황화납 침출에서 격막 전해조는 Msa 효율을 어떻게 향상시키나요? 화학 루프 최적화

격막 전해조는 양극과 음극 챔버를 물리적으로 분리하여 화학적 단락을 방지함으로써 효율성을 향상시킵니다. 이 영역 사이에 격막을 배치하면 침출제(메탄설폰산 제이철)의 재생이 음극에서 즉시 역전되지 않고 양극에서 발생하도록 보장됩니다.

격막은 용매 재생과 금속 회수를 분리하는 중요한 분리막 역할을 합니다. 이는 비생산적인 반응으로 인한 에너지 낭비를 방지하고 필요한 산화 전위를 유지하며 지속 가능한 폐쇄 루프 순환을 가능하게 합니다.

분리의 메커니즘

이 시스템의 근본적인 이점은 격막으로 알려진 물리적 장벽입니다.

이것은 전해조를 별도의 양극 및 음극 영역으로 나눕니다.

이 분리를 통해 두 개의 반대되는 화학 공정이 동일한 장치 내에서 서로 방해하지 않고 동시에 발생할 수 있습니다.

격막이 없는 일반적인 셀에서는 이온이 전극 사이를 자유롭게 이동합니다.

양극에서 생성된 제이철 이온은 자연스럽게 음극으로 이동합니다.

거기에 도달하면 다시 제이철 이온으로 환원됩니다. 이 "비생산적인 환원"은 전기 에너지를 낭비하고 활성 침출제가 사용되기 전에 고갈시킵니다. 격막은 이러한 이동을 차단합니다.

양극 영역은 산화에 전념합니다.

여기서 메탄설폰산 제이철은 메탄설폰산 제이철로 효율적으로 전환됩니다.

이 제이철 화합물은 다음 주기에서 황화납을 용해하는 데 필요한 강력한 재생 침출제 역할을 합니다.

양극이 용매를 재생하는 동안 음극 영역은 환원에 집중합니다.

이것이 용액에서 금속 납이 회수되는 곳입니다.

격막이 이 영역을 분리하기 때문에 고순도 납은 양극에서 생성된 제이철 이온에 의해 재산화되지 않고 침전될 수 있습니다.

침출 공정이 빠르고 효과적으로 유지되려면 용액이 높은 산화-환원 전위(ORP)를 유지해야 합니다.

격막은 양극액 출력에서 제이철 이온의 농도가 높게 유지되도록 합니다.

이는 시스템을 화학적으로 "충전된" 상태로 유지하여 용액이 침출 탱크로 재순환될 때 지속적인 효율성을 보장합니다.

격막은 화학적 효율성 문제를 해결하지만 엄격한 시스템 균형을 요구합니다.

음극에서의 납 회수율은 양극에서의 제이철 생성율과 균형을 이루어야 합니다.

전체 폐쇄 루프 시스템의 효율성은 격막의 무결성에 달려 있습니다.

장벽이 손상되면 제이철 이온의 비생산적인 환원으로 인해 시스템이 즉시 손상됩니다.

이는 ORP의 급격한 감소와 침출력 손실로 이어집니다.

메탄설폰산 시스템에 격막 전해조를 효과적으로 구현하려면 주요 운영 목표를 고려하십시오.

주요 초점이 침출 속도인 경우: 최대 산화-환원 전위(ORP)를 유지하기 위해 높은 농도의 메탄설폰산 제이철을 생성하는 양극의 능력을 우선시하십시오.
주요 초점이 에너지 효율인 경우: 제이철 이온의 "비생산적인 환원"을 최소화하는 격막의 능력에 집중하여 모든 킬로와트가 재생 또는 금속 회수에 사용되도록 하십시오.
주요 초점이 지속 가능성인 경우: 폐쇄 루프 기능을 활용하여 메탄설폰산 용매를 지속적으로 재활용하여 폐기물 및 화학 물질 소비를 최소화하십시오.

화학 반응을 효과적으로 분리함으로써 격막 셀은 잠재적으로 낭비적인 공정을 긴밀하게 통합된 자체 재생 시스템으로 변환합니다.