CVD 및 PECVD 전기로
고객 맞춤형 다용도 CVD 튜브로 화학 기상 증착 챔버 시스템 장비
품목 번호 : KT-CTF16
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 최고 온도
- 1600 ℃
- 일정한 작업 온도
- 1550 ℃
- 로 튜브 직경
- 60 mm
- 가열 구역
- 3x300 mm
- 가열 속도
- 0-10 ℃/min
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소개
CVD 튜브 퍼니스는 화학 기상 증착(CVD) 공정에 사용되는 고온 퍼니스입니다. 정밀한 온도 제어를 위한 다중 가열 구역, CVD 공정을 위한 진공 환경을 조성하는 고진공 펌프, 퍼니스 튜브에 가스를 혼합하고 주입하는 질량 유량 제어 스테이션을 갖추고 있습니다. 퍼니스는 최대 1200°C까지 도달할 수 있으며 궁극적인 진공율은 10^-7 torr입니다. 반도체 산업에서 절연 재료, 금속 재료, 금속 합금 재료를 포함한 다양한 재료의 얇은 필름을 증착하는 데 일반적으로 사용됩니다.
응용 분야
다중 구역 CVD 튜브 퍼니스는 다음과 같은 다양한 연구 및 산업 응용 분야에서 널리 사용됩니다.
- 나노 물질 합성: CVD 튜브 퍼니스는 고유한 특성을 가진 첨단 재료 개발에 중요한 나노 와이어 성장 및 나노 필름 준비에 이상적입니다.
- 코팅 기술: 다양한 재료의 표면 특성을 향상시키는 데 필수적인 금속 필름, 세라믹 필름 및 복합 필름 증착에 널리 사용됩니다.
- 배터리 재료 처리: 퍼니스는 고성능 에너지 저장 장치 생산의 중요한 단계인 배터리 재료의 건조 및 소결에 적합합니다.
- 고온 소결: 재료의 밀집화에 필요한 고온 분위기 소결 및 분위기 환원 공정에 사용됩니다.
- 진공 코팅: 퍼니스의 고진공 기능은 코팅의 순도와 품질이 가장 중요한 진공 코팅 응용 분야에 완벽합니다.
- 연구 개발: 대학 및 과학 연구 기관은 CVD/CVI(화학 기상 침투) 연구를 포함한 재료 과학 분야의 광범위한 실험에 이 장비를 사용합니다.
- 산업 응용 분야: 산업 환경에서 CVD 튜브 퍼니스는 반도체 산업과 같이 정밀한 온도 제어 및 가스 관리가 필요한 공정에 사용됩니다.
- 플라즈마 세척 및 에칭: 장비의 다용성 덕분에 증착 전에 기판을 준비하는 데 필수적인 플라즈마 세척 및 에칭 기능을 확장할 수 있습니다.
특징
CVD 튜브 퍼니스는 연구 및 산업의 다양한 응용 분야에 이상적인 다용도 고성능 퍼니스입니다. 고급 기능과 성능을 통해 이 퍼니스는 작업에서 최상의 결과를 얻는 데 도움이 될 수 있습니다.
- 다중 구역 온도 제어: 이 퍼니스는 다중 구역 온도 제어 기능을 갖추고 있어 퍼니스의 다른 구역에서 온도를 정밀하게 제어할 수 있습니다. 특정 온도 프로파일 또는 기울기를 생성해야 하는 응용 분야에 필수적입니다.
- 고온 성능: 이 퍼니스는 최대 1200°C까지 도달할 수 있어 광범위한 응용 분야에 이상적입니다. 이러한 고온 성능 덕분에 CVD, 확산 및 기타 열처리와 같은 까다로운 공정을 수행할 수 있습니다.
- 진공 또는 분위기 보호: 이 퍼니스는 진공 또는 분위기 보호 하에서 사용할 수 있어 다양한 응용 분야에 적합합니다. 이러한 다용성 덕분에 특정 분위기 또는 진공 환경이 필요한 공정을 수행할 수 있습니다.
- 사용하기 쉬움: 사용자 친화적인 인터페이스와 직관적인 컨트롤을 갖춘 이 퍼니스는 사용하기 쉽습니다. 경험이 제한적인 사용자도 퍼니스를 쉽게 설정하고 작동할 수 있습니다.
- 컴팩트한 디자인: 이 퍼니스는 컴팩트하고 가벼워 다양한 공간에 쉽게 설치하고 사용할 수 있습니다. 이러한 컴팩트한 디자인 덕분에 실험실 및 기타 공간이 제한된 환경에 이상적입니다.
원리
화학 기상 증착(CVD)은 기체 상에서 고체 물질을 기판에 증착하는 박막 증착 기술입니다. 기판은 고온으로 가열되고, 원하는 물질을 포함하는 가스가 챔버에 도입됩니다. 가스는 기판과 반응하고, 원하는 물질이 표면에 증착됩니다.
CVD 튜브 퍼니스는 CVD 공정에 사용됩니다. 퍼니스는 일반적으로 석영 또는 알루미나로 만들어진 가열 튜브로 구성됩니다. 기판은 튜브 내부에 배치되고 가스는 튜브에 도입됩니다. 가스는 튜브를 통해 흐르고 기판과 반응하여 원하는 물질을 표면에 증착합니다.
CVD 튜브 퍼니스는 금속, 산화물, 질화물, 탄화물을 포함한 다양한 물질을 증착하는 데 사용할 수 있습니다. 이 공정은 반도체, 태양 전지 및 기타 전자 장치 제조에 사용됩니다.
