실험실에서 사용되는 분석 기술에는 특정 분석 유형과 시료 특성에 적합한 다양한 방법이 있습니다. 이러한 기술은 크게 원소 분석, 입자 크기 분석, 분광학을 위한 시료 준비로 분류할 수 있습니다.
원소 분석:
실험실에서는 종종 작업물의 직접적인 원소 분석을 위해 광학 방출 분광법(OES) 및 레이저 유도 분해 분광법(LIBS)과 같은 기술을 사용합니다. 이러한 방법은 광범위한 시료 전처리가 필요하지 않지만 벤치탑 XRF 분광법에 비해 분석 기능에 한계가 있습니다. 또한 공작물에 눈에 보이는 자국이 남을 수 있어 편리함에도 불구하고 단점이 될 수 있습니다.입자 크기 분석:
입자 크기와 분포를 측정하는 것은 많은 분석 및 산업 공정에서 매우 중요합니다. 일반적인 방법으로는 체 분석, 직접 이미지 분석(정적 및 동적 모두), 정적 광 산란(SLS) 및 동적 광 산란(DLS)이 있습니다. 예를 들어, 체 분석은 125mm에서 20μm에 이르는 고체 입자를 측정할 수 있는 전통적인 방법입니다. 이 방법은 수많은 국내 및 국제 표준에 명시되어 있으며, 필요한 체 크기, 시료 크기, 테스트 시간 및 예상 결과를 자세히 설명합니다.
분광법을 위한 샘플 준비:
푸리에 변환 적외선 분광법(FTIR) 및 X-선 형광법(XRF)과 같은 분광 분석의 경우 시료 준비가 필수적입니다. 압축 펠릿 기법과 같은 기술에는 소량의 잘게 분쇄된 고체 시료를 브롬화 칼륨과 혼합한 후 유압 프레스를 사용하여 얇고 투명한 펠릿으로 압축하는 과정이 포함됩니다. 이 준비 과정을 통해 시료의 물리적 형태의 간섭 없이 시료를 분석할 수 있습니다.
장비 및 재료:
