스퍼터링은 1852년 윌리엄 로버트 그로브에 의해 처음 관찰되고 연구되었습니다. Grove는 와이어 끝을 코팅 소스로 사용하여 약 0.5 Torr의 압력으로 고광택 은 표면에 증착물을 스퍼터링하는 실험을 수행했습니다. 이 현상을 연구한 것은 그로브가 처음이지만, 그 이전에도 글로우 방전을 조사하여 이 현상을 관찰한 사람들이 있었습니다.
스퍼터링 과정은 고에너지 입자에 의한 충격으로 인해 물질 표면에서 원자 또는 분자가 방출되는 것을 포함합니다. 이 기술은 1940년대까지 과학적 호기심으로 남아 있다가 특히 다이오드 스퍼터링과 함께 코팅 공정으로 상업적으로 사용되기 시작했습니다. 그러나 다이오드 스퍼터링은 낮은 증착률과 높은 비용 등의 한계가 있었습니다. 이러한 문제로 인해 1970년대 중반에 마그네트론 스퍼터링이 개발되었는데, 이는 이전의 방법을 개선한 자기적으로 강화된 변형 방식입니다.
스퍼터링은 1850년대에 처음 관찰된 이후 크게 발전했습니다. 다양한 박막 재료를 증착하는 성숙한 접근 방식으로 자리 잡았으며 거울과 패키징 재료의 반사 코팅부터 첨단 반도체 장치에 이르기까지 다양한 응용 분야를 발견했습니다. 이 기술은 1976년 이후 스퍼터링과 관련된 미국 특허가 45,000건 이상 출원되는 등 계속 발전해 왔으며, 재료 과학 및 기술 분야에서 그 중요성을 강조하고 있습니다.
스퍼터링의 발명은 1852년 윌리엄 로버트 그로브가 이 공정을 처음 연구하고 시연했을 때로 거슬러 올라갑니다. 그 이후로 스퍼터링은 상당한 발전을 거듭하여 현재는 다용도성과 스퍼터링 기술의 발전으로 인해 다양한 산업 분야에서 널리 사용되는 기술이 되었습니다.
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