실험실 재료
고순도 루테튬(Lu) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립
품목 번호 : LM-LU
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 specs and customizations
- 화학식
- 루
- 청정
- 3n
- 모양
- 디스크/와이어/블록/파우더/플레이트/칼럼 타겟/스텝 타겟/주문제작
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경쟁력 있는 가격으로 실험실 등급 루테튬(Lu) 재료를 제공하게 된 것을 기쁘게 생각합니다. 당사의 강점은 특정 요구 사항을 충족하도록 맞춤화된 다양한 순도, 모양 및 크기의 루테튬(Lu) 재료의 생산 및 맞춤화에 있습니다.
당사는 다양한 스퍼터링 타겟(원형, 정사각형, 관형, 불규칙), 코팅 재료, 실린더, 콘, 입자, 포일, 분말, 3D 프린팅 분말, 나노미터 분말, 선재, 잉곳, 블록 및 선택할 수 있는 기타 사양을 제공합니다. 에서.
세부
루테튬(Lu)에 대하여
루테튬은 고유한 특성으로 인해 재료 과학 분야에서 중요한 재료입니다. 주목할만한 특성 중 하나는 밀도가 높아서 탄탈산 루테튬을 x선 인광체에 이상적인 호스트로 만듭니다. 또한, 루테튬은 특정 기판 석류석 결정의 격자 매개변수를 일치시키는 도펀트로 사용됩니다.
루테튬은 고순도 스퍼터링 타겟, 금속 및 순도 99% ~ 99.999% 범위의 화합물을 포함하여 다양한 형태로 제공됩니다. 고순도 루테튬 산화물 분말은 증발 소스 재료 목적을 위한 펠릿, 로드, 와이어 및 과립과 같은 원소 또는 금속 형태로도 제공됩니다.
또한 산화 루테튬은 광학 코팅 및 박막 적용을 위해 분말 및 고밀도 펠릿 형태로 제공됩니다. 루테튬의 또 다른 불용성 형태인 플루오르화 루테튬은 야금, 화학적 및 물리적 기상 증착, 일부 광학 코팅에도 사용됩니다.
마지막으로 루테튬은 특정 화학양론에서 염화물, 질산염 및 아세테이트와 같은 용해성 화합물로 제조될 수 있습니다.
FAQ
물리적 기상 증착(PVD)이란 무엇입니까?
스퍼터링 타겟이란?
고순도 재료란?
마그네트론 스퍼터링이란 무엇입니까?
고순도 금속이란?
스퍼터링 타겟은 어떻게 만들어지나요?
왜 마그네트론 스퍼터링인가?
고순도 금속은 무엇에 사용됩니까?
스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?
박막 증착에 사용되는 재료는 무엇입니까?
박막 증착은 일반적으로 금속, 산화물 및 화합물을 재료로 사용하며 각각 고유한 장점과 단점이 있습니다. 금속은 내구성과 증착 용이성 때문에 선호되지만 상대적으로 비쌉니다. 산화물은 내구성이 뛰어나고 고온을 견딜 수 있으며 저온에서 증착될 수 있지만 부서지기 쉽고 작업하기 어려울 수 있습니다. 화합물은 강도와 내구성을 제공하고 저온에서 증착될 수 있으며 특정 특성을 나타내도록 조정될 수 있습니다.
박막 코팅을 위한 재료 선택은 적용 요건에 따라 다릅니다. 금속은 열 및 전기 전도에 이상적이며 산화물은 보호 기능을 제공하는 데 효과적입니다. 컴파운드는 특정 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. 궁극적으로 특정 프로젝트에 가장 적합한 재료는 응용 프로그램의 특정 요구 사항에 따라 달라집니다.
전자 제품용 스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?
최적의 박막 증착을 달성하는 방법은 무엇입니까?
원하는 특성을 가진 박막을 얻기 위해서는 고품질 스퍼터링 타겟과 증발 재료가 필수적입니다. 이러한 재료의 품질은 순도, 입자 크기 및 표면 상태와 같은 다양한 요인에 의해 영향을 받을 수 있습니다.
스퍼터링 타겟 또는 증발 재료의 순도는 결정적인 역할을 합니다. 불순물은 생성된 박막에 결함을 일으킬 수 있기 때문입니다. 입자 크기는 또한 박막의 품질에 영향을 미치며 입자가 클수록 필름 특성이 저하됩니다. 또한 표면이 거칠면 필름에 결함이 생길 수 있으므로 표면 상태가 중요합니다.
최고 품질의 스퍼터링 타겟 및 증발 재료를 얻으려면 고순도, 작은 입자 크기 및 매끄러운 표면을 가진 재료를 선택하는 것이 중요합니다.
박막 증착의 용도
산화아연 기반 박막
ZnO 박막은 열, 광학, 자기 및 전기와 같은 여러 산업 분야에서 응용되지만 주로 코팅 및 반도체 장치에 사용됩니다.
박막 저항기
박막 저항기는 현대 기술에 매우 중요하며 라디오 수신기, 회로 기판, 컴퓨터, 무선 주파수 장치, 모니터, 무선 라우터, Bluetooth 모듈 및 휴대폰 수신기에 사용됩니다.
자성 박막
자성 박막은 전자, 데이터 저장, 무선 주파수 식별, 마이크로파 장치, 디스플레이, 회로 기판 및 광전자 공학의 핵심 구성 요소로 사용됩니다.
광학 박막
광학 코팅 및 광전자 공학은 광학 박막의 표준 응용 분야입니다. 분자 빔 에피택시는 광전자 박막 장치(반도체)를 생산할 수 있으며, 여기서 에피택셜 필름은 기판에 한 번에 원자 하나씩 증착됩니다.
고분자 박막
고분자 박막은 메모리 칩, 태양 전지 및 전자 장치에 사용됩니다. 화학 증착 기술(CVD)은 적합성 및 코팅 두께를 포함하여 폴리머 필름 코팅을 정밀하게 제어합니다.
박막 전지
박막 전지는 이식형 의료기기와 같은 전자 기기에 전력을 공급하며, 리튬 이온 전지는 박막의 사용 덕분에 크게 발전했습니다.
박막 코팅
박막 코팅은 다양한 산업 및 기술 분야에서 대상 물질의 화학적 및 기계적 특성을 향상시킵니다. 반사 방지 코팅, 자외선 방지 또는 적외선 방지 코팅, 긁힘 방지 코팅 및 렌즈 편광이 몇 가지 일반적인 예입니다.
박막형 태양전지
박막형 태양전지는 상대적으로 저렴하고 깨끗한 전기를 생산할 수 있어 태양광 산업에 필수적이다. 광전지 시스템과 열 에너지는 두 가지 주요 적용 기술입니다.
스퍼터링 타겟의 수명은 얼마입니까?
박막 증착에 영향을 미치는 요인 및 매개변수
공술서 비율:
일반적으로 두께를 시간으로 나눈 값으로 측정되는 필름 생산 속도는 응용 분야에 적합한 기술을 선택하는 데 중요합니다. 적당한 증착 속도는 박막에 충분하고 빠른 증착 속도는 후막에 필요합니다. 속도와 정확한 필름 두께 제어 사이의 균형을 맞추는 것이 중요합니다.
일률:
기판 전체에 걸친 필름의 일관성은 균일성으로 알려져 있으며, 일반적으로 필름 두께를 나타내지만 굴절률과 같은 다른 특성과도 관련될 수 있습니다. 균일성을 과소 또는 과도하게 지정하지 않도록 애플리케이션을 잘 이해하는 것이 중요합니다.
채우기 기능:
충전 능력 또는 스텝 커버리지는 증착 공정이 기판의 지형을 얼마나 잘 커버하는지를 나타냅니다. 사용된 증착 방법(예: CVD, PVD, IBD 또는 ALD)은 스텝 커버리지 및 충전에 상당한 영향을 미칩니다.
필름 특성:
필름의 특성은 애플리케이션의 요구 사항에 따라 달라지며 광자, 광학, 전자, 기계 또는 화학으로 분류할 수 있습니다. 대부분의 영화는 둘 이상의 범주에서 요구 사항을 충족해야 합니다.
공정 온도:
필름 특성은 공정 온도의 영향을 크게 받으며, 적용 분야에 따라 제한될 수 있습니다.
손상:
각 증착 기술은 증착되는 재료를 손상시킬 가능성이 있으며 작은 피처는 프로세스 손상에 더 취약합니다. 오염, UV 방사선 및 이온 충격은 손상의 잠재적인 원인 중 하나입니다. 재료와 도구의 한계를 이해하는 것이 중요합니다.
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