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고순도 티타늄(Ti) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

실험실 재료

고순도 티타늄(Ti) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

품목 번호 : LM-TI

가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의


화학식
청정
3n-5n
모양
디스크 / 와이어 / 블록 / 파우더 / 플레이트 / 컬럼 타겟 / 스텝 타겟 / 주문제작
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합리적인 가격으로 실험실용 티타늄(Ti) 재료를 제공합니다. 당사의 전문성은 고유한 요구 사항에 맞게 다양한 순도, 모양 및 크기의 티타늄(Ti) 재료를 생산하고 조정하는 데 있습니다.

스퍼터링 타겟(원형, 사각형, 관형, 불규칙), 코팅 재료, 실린더, 콘, 입자, 호일, 분말, 3D 프린팅 분말, 나노미터 분말 등 다양한 티타늄(Ti) 제품에 대한 다양한 사양과 크기를 제공합니다. , 선재, 잉곳 및 블록 등이 있습니다.

세부

티타늄(Ti) 스퍼터링 타겟
티타늄(Ti) 스퍼터링 타겟
티타늄(Ti) 스퍼터링 타겟
티타늄(Ti) 스퍼터링 타겟
티타늄(Ti) 로드
티타늄(Ti) 로드
티타늄(Ti) 로드
티타늄(Ti) 로드
티타늄(Ti) 입자
티타늄(Ti) 입자
티타늄(Ti) 입자
티타늄(Ti) 입자
티타늄 스폰지 블록
티타늄 스폰지 블록
티타늄 스폰지 블록
티타늄 스폰지 블록

티타늄(Ti)에 대하여

티타늄은 고강도, 저밀도, 탁월한 내식성 등 고유한 특성을 지닌 다용도 금속입니다. 이러한 특성으로 인해 다양한 응용 분야, 특히 항공 우주 및 군사 산업에서 널리 사용됩니다.

티타늄의 가장 일반적인 화합물 중 하나인 이산화티타늄은 다양한 용도의 백색 안료를 생산하는 데 광범위하게 사용됩니다. 또한 티타늄은 루비 및 사파이어 레이저의 결정 성장뿐만 아니라 전자 및 유전체 공식에 사용되는 티타네이트를 포함하여 상업적으로 필수적인 수많은 화합물 그룹의 기초를 형성합니다.

티타늄은 증발 원료 물질에 사용되는 펠릿, 막대, 와이어 및 과립과 같은 원소 또는 금속 형태를 포함하여 여러 형태로 제공됩니다. 또한 티타늄 나노입자 및 나노분말은 특수 응용 분야를 위한 매우 높은 표면적을 제공합니다.

산화티탄은 광학 코팅 및 박막 응용 분야와 같은 용도로 분말 및 고밀도 펠릿 형태로도 제공됩니다. 그러나 그들은 불용성인 경향이 있습니다. 티타늄의 또 다른 불용성 형태인 불화 티타늄은 야금, 화학 및 물리적 기상 증착, 일부 광학 코팅과 같이 산소가 바람직하지 않은 응용 분야에 사용됩니다.

마지막으로 티타늄은 염화물, 질산염 및 아세테이트를 포함한 용해성 형태로 제공되며 특정 화학양론에서 용액으로 제조할 수 있습니다. 전반적으로 티타늄과 그 다양한 형태 및 화합물은 다양한 분야에서 일하는 재료 과학자 및 기타 전문가에게 광범위한 가능성을 제공합니다.

성분 품질 관리

원료 조성 분석
ICP 및 GDMS와 같은 장비를 사용하여 금속 불순물의 함량을 검출하고 분석하여 순도 표준을 충족하는지 확인합니다.

비금속 불순물은 탄소 및 황 분석기, 질소 및 산소 분석기와 같은 장비로 검출됩니다.
금속학적 결함 검출 분석
제품 내부에 결함이나 수축 구멍이 없는지 확인하기 위해 결함 탐지 장비를 사용하여 대상 재료를 검사합니다.

금속 조직 검사를 통해 대상 물질의 내부 입자 구조를 분석하여 입자가 미세하고 조밀한지 확인합니다.
외관 및 치수 검사
제품 치수는 도면 준수를 보장하기 위해 마이크로미터와 정밀 캘리퍼를 사용하여 측정됩니다.

제품의 표면조도 및 청정도는 표면청정도계를 사용하여 측정합니다.

