 복잡한 형상의 작업물을 균일하게 코팅할 수 있어 PVD보다 훨씬 우수합니다.
- 반응 기체, 반응 생성물 및 기질의 상호 확산으로 인해 내마모성 및 부식 방지 필름과 같은 표면 강화 필름을 제조하는 데 중요한 접착 강도가 우수한 코팅을 얻을 수 있습니다.
- 일부 필름은 필름 재료의 녹는점보다 훨씬 낮은 온도에서 성장합니다. 저온 성장 조건에서는 반응 가스와 반응기 벽 및 그 안에 포함된 불순물이 거의 반응하지 않아 순도가 높고 결정성이 좋은 막을 얻을 수 있다.
- 화학 기상 증착은 매끄러운 증착 표면을 얻을 수 있습니다. 이는 LPE와 비교하여 화학적 기상 증착(CVD)이 고포화 상태에서 수행되어 높은 핵 생성 속도, 높은 핵 생성 밀도 및 전체 평면에 균일한 분포로 인해 거시적으로 매끄러운 표면을 생성하기 때문입니다. 동시에 화학 기상 증착에서 분자(원자)의 평균 자유 경로는 LPE보다 훨씬 크므로 분자의 공간 분포가 더 균일하여 매끄러운 증착 표면을 형성하는 데 도움이 됩니다.
- MOS(금속산화물반도체) 및 기타 소자 제조에 필요한 조건인 낮은 Radiation Damage
진공 아크 용해로는 어떻게 작동합니까?
펠릿 프레스를 사용하면 어떤 이점이 있나요?
도자기로의 용도는 무엇입니까?
PECVD의 장점은 무엇입니까?
PECVD는 무엇을 의미합니까?
PECVD는 플라즈마를 이용하여 반응 가스를 활성화하고 기판 표면 또는 표면 공간 근처에서 화학 반응을 촉진하여 고체 막을 생성하는 기술입니다. 플라즈마 화학 기상 증착 기술의 기본 원리는 RF 또는 DC 전기장의 작용하에 소스 가스가 이온화되어 플라즈마를 형성하고 저온 플라즈마를 에너지 원으로 사용하고 적절한 양의 반응 가스가 플라즈마 방전을 이용하여 반응가스를 활성화시켜 화학기상증착을 구현한다.
플라즈마를 발생시키는 방법에 따라 RF 플라즈마, DC 플라즈마 및 마이크로파 플라즈마 CVD 등으로 나눌 수 있습니다.
펠렛 프레스를 선택할 때 고려해야 할 요소는 무엇입니까?
ALD와 PECVD의 차이점은 무엇입니까?
CVD와 PECVD의 차이점은 무엇입니까?
PECVD와 기존 CVD 기술의 차이점은 플라즈마가 화학 기상 증착 공정에 필요한 활성화 에너지를 제공할 수 있는 많은 수의 고에너지 전자를 포함하여 반응 시스템의 에너지 공급 모드를 변경한다는 것입니다. 플라즈마의 전자 온도는 10000K만큼 높기 때문에 전자와 가스 분자 간의 충돌은 반응 가스 분자의 화학 결합 파괴 및 재결합을 촉진하여 더 많은 활성 화학 그룹을 생성하는 반면 전체 반응 시스템은 더 낮은 온도를 유지합니다.
따라서 CVD 공정에 비해 PECVD는 더 낮은 온도에서 동일한 화학 기상 증착 공정을 수행할 수 있습니다.
PECVD와 스퍼터링의 차이점은 무엇입니까?
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열간 프레싱은 소결 및 크리프 공정을 유도하기 위해 고온에서 분말 또는 분말 컴팩트를 형성하는 데 사용되는 고압, 저변형률 분말 야금 공정입니다. 이는 단단하고 부서지기 쉬운 재료를 제조하기 위해 열과 압력을 동시에 적용하는 것을 포함합니다.
진공 흑연로를 공개합니다: 성능, 애플리케이션 및 전문가 인사이트
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