산업용 분쇄 및 연마 시스템은 완전한 광물 해방을 달성하기 위해 휘안석 함유 암석을 미세 슬러리로 기계적으로 분쇄하여 분리 효율을 최적화합니다. 이 물리적 공정은 귀중한 안티몬 광물을 폐석에서 분리하여 후속 공정에 필요한 특정 입자 조건을 생성합니다.
이 시스템의 핵심 기능은 휘안석과 석영 또는 방해석과 같은 맥석에서 안티몬 광물을 완전히 노출시키는 것입니다. 기계적 해방을 통해 이상적인 입자 크기를 설정함으로써 운영자는 부유 선별 과정에서 최종 안티몬 정광의 등급과 회수율을 모두 크게 향상시킵니다.
해방의 역학
효율성이 어떻게 최적화되는지 이해하려면 귀중한 광물과 모암 사이의 물리적 상호 작용을 살펴봐야 합니다.
광물 잠금 해제
안티몬 광물, 특히 휘안석은 종종 모암에 박혀 있습니다. 원시 상태에서 이러한 귀중한 광물은 폐기물 내부에 "잠겨" 있습니다.
분쇄 공정은 이러한 암석을 파쇄하기 위해 기계적 힘을 가합니다. 목표는 휘안석과 맥석을 함께 유지하는 물리적 결합을 끊는 것입니다.
맥석에서 분리
효율성은 시스템이 표적 광물을 석영 또는 방해석과 같은 맥석 광물에서 얼마나 잘 분리하는지에 따라 결정됩니다.
암석이 충분히 연마되지 않으면 안티몬이 폐기물에 부착된 상태로 남습니다. 이러한 기계적 해방은 두 구성 요소가 후기 단계에서 별도의 입자로 취급될 수 있도록 보장합니다.
후속 부유 선별 준비
분쇄 및 연마 단계는 독립적인 단계가 아니라 부유 선별을 용이하게 하기 위해 특별히 설계된 전처리입니다.
이상적인 슬러리 생성
부유 선별 공정은 광물 입자 표면에서 발생하는 화학 반응에 의존합니다. 이를 가능하게 하려면 암석을 미세한 슬러리로 전환해야 합니다.
연마 시스템은 안티몬 광물의 표면적을 늘리기 위해 암석을 분쇄합니다.
입자 크기 최적화
이 맥락에서 "최적화"의 정의는 이상적인 입자 크기 달성을 의미합니다.
입자가 너무 크면 가라앉거나 부유 거품에 부착되지 않을 수 있습니다. 연마 시스템은 회수율을 최대화하는 특정 크기 범위 내에 입자가 있도록 보장합니다.
효율성을 위한 중요 고려 사항
주요 목표는 해방이지만, 결과 정광의 품질이 높도록 하려면 정밀도가 필요합니다.
등급 및 회수율에 미치는 영향
시스템 성공의 궁극적인 척도는 안티몬 정광의 등급 및 회수율입니다.
적절한 연마는 더 높은 회수율과 직접적으로 관련됩니다. 더 접근 가능한 안티몬은 더 적은 귀중한 광물이 꼬리물로 손실됨을 의미합니다.
해방 및 처리 균형
광물의 완전한 노출 달성은 중요하지만, 부유 선별 장비의 요구 사항과 균형을 이루어야 합니다.
시스템은 휘안석을 분리할 만큼 암석을 분쇄해야 하지만, 후속 화학 분리에 필요한 "이상적인 조건"과 일치하는 일관성을 유지해야 합니다.
목표에 맞는 올바른 선택
분쇄 및 연마 회로의 효과는 전체 분리 라인의 성공을 좌우합니다.
- 회수율이 주요 관심사라면: 휘안석이 석영 또는 방해석에 여전히 잠겨 있는 양을 최소화하기 위해 연마 단계에서 최대 해방을 달성하도록 하십시오.
- 정광 등급이 주요 관심사라면: 부유 선별 공정이 귀중한 광석과 맥석을 효율적으로 구별할 수 있도록 정확한 입자 크기 조절을 우선시하십시오.
안티몬 처리의 최적화는 근본적으로 준비에 관한 것입니다. 광물이 자유롭고 크기가 올바르면 화학 작용이 나머지를 처리할 것입니다.
요약 표:
| 최적화 요소 | 공정 영향 | 안티몬 추출 혜택 |
|---|---|---|
| 광물 해방 | 휘안석을 석영/방해석 맥석에서 분리 | 귀중한 광물이 부유 선별에 접근 가능하도록 보장합니다. |
| 입자 크기 조절 | 이상적인 슬러리 일관성 생성 | 거품 부착을 최대화하고 꼬리물에서의 광물 손실을 줄입니다. |
| 표면적 | 표적 광물의 노출 증가 | 후속 공정 중 화학 반응 효율을 향상시킵니다. |
| 회로 정밀도 | 연마 강도 균형 | 최종 정광 등급과 전체 회수율을 모두 향상시킵니다. |
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