기존의 스퍼터링 타겟 크기

준비 과정
열간 정수압 압축, 진공 용해 등
스퍼터링 타겟 형상
평면 스퍼터링 타겟, 다중 아크 스퍼터링 타겟, 스텝 스퍼터링 타겟, 특수 형상 스퍼터링 타겟
원형 스퍼터링 타겟 크기
직경: 25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
두께: 3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
크기는 사용자 정의 할 수 있습니다.
정사각형 스퍼터링 타겟 크기
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm, 사이즈 주문제작 가능

사용 가능한 금속 형태

금속 형태 세부사항

주기율표에 나열된 거의 모든 금속을 다양한 형태와 순도, 표준 크기 및 치수로 제조합니다. 또한 크기, 모양, 표면적, 구성 등 특정 고객 요구 사항을 충족하는 맞춤형 제품을 생산할 수 있습니다. 다음 목록은 우리가 제공하는 양식의 샘플을 제공하지만 완전하지는 않습니다. 실험실 소모품이 필요한 경우 당사에 직접 연락하여 견적을 요청하십시오.

  • 평면/평면 형태: 보드, 필름, 호일, 마이크로호일, 마이크로리프, 종이, 플레이트, 리본, 시트, 스트립, 테이프, 웨이퍼
  • 미리 형성된 모양: 양극, 공, 밴드, 바, 보트, 볼트, 연탄, 음극, 원, 코일, 도가니, 크리스탈, 큐브, 컵, 실린더, 디스크, 전극, 섬유, 필라멘트, 플랜지, 그리드, 렌즈, 맨드릴, 너트 , 부품, 프리즘, 퍽, 링, 막대, 모양, 실드, 슬리브, 스프링, 사각형, 스퍼터링 타겟, 스틱, 튜브, 와셔, 창, 전선
  • Microsizes: 구슬, 비트, 캡슐, 칩, 동전, 먼지, 플레이크, 곡물, 과립, 미세 분말, 바늘, 입자, 자갈, 펠렛, 핀, 알약, 분말, 부스러기, 샷, 민달팽이, 구체, 정제
  • 거대 크기: 빌릿, 청크, 절단, 조각, 잉곳, 덩어리, 너겟, 조각, 펀칭, 암석, 스크랩, 세그먼트, 터닝
  • 다공성 및 반다공성: 패브릭, 폼, 거즈, 벌집, 메쉬, 스폰지, 양모
  • 나노스케일: 나노입자, 나노분말, 나노포일, 나노튜브, 나노막대, 나노프리즘
  • 기타: 농축물, 잉크, 페이스트, 침전물, 잔류물, 샘플, 표본

KinTek은 순도 범위가 99.999%(5N), 99.9999%(6N), 99.99995%(6N5), 경우에 따라 최대 99.99999%(7N)인 고순도 및 초고순도 재료 제조를 전문으로 합니다. ). 당사의 재료는 UP/UHP, 반도체, 전자, 증착, 광섬유 및 MBE 등급을 포함한 특정 등급으로 제공됩니다. 당사의 고순도 금속, 산화물 및 화합물은 첨단 기술 응용 분야의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 특별히 제작되었으며 박막 증착, 반도체의 결정 성장 및 나노 물질 합성을 위한 도펀트 및 전구체 재료로 사용하기에 이상적입니다. 이러한 재료는 첨단 마이크로 전자공학, 태양 전지, 연료 전지, 광학 재료 및 기타 최첨단 응용 분야에서 사용됩니다.

포장

고순도 소재는 진공 포장을 사용하며, 각 소재의 고유한 특성에 맞는 특정 포장을 사용합니다. 예를 들어, 당사의 Hf 스퍼터 타겟은 효율적인 식별 및 품질 관리를 용이하게 하기 위해 외부 태그 및 레이블이 지정됩니다. 보관 또는 운송 중 발생할 수 있는 손상을 방지하기 위해 세심한 주의를 기울이고 있습니다.

FAQ

스퍼터링 타겟이란?

스퍼터링 타겟은 스퍼터 증착 공정에 사용되는 소재로 타겟 소재를 작은 입자로 분해하여 스프레이를 형성하고 실리콘 웨이퍼와 같은 기판을 코팅합니다. 스퍼터링 타겟은 일반적으로 금속 요소 또는 합금이지만 일부 세라믹 타겟을 사용할 수 있습니다. 그들은 다양한 크기와 모양으로 제공되며 일부 제조업체는 더 큰 스퍼터링 장비를 위한 분할 대상을 만듭니다. 스퍼터링 타겟은 높은 정밀도와 균일성으로 박막을 증착할 수 있기 때문에 마이크로 전자공학, 박막 태양 전지, 광전자 공학 및 장식 코팅과 같은 분야에서 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다.

고순도 재료란?

고순도 물질은 불순물이 없고 높은 수준의 화학적 균질성을 지닌 물질을 의미합니다. 이러한 물질은 다양한 산업, 특히 불순물이 장치 성능에 큰 영향을 미칠 수 있는 첨단 전자 분야에서 필수적입니다. 화학 정제, 기상 증착, 구역 정제 등 다양한 방법을 통해 고순도 물질을 얻습니다. 예를 들어 전자 등급의 단결정 다이아몬드를 준비할 때 원하는 수준의 순도와 균질성을 달성하려면 고순도 원료 가스와 효율적인 진공 시스템이 필요합니다.

