제어 대기 처리 시스템은 챔버 내에서 정밀한 환경 조건을 유지하도록 설계된 정교한 설정입니다.
이 시스템은 주로 화학 기상 증착(CVD), 개질 화학 기상 증착(MPCVD) 및 기타 첨단 제조 공정에 사용됩니다.
가스 구성, 온도, 진공 압력을 모두 특정 파라미터 내에서 제어하여 재료 합성 또는 가공에서 최적의 결과를 얻을 수 있도록 합니다.
4가지 핵심 사항을 설명합니다: 제어 대기 처리 시스템이 필수적인 이유는 무엇인가요?
1. 조성, 온도, 진공 압력의 동시 제어
가스 조성 제어: 이 시스템은 각 공기 흡입구에서 가스 질량 유량 컨트롤러를 사용하여 챔버로 유입되는 가스의 구성을 정밀하게 조절합니다.
이를 통해 가스 혼합이 일관되고 정확하게 유지되며, 이는 가스 구성이 증착 재료의 품질에 직접적인 영향을 미치는 CVD 및 MPCVD와 같은 공정에 매우 중요합니다.
온도 제어: 온도와 진공 압력을 모두 관리하기 위해 듀얼 채널 24비트 고정밀 PID 컨트롤러가 사용됩니다.
한 채널은 온도를 제어하여 챔버가 공정에 필요한 정확한 온도를 유지하도록 하며, 이는 화학 반응이 올바르게 일어나는 데 필수적입니다.
진공 압력 제어: PID 컨트롤러의 다른 채널은 진공 압력을 관리합니다.
이 제어는 가스 흐름 속도와 증착 공정의 효율에 영향을 미치기 때문에 필수적입니다. 이 시스템은 정확한 진공 수준을 유지함으로써 공정이 제어되고 효율적인 방식으로 진행되도록 보장합니다.
2. 진공 및 압력 제어 시스템
펌핑 시스템: 이 시스템에는 건식 펌프와 분자 펌프의 조합이 포함됩니다.
건식 펌프는 초기 거친 진공 생성에 사용되어 오일 기반 펌프로 인한 오염을 방지합니다. 압력이 충분히 낮아지면 분자 펌프가 대신하여 높은 진공 수준을 달성합니다.
이 이중 펌프 시스템은 챔버에 오염 물질이 없도록 보장하고 공정에 필요한 진공을 유지합니다.
밸브 제어: 가스의 흐름과 펌핑 순서를 제어하기 위해 다양한 밸브가 사용됩니다.
이러한 밸브는 서로 다른 진공 레벨 간의 전환을 원활하게 제어하여 공정의 무결성을 유지하는 데 매우 중요합니다.
3. 열 관리 시스템
온도 조절: 열 관리 시스템은 챔버 내에서 정확한 온도를 유지하는 역할을 합니다.
이는 챔버에 공급되는 열을 조절하여 달성됩니다. 온도 편차는 공정의 품질과 타이밍에 영향을 미칠 수 있으므로 적절한 온도 제어는 필수적입니다.
4. 다운스트림 제어 모드
가스 흐름 제어: CVD 및 MPCVD와 같은 공정에서는 유입구에서 가스 질량 유량 컨트롤러를 사용하여 가스 유량을 정밀하게 제어합니다.
이를 통해 챔버 내의 가스 조성을 정확하게 유지할 수 있습니다.
진공 압력 제어: 다운스트림 제어 모드에서는 진공 펌프의 펌프 속도를 조정하여 진공 압력을 빠르고 정확하게 제어할 수 있습니다.
이 방법은 압력 조정 중에 챔버 내의 가스 구성이 영향을 받지 않도록 보장합니다.
요약하면, 제어식 대기 처리 시스템은 첨단 제조 공정을 위해 챔버 내에서 정밀한 환경 조건을 유지하도록 설계된 복잡한 구성 요소의 집합체입니다.
가스 조성, 온도 및 진공 압력이 모두 정확한 표준에 따라 제어되도록 보장하며, 이는 CVD 및 MPCVD와 같은 공정에서 고품질 결과를 달성하는 데 매우 중요합니다.
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