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고순도 에르븀(Er) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

실험실 재료

고순도 에르븀(Er) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

품목 번호 : LM-ER

가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의


화학식
~이다
청정
3n
모양
디스크/와이어/블록/파우더/플레이트/칼럼 타겟/스텝 타겟/주문제작
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실험실용 Erbium(Er) 재료를 저렴한 가격에 제공합니다. 당사의 전문성은 특정 요구 사항을 충족하기 위해 다양한 순도, 모양 및 크기의 Erbium(Er) 재료를 생산하고 맞춤화하는 데 있습니다.

스퍼터링 타겟(원형, 정사각형, 관형, 불규칙), 코팅 재료, 실린더, 콘, 입자, 포일, 분말, 3D 프린팅 분말, 나노미터 분말, 선재, 잉곳, 블록 및 더.

세부

에르븀(Er) 스퍼터링 타겟
에르븀(Er) 스퍼터링 타겟
에르븀(Er) 스퍼터링 타겟
에르븀(Er) 스퍼터링 타겟
에르븀(Er) 블록
에르븀(Er) 블록
에르븀(Er) 블록
에르븀(Er) 블록
에르븀(Er) 블록
에르븀(Er) 블록
에르븀(Er) 블록
에르븀(Er) 블록

에르븀(Er)에 대하여

에르븀은 재료 과학 분야에서 다양한 용도로 사용되는 다재다능한 재료입니다. 이 희토류 원소는 일반적으로 유리 착색에 사용되며 변색 불순물을 중화할 수 있어 안경 및 장식용 유리 제품에 유용합니다. 에르븀은 또한 1.55미크론의 파장에서 데이터 전송을 위한 증폭기 역할을 하는 광섬유의 중요한 구성 요소입니다. 또한 어븀은 의료 및 치과 시술용 레이저에 사용됩니다.

Er:YAG를 기반으로 하는 레이저는 조직에 열 축적 없이 에너지를 전달할 수 있어 외과용으로 이상적입니다. 에르븀은 고순도(99.999%) 에르븀(Er) 스퍼터링 타겟, 고순도(99.999%) 에르븀 산화물(Er2O3) 분말 및 펠릿, 막대, 와이어 및 과립. 산화 에르븀은 일반적으로 광학 코팅 및 박막 응용 분야에 사용되는 반면, 플루오르화 에르븀은 야금, 화학 및 물리적 기상 증착, 일부 광학 코팅에 유용합니다. 에르븀은 염화물, 질산염 및 아세테이트를 포함한 용해성 형태로도 제공되며 특정 화학양론에서 용액으로 제조할 수 있습니다.

성분 품질 관리

원료 조성 분석
ICP 및 GDMS와 같은 장비를 사용하여 금속 불순물의 함량을 검출하고 분석하여 순도 표준을 충족하는지 확인합니다.

비금속 불순물은 탄소 및 황 분석기, 질소 및 산소 분석기와 같은 장비로 검출됩니다.
금속학적 결함 검출 분석
제품 내부에 결함이나 수축 구멍이 없는지 확인하기 위해 결함 탐지 장비를 사용하여 대상 재료를 검사합니다.

금속 조직 검사를 통해 대상 물질의 내부 입자 구조를 분석하여 입자가 미세하고 조밀한지 확인합니다.
외관 및 치수 검사
제품 치수는 도면 준수를 보장하기 위해 마이크로미터와 정밀 캘리퍼를 사용하여 측정됩니다.

제품의 표면조도 및 청정도는 표면청정도계를 사용하여 측정합니다.

기존의 스퍼터링 타겟 크기

준비 과정
열간 정수압 압축, 진공 용해 등
스퍼터링 타겟 형상
평면 스퍼터링 타겟, 다중 아크 스퍼터링 타겟, 스텝 스퍼터링 타겟, 특수 형상 스퍼터링 타겟
원형 스퍼터링 타겟 크기
직경: 25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
두께: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
크기는 사용자 정의 할 수 있습니다.
정사각형 스퍼터링 타겟 크기
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, 사이즈 주문제작 가능

사용 가능한 금속 형태

금속 형태 세부사항

주기율표에 나열된 거의 모든 금속을 다양한 형태와 순도, 표준 크기 및 치수로 제조합니다. 또한 크기, 모양, 표면적, 구성 등 특정 고객 요구 사항을 충족하는 맞춤형 제품을 생산할 수 있습니다. 다음 목록은 우리가 제공하는 양식의 샘플을 제공하지만 완전하지는 않습니다. 실험실 소모품이 필요한 경우 당사에 직접 연락하여 견적을 요청하십시오.

  • 평면/평면 형태: 보드, 필름, 호일, 마이크로호일, 마이크로리프, 종이, 플레이트, 리본, 시트, 스트립, 테이프, 웨이퍼
  • 미리 형성된 모양: 양극, 공, 밴드, 바, 보트, 볼트, 연탄, 음극, 원, 코일, 도가니, 크리스탈, 큐브, 컵, 실린더, 디스크, 전극, 섬유, 필라멘트, 플랜지, 그리드, 렌즈, 맨드릴, 너트 , 부품, 프리즘, 퍽, 링, 막대, 모양, 실드, 슬리브, 스프링, 사각형, 스퍼터링 타겟, 스틱, 튜브, 와셔, 창, 전선
  • Microsizes: 구슬, 비트, 캡슐, 칩, 동전, 먼지, 플레이크, 곡물, 과립, 미세 분말, 바늘, 입자, 자갈, 펠렛, 핀, 알약, 분말, 부스러기, 샷, 민달팽이, 구체, 정제
  • 거대 크기: 빌릿, 청크, 절단, 조각, 잉곳, 덩어리, 너겟, 조각, 펀칭, 암석, 스크랩, 세그먼트, 터닝
  • 다공성 및 반다공성: 패브릭, 폼, 거즈, 벌집, 메쉬, 스폰지, 양모
  • 나노스케일: 나노입자, 나노분말, 나노포일, 나노튜브, 나노막대, 나노프리즘
  • 기타: 농축물, 잉크, 페이스트, 침전물, 잔류물, 샘플, 표본

KinTek은 순도 범위가 99.999%(5N), 99.9999%(6N), 99.99995%(6N5), 경우에 따라 최대 99.99999%(7N)인 고순도 및 초고순도 재료 제조를 전문으로 합니다. ). 당사의 재료는 UP/UHP, 반도체, 전자, 증착, 광섬유 및 MBE 등급을 포함한 특정 등급으로 제공됩니다. 당사의 고순도 금속, 산화물 및 화합물은 첨단 기술 응용 분야의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 특별히 제작되었으며 박막 증착, 반도체의 결정 성장 및 나노 물질 합성을 위한 도펀트 및 전구체 재료로 사용하기에 이상적입니다. 이러한 재료는 첨단 마이크로 전자공학, 태양 전지, 연료 전지, 광학 재료 및 기타 최첨단 응용 분야에서 사용됩니다.

포장

고순도 소재는 진공 포장을 사용하며, 각 소재의 고유한 특성에 맞는 특정 포장을 사용합니다. 예를 들어, 당사의 Hf 스퍼터 타겟은 효율적인 식별 및 품질 관리를 용이하게 하기 위해 외부 태그 및 레이블이 지정됩니다. 보관 또는 운송 중 발생할 수 있는 손상을 방지하기 위해 세심한 주의를 기울이고 있습니다.

이 제품에 대한 더 많은 FAQ 보기

4.9

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5

The Erbium sputtering target from KINTEK SOLUTION is a must-have for our laboratory. It's highly pure and produces consistent, high-quality thin films. We've seen a significant improvement in our research output since using it.

Haruka Miyamoto

4.8

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As a lab manager, I'm always looking for ways to improve our efficiency and accuracy. KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target has been a game-changer for us. It's incredibly precise and has helped us reduce our production time significantly.

Dr. Carlos Silva

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The quality and purity of KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target are truly impressive. Our thin films have never looked better, and we've experienced a noticeable increase in their durability. Highly recommended!

Herr Friedrich Schmidt

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The Erbium sputtering target from KINTEK SOLUTION has exceeded our expectations. It's incredibly versatile and has allowed us to explore a wider range of applications in our research. A fantastic investment for any laboratory.

Sra. Maria Rodriguez

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KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target has revolutionized our thin film deposition process. Its exceptional purity and uniformity have resulted in remarkable improvements in the quality and performance of our devices. Highly satisfied!

Mr. Liam O'Connor

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As a lab manager, I'm constantly seeking cost-effective solutions that don't compromise on quality. KINTEK SOLUTION's Erbium sputtering target fits the bill perfectly. It's not only affordable but also delivers exceptional results. Highly impressed!

Dr. Amina Patel

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Mr. Chen Li

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Sra. Sofia Martinez

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The Erbium sputtering target from KINTEK SOLUTION has been a game-changer for our thin film deposition experiments. Its superior purity and uniformity have resulted in remarkably improved film quality and enhanced device performance. Highly satisfied!

Herr Hans Meyer

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Mr. Kim Jun-ho

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