진공 아크 용융 공정이란 무엇입니까?

VAR(진공 아크 용융)은 항공 우주, 에너지 및 원자력과 같은 산업에서 중요한 응용 분야를 위해 화학적 및 기계적 균질성이 높은 금속 주괴를 생산하는 데 사용되는 2차 용융 공정입니다. 이 공정에는 진공 상태에서 액체 금속을 정제하고 응고 속도를 제어하는 작업이 포함됩니다. 이것은 주조 내화물과의 접촉 없이 반응성 티타늄 또는 지르코늄 합금의 정화 및 강철 및 초합금의 개재물 청정도 개선에 사용됩니다. 재용해된 원통형 주괴는 무게가 몇 톤에 달할 수 있으며 VAR은 특수 야금 기술 산업에 혁명을 일으켰습니다.

고순도 금속이란?

고순도 금속은 불순물이 적은 단일 원소 물질로 첨단 기술의 연구, 개발 및 생산에 이상적입니다. 이러한 금속은 고급 세라믹, 전자 센서, 고정밀 렌즈 및 광학, LED, 레이저, 차열 코팅, 플라즈마 스크린 등을 만드는 데 사용됩니다. KINTEK은 다양한 형태, 구성, 분산액, 입자 크기 및 연구 및 상업 응용 분야의 다양한 고순도 금속 및 2원 및 3원 금속 화합물을 제공합니다. 전략적 특수 금속은 하이테크 응용 분야에 사용되며 정교한 가공으로 인해 비용이 많이 들 수 있습니다.

스퍼터링 타겟은 어떻게 만들어지나요?

스퍼터링 타겟은 타겟 재료의 특성과 용도에 따라 다양한 제조 공정을 사용하여 만들어집니다. 여기에는 진공 용융 및 압연, 열간 프레스, 특수 프레스 소결 공정, 진공 열 프레스 및 단조 방법이 포함됩니다. 대부분의 스퍼터링 타겟 재료는 다양한 모양과 크기로 가공할 수 있으며 원형 또는 직사각형 모양이 가장 일반적입니다. 타겟은 일반적으로 금속 원소 또는 합금으로 만들어지지만 세라믹 타겟도 사용할 수 있습니다. 산화물, 질화물, 붕화물, 황화물, 셀렌화물, 텔루르화물, 탄화물, 결정질 및 복합 혼합물을 포함한 다양한 화합물로 만든 복합 스퍼터링 타겟도 사용할 수 있습니다.

VAR 진공 아크 재용해로(VAR) Furnace란 무엇입니까?

VAR 또는 진공 아크 재용융은 표준 공기 용융, 진공 유도 용융 또는 ESR 재용융 합금으로 만든 잉곳의 청결도를 개선하고 개선하는 데 사용되는 프로세스입니다. 항공 우주, 발전, 국방, 의료 및 원자력과 같은 산업에서 철강, 초합금, 티타늄, 지르코늄 및 그 합금에 사용됩니다. VAR은 전극과 구리 주형 사이에 아크를 발생시키는 데 사용되는 DC 전원을 사용하여 진공 상태에서 소모성 전극을 연속적으로 재용융하는 공정입니다. 이 공정은 용존 가스를 제거하고, 원하지 않는 미량 원소를 줄이고, 산화물 청정도를 개선하고, 잉곳을 아래에서 위로 방향성 응고시킵니다.

고순도 금속은 무엇에 사용됩니까?

고순도 금속은 특정 특성, 성능 및 품질을 요구하는 다양한 첨단 기술에 사용됩니다. 형광등, 플라즈마 스크린, LED, 고정밀 렌즈 및 광학, 전자 센서, 고급 세라믹, 열차폐 코팅, 레이저 등을 만드는 데 사용됩니다. 이러한 금속은 고품질 자성, 열전, 형광체 및 반도체 재료의 생산에도 사용됩니다. KINTEK은 모든 연구 및 상업 응용 분야를 위한 다양한 형태, 구성, 분산, 입자 크기 및 중량의 고순도 금속, 이원 및 삼원 금속 화합물, 자성 합금, 금속 산화물, 나노 물질 및 유기 금속 전구체의 다양한 포트폴리오를 제공합니다.

스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?

