실험실 재료는 최적의 속성, 성능 및 품질이 필요한 고급 기술의 연구, 개발 및 생산에 중요한 구성 요소입니다.
KinTek은 금속, 금속 산화물 및 화합물로 구성된 광범위한 고순도 재료를 제공합니다. 순도 99.99% 또는 5N(five nines) 수준의 이 소재는 고품질 자성 및 반도체 소재, 형광체 및 열전 소재 제조와 같은 다양한 응용 분야에 적합합니다.
실험실 재료는 최적의 속성, 성능 및 품질이 필요한 고급 기술의 연구, 개발 및 생산에 중요한 구성 요소입니다.
KinTek은 금속, 금속 산화물 및 화합물로 구성된 광범위한 고순도 재료를 제공합니다. 순도 99.99% 또는 5N(five nines) 수준의 이 소재는 고품질 자성 및 반도체 소재, 형광체 및 열전 소재 제조와 같은 다양한 응용 분야에 적합합니다.
철 갈륨 합금(FeGa) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-FeGa
코발트 텔루라이드(CoTe) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-CoTe
구리 지르코늄 합금(CuZr) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-CuZr
구리 니켈 합금(CuNi) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-CuNi
구리 니켈 인듐 합금(CuNiIn) 스퍼터링 타겟/분말/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-CuNiIn
알루미늄 동합금(AlCu) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-AlCu
코발트 실리사이드(CoSi2) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-CoSi2
지르코늄 실리콘 합금(ZrSi) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-ZrSi
니켈 실리콘 합금(NiSi) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-NiSi
지르코늄은 합금(ZrAg) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-ZrAg
주석 비스무트 은 합금(SnBiAg) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-SnBiAg
크롬 니켈 합금(CrNi) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-CrNi
니켈 알루미늄 합금(NiAl) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-NiAl
니켈 니오븀 합금(NiNb) 스퍼터링 타겟/분말/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-NiNb
철 니켈 합금(FeNi) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-FeNi
망간코발트니켈합금(MnCoNi) Sputtering Target / Powder / Wire / Block / Granule
품목 번호 : LM-MnCoNi
질화붕소(BN) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-BN
질화알루미늄(AlN) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-AlN
질화규소(Si3N4) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-Si3N4
질화티타늄(TiN) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-TiN
탄탈륨 질화물(TaN) 스퍼터링 타겟/분말/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-TaN
황화아연(ZnS) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-ZnS
몰리브덴 황화물(MoS2) 스퍼터링 타겟/분말/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-MoS2
주석 황화물(SnS2) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-SnS2
황화텅스텐(WS2) 스퍼터링 타겟/분말/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-WS2
황화카드뮴(CdS) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-CdS
탄화붕소(B4C) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-B4C
하프늄 카바이드(HfC) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-HfC
텅스텐 카바이드(WC) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-WC
몰리브덴 카바이드(Mo2C) 스퍼터링 타겟/파우더/와이어/블록/과립
품목 번호 : LM-Mo2C
고순도 재료 분야에서 순도는 99%는 2N, 99.5%는 2N5, 99.9%는 3N, 99.95%는 3N5, 99.99%는 4N, 99.995%는 4N5, 99.9999는 6N과 같이 백분율로 표시됩니다. %, 99.99999%의 경우 7N. 예를 들어, 4N-6N은 99.99%에서 99.9999%까지의 순도 수준을 의미합니다.
스퍼터링은 플라즈마 또는 가스의 강력한 입자가 고체 물질의 표면에 충돌하여 미세한 입자가 방출되는 물리적 현상입니다. 이 프로세스는 우주 공간에서 자연적으로 발생하며 정밀 부품에 원치 않는 마모가 발생할 수 있습니다. 그러나 광학 코팅, 반도체 장치 및 나노기술 제품의 제조에서 정확한 에칭, 분석 기술 및 박막층 증착을 수행하기 위해 과학 및 산업에서도 활용됩니다.
스퍼터링 타겟은 다양한 제품의 코팅 생성을 포함하여 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다. 예를 들어, 탄탈룸 스퍼터링 타겟은 현대 전자 제품의 필수 부품 생산에 사용됩니다. 이러한 부품에는 마이크로칩, 메모리 칩, 프린트 헤드, 평판 디스플레이 등이 포함됩니다.
스퍼터링 타겟의 또 다른 중요한 응용 분야는 Low-E 유리라고도 하는 저방사선 코팅 유리의 생산입니다. 이 유형의 유리는 에너지 절약 특성, 빛 제어 기능 및 미적 매력으로 인해 건물 건축에 일반적으로 사용됩니다.
재생 에너지에 대한 수요가 증가함에 따라 스퍼터 코팅 기술은 3세대 박막 태양전지 제조에도 활용됩니다. 이 태양 전지는 스퍼터링 타겟을 사용하여 준비되므로 태양 전지 패널 생산에 필수적인 구성 요소입니다.
우리의 전문 팀이 영업일 기준 1일 이내에 답변을 드릴 것입니다. 언제든지 연락 주시기 바랍니다!
스파크 플라즈마 소결(SPS) 용광로와 그 혁신적인 기술, 그리고 재료 과학 분야의 응용 분야에 대해 자세히 알아보세요. SPS 용광로가 어떻게 고속, 효율성, 정밀성을 통해 소결 공정을 혁신하는지 알아보세요.
전기 도금, 자동차 페인트 및 분체 도장 분야에서 사용되는 휴대용 코팅 두께 측정기의 복잡한 기능을 살펴보세요. 품질 관리와 비용 효율성을 위해 이러한 계측기를 효과적으로 선택하고 사용하는 방법을 알아보세요.
MoSi2 발열체 설치 시 주의사항
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Hot Isostatic Pressing(HIP )은 고온 및 고압에서 재료를 치밀화하는 데 사용되는 기술입니다. 이 공정에는 재료를 밀폐된 용기에 넣은 다음 불활성 기체로 가압하고 고온으로 가열하는 과정이 포함됩니다.
HIP(Hot Isostatic Pressing)는 세라믹 재료의 밀도를 높이고 금속의 다공성을 줄이는 데 중요한 역할을 하는 강력한 제조 공정입니다. 항공우주, 분말야금, 부품 제조 등 다양한 산업 분야에서 널리 활용되고 있습니다.
냉간 정수압 프레싱(CIP) 서비스는 매우 높은 압력을 활용하여 제품이나 저온 압축 분말을 멸균합니다. CIP는 복잡한 형상을 생산하고 재료의 최종 밀도를 높이는 데 특히 효과적입니다.
등압 프레스는 다양한 산업에서 중요한 역할을 하며 재료 통합 및 제품 생성을 위한 고유한 기능을 제공합니다. 이 강력한 기계는 모든 방향에서 동일한 압력을 가하여 밀도가 균일하고 결함이 적은 제품을 생산합니다. 등방압 프레스는 CIP(Cold Isostatic Press)와 HIP(Hot Isostatic Press)의 두 가지 주요 유형으로 구분됩니다. 각 유형은 서로 다른 조건에서 작동하므로 광범위한 적용이 가능합니다.
실험실 프레스는 제약, 재료 과학, 전자공학을 포함한 광범위한 산업 분야의 연구 개발에 필수적인 도구입니다.
CIP(Cold Isostatic Pressing)는 액체 압력을 사용하여 분말을 압축하여 재료를 가공하는 방법입니다. 이는 금형 가공과 유사하며 파스칼의 법칙을 기반으로 합니다.
Warm Isostatic Pressing(WIP)은 재료의 밀도를 높이고 결함을 줄이는 데 사용되는 고압 기술입니다. 재료를 고압 및 고온에 노출시키는 동시에 불활성 기체를 적용하여 재료를 균일하게 압축합니다.
등방성 프레스는 고성능 소재 및 부품 생산에 사용되는 공정입니다. 재료 또는 부품의 모든 면에 균일한 압력을 가하여 밀도를 균일하게 하고 기계적 특성을 개선합니다.
박막 증착에 사용되는 가장 일반적인 두 가지 기술은 증발 및 스퍼터링입니다.
텅스텐은 고온 용광로에 사용하기에 적합한 여러 특성을 가지고 있습니다.