지식 합금 22 시험 중 3전극 전기화학 셀에 고순도 질소를 퍼지하는 주된 목적은 무엇입니까?
작성자 아바타

기술팀 · Kintek Solution

업데이트됨 17 hours ago

합금 22 시험 중 3전극 전기화학 셀에 고순도 질소를 퍼지하는 주된 목적은 무엇입니까?


이 맥락에서 질소 퍼징의 주요 목적은 전해질 용액에서 용존 산소를 적극적으로 제거하는 것입니다. 고순도 질소를 지속적으로 흐르게 함으로써 통기된 용액에서 자연적으로 발생하는 산소 환원 반응을 억제합니다. 산소 제거는 분극 곡선과의 간섭을 방지하기 위해 필수적이며, 데이터가 합금 22 자체의 거동만을 반영하도록 보장합니다.

핵심 요점: 질소 퍼징은 무산소 환경을 조성하여 전기화학 시스템을 분리합니다. 이를 통해 측정된 전류가 용존 산소의 환원이 아닌 금속의 분극 및 표면 반응에만 엄격하게 귀속되도록 보장합니다.

탈기 메커니즘

용존 가스 치환

고순도 질소의 도입은 치환 메커니즘으로 작용합니다. 질소 기포가 용액을 통과하면서 액체에서 용존 산소를 물리적으로 밀어내어 배출될 헤드스페이스로 이동시킵니다.

기준선 설정

이 과정은 테스트를 위한 제어된 기준선을 생성합니다. 전기화학 셀에서 여러 반응 종의 존재는 혼합 전위를 생성합니다. 산소를 제거하면 화학 환경이 단순화되어 연구하려는 상호 작용만 남게 됩니다.

합금 22의 데이터 무결성 보호

반응 간섭 억제

산소는 전기화학적으로 활성입니다. 용액에 남아 있으면 전극 표면에서 산소 환원 반응이 발생합니다. 이 반응은 데이터에 "노이즈"를 추가하는 전류를 생성하여 합금 22 시편에서 나오는 실제 전기화학 신호를 가립니다.

고유 재부동화 평가

합금 22의 경우 종종 재부동화 특성, 즉 손상 후 보호 산화막을 다시 형성하는 능력을 측정하는 것이 목표입니다. 산소 간섭은 이러한 측정을 왜곡합니다. 퍼징은 관찰된 거동이 인가된 분극 및 첨가한 특정 억제제에 의해 엄격하게 제어되도록 보장합니다.

고온 안정성

이 제어는 90°C와 같은 상승된 온도에서 중요해집니다. 이러한 온도에서는 반응 속도가 더 빠르고 오차 범위가 줄어듭니다. 질소 퍼징은 실험 전반에 걸쳐 열역학적 조건이 안정적으로 유지되도록 보장합니다.

피해야 할 일반적인 함정

불완전한 퍼징의 위험

퍼징이 충분히 지속적이거나 격렬하지 않으면 미량의 산소가 남아 있습니다. 이는 비목표 전류 간섭으로 이어져 분극 곡선이 드리프트하거나 잘못된 피크를 표시하게 됩니다.

밀봉 및 역확산

질소 공급이 있더라도 제대로 밀봉되지 않은 셀은 대기 중의 산소가 다시 확산되도록 허용합니다. 퍼지는 테스트 중 대기 재진입을 방지하기 위한 지속적인 양압 시스템이어야 합니다.

실험에 대한 올바른 선택

합금 22 전기화학 데이터의 유효성을 보장하려면 특정 테스트 목표에 따라 다음을 적용하십시오.

  • 재부동화 전위 결정이 주요 초점인 경우: 잠재력을 인가하기 전에 완전히 탈기된 기준선을 보장하기 위해 테스트 시작 훨씬 전에 퍼징을 시작하십시오.
  • 고온 부식 연구가 주요 초점인 경우: 90°C에서의 증가된 운동 활동 및 용해도 변화 가능성을 보상하기 위해 더 높은 질소 유량을 유지하십시오.

엄격한 환경 제어는 재료 성능을 환경 노이즈로부터 분리하는 유일한 방법입니다.

요약 표:

기능 전기화학 테스트에서 질소 퍼징의 역할
주요 목표 탈기 (용존 산소 제거)
화학적 효과 산소 환원 반응 억제
데이터 이점 "노이즈" 및 비목표 전류 간섭 제거
중요 초점 합금 22 재부동화 전위의 정확한 측정
환경 제어 안정적인 기준선을 위한 무산소 환경 조성

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참고문헌

  1. Mauricio Rincón Ortíz, Raúl B. Rebak. Oxyanions as inhibitors of chloride-induced crevice corrosion of Alloy 22. DOI: 10.1016/j.corsci.2012.10.037

이 문서는 다음의 기술 정보도 기반으로 합니다 Kintek Solution 지식 베이스 .

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