스퍼터링 타겟은 이온을 사용하여 타겟에 충격을 가하는 물질의 박막을 기판에 증착하기 위해 스퍼터링이라고 하는 공정에 사용됩니다. 이러한 타겟은 마이크로 전자 공학, 박막 태양 전지, 광전자 공학 및 장식 코팅을 포함한 다양한 분야에서 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다. 높은 정밀도와 균일성으로 다양한 기판에 재료의 박막을 증착할 수 있어 정밀 제품 생산에 이상적인 도구입니다. 스퍼터링 타겟은 다양한 모양과 크기로 제공되며 응용 분야의 특정 요구 사항을 충족하도록 특화될 수 있습니다.

진공 아크 용해로는 어떻게 작동합니까?

진공 아크 용해로는 전기 아크를 사용하여 진공 또는 저압 분위기에서 재료를 녹이는 방식으로 작동합니다. 퍼니스는 두 개의 전극을 사용하며 그 중 하나는 용융될 재료입니다. 전극이 서로 가까워지고 전극 사이에 전기 아크가 발생하여 재료가 녹습니다. 그런 다음 용광로를 비워 불순물을 제거하고 용융된 재료를 원하는 모양으로 주조합니다. 이 공정은 항공 우주, 전자 및 생체 공학과 같은 산업에서 사용되는 고순도 금속, 합금 및 금속 간 화합물의 생산에 사용됩니다.

전자 제품용 스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?

전자 제품용 스퍼터링 타겟은 트랜지스터, 다이오드 및 집적 회로와 같은 전자 장치를 만들기 위해 실리콘 웨이퍼에 박막을 증착하는 데 사용되는 알루미늄, 구리 및 티타늄과 같은 재료의 얇은 디스크 또는 시트입니다. 이러한 타겟은 스퍼터링이라는 프로세스에 사용되며, 타겟 재료의 원자가 표면에서 물리적으로 방출되고 타겟에 이온을 충격을 가하여 기판에 증착됩니다. 전자 제품용 스퍼터링 타겟은 마이크로 전자 제품 생산에 필수적이며 일반적으로 고품질 장치를 보장하기 위해 높은 정밀도와 균일성이 필요합니다.

스퍼터링 타겟의 수명은 얼마입니까?

스퍼터링 타겟의 수명은 재료 구성, 순도 및 사용되는 특정 용도와 같은 요인에 따라 달라집니다. 일반적으로 타겟은 수백에서 수천 시간의 스퍼터링 동안 지속될 수 있지만 이는 각 실행의 특정 조건에 따라 크게 달라질 수 있습니다. 적절한 취급 및 유지 관리는 또한 대상의 수명을 연장할 수 있습니다. 또한 회전식 스퍼터링 타겟을 사용하면 실행 시간을 늘리고 결함 발생을 줄일 수 있으므로 대량 공정을 위한 보다 비용 효율적인 옵션이 됩니다.
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KINTEK's Titanium (Ti) products are top-notch. They've consistently delivered high-quality materials that meet our stringent requirements.

Aisha Sharma

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Cold Isostatic Pressing: 개요 및 산업 응용

Cold Isostatic Pressing: 개요 및 산업 응용

CIP(Cold Isostatic Pressing)는 액체 압력을 사용하여 분말을 압축하여 재료를 가공하는 방법입니다. 이는 금형 가공과 유사하며 파스칼의 법칙을 기반으로 합니다.

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PVD 스퍼터링 타겟과 열간 등방성 프레싱: 1부

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고품질 스퍼터링 타겟을 생산하기 위한 열간 등방성 프레스의 사용과 PVD 스퍼터링 기술의 응용 분야를 살펴봅니다.

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고급 표면 처리: 티타늄 CVD 코팅

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내마모성, 내식성 및 열 안정성에 중점을 두고 티타늄 합금에 대한 CVD 코팅의 이점과 응용 분야를 살펴봅니다.

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PVD 스퍼터링 타겟과 열간 등방성 프레싱: 2부

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이 문서에서는 열간 등방성 프레스 및 고압 열처리와 같은 기술을 중심으로 PVD 스퍼터링 타겟의 제조 및 최적화에 대해 설명합니다.

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마그네트론 스퍼터링 표적 중독의 이해와 예방

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마그네트론 스퍼터링에서 표적 중독 현상과 그 원인, 영향 및 예방 조치에 대해 설명합니다.

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진공 유도 용융: 원리, 프로세스 및 응용 분야

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진공 유도 용융 공정과 그 특성, 응용 분야 및 장비 구조에 대해 자세히 살펴봅니다.

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스퍼터링 증착 기술의 이해

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스퍼터링 증착 기술, 그 메커니즘, 유형 및 응용 분야에 대해 자세히 살펴봅니다.

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AC 전원을 사용한 TiN 필름 증착의 과제와 솔루션

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AC 전원에서 TiN 필름 성장의 어려움에 대해 논의하고 DC 스퍼터링 및 펄스 DC와 같은 솔루션을 제안합니다.

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