다양한 온도 및 설정의 CVD 시스템 사용 가능
원리
CVD 튜브 퍼니스는 화학 기상 증착 원리로 작동하며, 고진공 시스템과 정밀한 질량 유량 제어기를 사용하여 제어된 조건에서 다양한 필름의 증착을 촉진합니다. 고속 증착을 위해 무선 주파수 글로우 기술과 균일한 필름 분포를 위한 고급 가열 기술을 사용합니다.
장점
- 높은 온도 균일성: 다중 구역 설계는 퍼니스 전체에 온도가 고르게 분포되도록 보장하며, 이는 CVD 공정에 중요합니다.
- 정밀한 온도 제어: 디지털 온도 컨트롤러는 퍼니스 온도를 정밀하게 제어할 수 있어 반복 가능하고 신뢰할 수 있는 결과를 얻는 데 필수적입니다.
- 고진공 성능: 10^-7 torr의 궁극적인 진공율은 반응 챔버에서 오염 물질을 제거할 수 있도록 하여 고품질 CVD 필름에 필요합니다.
- 사용하기 쉬움: 사용자 친화적인 인터페이스 덕분에 경험이 없는 사용자도 퍼니스를 쉽게 작동할 수 있습니다.
- 다용도: 이 퍼니스는 금속 증착, 반도체 처리, 탄소 나노튜브 합성 등 다양한 CVD 공정에 사용할 수 있습니다.
- 컴팩트한 디자인: 퍼니스의 컴팩트한 디자인은 공간이 제한된 실험실에 이상적입니다.
- 저렴함: 퍼니스는 경쟁력 있는 가격으로 제공되어 가격 대비 훌륭한 가치를 제공합니다.
기술 사양
| 퍼니스 모델 | KT-CTF16-60 |
|---|---|
| 최대 온도 | 1600℃ |
| 일정한 작업 온도 | 1550℃ |
| 퍼니스 튜브 재질 | 고순도 Al2O3 튜브 |
| 퍼니스 튜브 직경 | 60mm |
| 가열 구역 | 3x300mm |
| 챔버 재질 | 알루미나 다결정 섬유 |
| 가열 요소 | 탄화 규소 |
| 가열 속도 | 0-10℃/분 |
| 열전대 | S형 |
| 온도 컨트롤러 | 디지털 PID 컨트롤러/터치스크린 PID 컨트롤러 |
| 온도 제어 정확도 | ±1℃ |
| 가스 정밀 제어 장치 | |
| 유량계 | MFC 질량 유량계 |
| 가스 채널 | 3채널 |
| 유량 | MFC1: 0-5SCCM O2 MFC2: 0-20SCMCH4 MFC3: 0- 100SCCM H2 MFC4: 0-500 SCCM N2 |
| 선형성 | ±0.5% F.S. |
| 반복성 | ±0.2% F.S. |
| 배관 및 밸브 | 스테인리스 스틸 |
| 최대 작동 압력 | 0.45MPa |
| 유량계 컨트롤러 | 디지털 노브 컨트롤러/터치스크린 컨트롤러 |
| 표준 진공 장치(선택 사항) | |
| 진공 펌프 | 회전식 베인 진공 펌프 |
| 펌프 유량 | 4L/S |
| 진공 흡입구 | KF25 |
| 진공 게이지 | 피라니/저항 실리콘 진공 게이지 |
| 정격 진공 압력 | 10Pa |
| 고진공 장치(선택 사항) | |
| 진공 펌프 | 회전식 베인 펌프 + 분자 펌프 |
| 펌프 유량 | 4L/S+110L/S |
| 진공 흡입구 | KF25 |
| 진공 게이지 | 복합 진공 게이지 |
| 정격 진공 압력 | 6x10-5Pa |
| 위 사양 및 설정은 맞춤 설정 가능 | |
표준 패키지
| 번호 | 설명 | 수량 |
|---|---|---|
| 1 | 퍼니스 | 1 |
| 2 | 석영 튜브 | 1 |
| 3 | 진공 플랜지 | 2 |
| 4 | 튜브 열 블록 | 2 |
| 5 | 튜브 열 블록 후크 | 1 |
| 6 | 내열 장갑 | 1 |
| 7 | 정밀 가스 제어 | 1 |
| 8 | 진공 장치 | 1 |
| 9 | 작동 설명서 | 1 |
선택 설정
- H2, O2 등 튜브 내 가스 감지 및 모니터링
- 독립적인 퍼니스 온도 모니터링 및 기록
- PC 원격 제어 및 데이터 내보내기를 위한 RS 485 통신 포트
- 질량 유량계 및 부유 유량계와 같은 삽입 가스 공급 유량 제어
- 다양한 사용자 친화적인 기능을 갖춘 터치스크린 온도 컨트롤러
- 베인 진공 펌프, 분자 펌프, 확산 펌프와 같은 고진공 펌프 스테이션 설정
경고
작업자 안전이 가장 중요한 문제입니다! 주의하여 장비를 작동하십시오. 인화성 및 폭발성 또는 독성 가스로 작업하는 것은 매우 위험하므로 작업자는 장비를 시작하기 전에 필요한 모든 예방 조치를 취해야 합니다. 반응기 또는 챔버 내부에서 양압으로 작업하는 것은 위험하므로 작업자는 안전 절차를 엄격히 준수해야 합니다. 특히 진공 상태에서 공기 반응성 물질을 사용하여 작동할 때는 각별한 주의를 기울여야 합니다. 누출은 장치 안으로 공기를 빨아들여 격렬한 반응을 일으킬 수 있습니다.
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