실험실 재료는 최적의 속성, 성능 및 품질이 필요한 고급 기술의 연구, 개발 및 생산에 중요한 구성 요소입니다.
KinTek은 금속, 금속 산화물 및 화합물로 구성된 광범위한 고순도 재료를 제공합니다. 순도 99.99% 또는 5N(five nines) 수준의 이 소재는 고품질 자성 및 반도체 소재, 형광체 및 열전 소재 제조와 같은 다양한 응용 분야에 적합합니다.
실험실 재료는 최적의 속성, 성능 및 품질이 필요한 고급 기술의 연구, 개발 및 생산에 중요한 구성 요소입니다.
KinTek은 금속, 금속 산화물 및 화합물로 구성된 광범위한 고순도 재료를 제공합니다. 순도 99.99% 또는 5N(five nines) 수준의 이 소재는 고품질 자성 및 반도체 소재, 형광체 및 열전 소재 제조와 같은 다양한 응용 분야에 적합합니다.
고순도 아연(Zn) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-ZN
고순도 지르코늄(Zr) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-ZR
고순도 하프늄(Hf) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-HF
고순도 레늄(재) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-RE
고순도 이리듐(Ir) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-IR
고순도 이산화규소(SiO2) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-SIO2
고순도 하프늄 산화물(HfO2) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-HfO2
고순도 이산화티타늄(TiO2) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-TiO2
고순도 산화지르코늄(ZrO2) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-ZrO2
고순도 산화텅스텐(WO3) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-WO3
고순도 니오븀 산화물(Nb2O5) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-Nb2O5
고순도 탄탈륨 산화물(Ta2O5) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-Ta2O5
고순도 몰리브덴 산화물(MoO3) 스퍼터링 타겟/분말/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-MoO3
고순도 산화알루미늄(Al2O3) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-Al2O3
고순도 산화아연(ZnO) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-ZnO
고순도 산화마그네슘(MgO) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-MgO
고순도 산화비스무트(Bi2O3) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-Bi2O3
고순도 산화크롬(Cr2O3) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-Cr2O3
고순도 산화니켈(Ni2O3) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-Ni2O3
고순도 산화바나듐(V2O3) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-V2O3
고순도 알루미늄 도핑 산화아연(AZO) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-AZO
고순도 인듐 주석 산화물(ITO) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-ITO
고순도 산화철(Fe3O4) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-Fe3O4
탄탈륨 텅스텐 합금(TaW) 스퍼터링 타겟/분말/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-TaW
티타늄 실리콘 합금(TiSi) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-TiSi
텅스텐 티타늄 합금(WTi) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-WTi
티타늄 니켈은 합금(TiNiAg) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-TiNiAg
리튬 알루미늄 합금(AlLi) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-AlLi
알루미늄 크롬 합금(AlCr) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-AlCr
니켈 크롬 합금(NiCr) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-NiCr
고순도 재료 분야에서 순도는 99%는 2N, 99.5%는 2N5, 99.9%는 3N, 99.95%는 3N5, 99.99%는 4N, 99.995%는 4N5, 99.9999는 6N과 같이 백분율로 표시됩니다. %, 99.99999%의 경우 7N. 예를 들어, 4N-6N은 99.99%에서 99.9999%까지의 순도 수준을 의미합니다.
스퍼터링은 플라즈마 또는 가스의 강력한 입자가 고체 물질의 표면에 충돌하여 미세한 입자가 방출되는 물리적 현상입니다. 이 프로세스는 우주 공간에서 자연적으로 발생하며 정밀 부품에 원치 않는 마모가 발생할 수 있습니다. 그러나 광학 코팅, 반도체 장치 및 나노기술 제품의 제조에서 정확한 에칭, 분석 기술 및 박막층 증착을 수행하기 위해 과학 및 산업에서도 활용됩니다.
스퍼터링 타겟은 다양한 제품의 코팅 생성을 포함하여 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다. 예를 들어, 탄탈룸 스퍼터링 타겟은 현대 전자 제품의 필수 부품 생산에 사용됩니다. 이러한 부품에는 마이크로칩, 메모리 칩, 프린트 헤드, 평판 디스플레이 등이 포함됩니다.
스퍼터링 타겟의 또 다른 중요한 응용 분야는 Low-E 유리라고도 하는 저방사선 코팅 유리의 생산입니다. 이 유형의 유리는 에너지 절약 특성, 빛 제어 기능 및 미적 매력으로 인해 건물 건축에 일반적으로 사용됩니다.
재생 에너지에 대한 수요가 증가함에 따라 스퍼터 코팅 기술은 3세대 박막 태양전지 제조에도 활용됩니다. 이 태양 전지는 스퍼터링 타겟을 사용하여 준비되므로 태양 전지 패널 생산에 필수적인 구성 요소입니다.
우리의 전문 팀이 영업일 기준 1일 이내에 답변을 드릴 것입니다. 언제든지 연락 주시기 바랍니다!
고품질 스퍼터링 타겟을 생산하기 위한 열간 등방성 프레스의 사용과 PVD 스퍼터링 기술의 응용 분야를 살펴봅니다.
이 문서에서는 열간 등방성 프레스 및 고압 열처리와 같은 기술을 중심으로 PVD 스퍼터링 타겟의 제조 및 최적화에 대해 설명합니다.
태양광 생산의 다양한 단계에서 등방성 흑연의 사용과 시장 수요에 대한 개요입니다.
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입자를 크기에 따라 분리하는 과정, 실험실 테스트 체의 종류 등 체의 과학적 원리에 대해 알아보세요. 체질이 다양한 산업과 입자 크기 측정의 정확도에 미치는 영향에 대해 알아보세요.
FTIR(Fourier Transform Infrared) 분광법은 적외선 흡수 스펙트럼을 기반으로 화합물을 식별하고 특성화하는 강력한 분석 기술입니다.
냉간 정수압 프레싱(CIP) 서비스는 매우 높은 압력을 활용하여 제품이나 저온 압축 분말을 멸균합니다. CIP는 복잡한 형상을 생산하고 재료의 최종 밀도를 높이는 데 특히 효과적입니다.
WIP(Warm Isostatic Press)는 열과 압력의 조합을 사용하여 고품질 부품을 만드는 일종의 등압 프레스입니다. WIP 공정에는 유연한 금형 내부에 부품을 배치한 다음 기체 또는 액체 매체로 채우는 작업이 포함됩니다.
등압 프레스는 다양한 산업에서 중요한 역할을 하며 재료 통합 및 제품 생성을 위한 고유한 기능을 제공합니다. 이 강력한 기계는 모든 방향에서 동일한 압력을 가하여 밀도가 균일하고 결함이 적은 제품을 생산합니다. 등방압 프레스는 CIP(Cold Isostatic Press)와 HIP(Hot Isostatic Press)의 두 가지 주요 유형으로 구분됩니다. 각 유형은 서로 다른 조건에서 작동하므로 광범위한 적용이 가능합니다.
CIP(Cold Isostatic Pressing)는 모든 방향에서 분말이 채워진 용기에 균일한 압력을 가하는 분말 압축 기술입니다.
CIP(Cold Isostatic Pressing)는 액체 압력을 사용하여 분말을 압축하여 재료를 가공하는 방법입니다. 이는 금형 가공과 유사하며 파스칼의 법칙을 기반으로 합니다.
Warm Isostatic Pressing(WIP)은 재료의 밀도를 높이고 결함을 줄이는 데 사용되는 고압 기술입니다. 재료를 고압 및 고온에 노출시키는 동시에 불활성 기체를 적용하여 재료를 균일하게 압축합니다.
등방성 프레스는 고성능 소재 및 부품 생산에 사용되는 공정입니다. 재료 또는 부품의 모든 면에 균일한 압력을 가하여 밀도를 균일하게 하고 기계적 특성을 개선합니다.
고품질 지르코니아 수복물을 일관되게 생산하고자 하는 치과 기공소에서는 고품질 소결 오븐에 투자하는 것이 매우 중요합니다.
박막 증착에 사용되는 가장 일반적인 두 가지 기술은 증발 및 스퍼터링입니다.
텅스텐은 고온 용광로에 사용하기에 적합한 여러 특성을 가지고 있습니다.
X선 형광(XRF) 분석에서 시료 준비는 분석의 품질과 효율성 모두에 큰 영향을 미칠 수 있으므로 중요한 단계입니다.
xrf 분석이란 무엇이며 압축된 xrf 펠릿을 만드는 방법, xrf 샘플 준비 과정에서 몇 가지 주의 사항도 있습니다.