원소 분석에 있어서는 X-선 형광(XRF)이 널리 사용됩니다.
그러나 가치 있는 인사이트를 제공할 수 있는 대체 기술도 있습니다.
이러한 대안으로는 광학 방출 분광법(OES)과 레이저 유도 분해 분광법(LIBS)이 있습니다.
OES와 LIBS는 모두 광범위한 시료 준비 없이도 공작물을 분석할 수 있습니다.
하지만 XRF와 비교했을 때 고유한 한계가 있습니다.
XRF의 대안은 무엇일까요? 3가지 주요 기술 설명
1. 광학 방출 분광법(OES)
OES는 여기된 원자가 방출하는 빛을 이용해 물질의 원소 구성을 측정합니다.
원자 번호가 낮은 원소를 검출하는 데 특히 유용합니다.
OES는 정확한 정량 분석을 제공할 수 있습니다.
그러나 OES는 원자를 여기시키기 위해 스파크가 필요합니다.
이 스파크는 시료에 물리적 손상을 일으킬 수 있습니다.
따라서 OES는 비파괴 검사에는 적합하지 않습니다.
2. 레이저 유도 분해 분광법(LIBS)
LIBS는 고출력 레이저 펄스를 사용하여 시료 표면에 마이크로 플라즈마를 생성합니다.
그런 다음 이 마이크로 플라즈마에서 방출되는 빛의 스펙트럼을 분석하여 원소 구성을 결정합니다.
LIBS는 시료를 크게 준비하지 않고도 고체, 액체, 기체를 분석할 수 있다는 장점이 있습니다.
그러나 OES와 마찬가지로 LIBS도 고에너지 레이저 충격으로 인해 시료에 자국이 남을 수 있습니다.
3. X선 형광(XRF)
XRF는 여전히 많은 애플리케이션에서 선호되는 방법입니다.
그 이유는 비파괴적 특성과 광범위한 분석 기능 때문입니다.
XRF는 시료의 물리적 특성을 변경하지 않고 분석할 수 있습니다.
따라서 재료의 무결성을 보존하는 것이 중요한 산업에 이상적입니다.
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