CVD 기계는 증기 상태의 화학 반응에 의해 고급 재료를 생산하는 데 사용되는 다목적 도구입니다. 다양한 코팅, 분말, 섬유 및 모놀리식 구성 요소를 합성합니다. CVD는 금속 및 금속 합금, 반도체 및 비금속 시스템 생산에 널리 사용됩니다. CVD 프로세스는 화학 반응을 통해 가열된 표면에 고체를 증착하는 과정을 포함합니다. CVD 기계는 대기압 CVD, 저압 CVD, 초고진공 CVD 및 에어로졸 지원 CVD를 포함하여 다양한 유형으로 제공됩니다. 이 공정은 또한 마이크로웨이브 플라즈마 CVD 및 플라즈마 강화 CVD를 포함한 다양한 플라즈마 방법을 사용하여 수행됩니다.
cvd 기계
진공 스테이션 CVD 장비가 있는 스플릿 챔버 CVD 튜브 퍼니스
품목 번호 : KT-CTF12
품목 번호 : KT-CTF14
품목 번호 : KT-CTF16
경사 회전 플라즈마 강화 화학 증착(PECVD) 관로 기계
품목 번호 : KT-PE16
품목 번호 : KT-PED
실험실 및 다이아몬드 성장을 위한 원통형 공진기 MPCVD 기계
품목 번호 : KTWB315
실험실 및 다이아몬드 성장을 위한 Bell-jar Resonator MPCVD 장비
품목 번호 : KTMP315
RF PECVD 시스템 무선 주파수 플라즈마 강화 화학 기상 증착
품목 번호 : KT-RFPE
품목 번호 : MP-CVD-100
품목 번호 : MP-CVD-101
품목 번호 : cvdm-02
품목 번호 : cvdm-04
품목 번호 : cvdm-05
품목 번호 : cvdm-07
우리는 귀하의 예산에 관계없이 귀하의 기대를 뛰어넘는 최고의 CVD 기계 솔루션을 보유하고 있습니다. 당사의 광범위한 포트폴리오는 적절한 표준 솔루션으로 고객의 요구 사항을 충족할 수 있으며 고유한 응용 프로그램의 경우 맞춤형 디자인 서비스가 거의 모든 고객 요구 사항을 충족할 수 있음을 보장합니다. 당사의 CVD 기계는 중요한 산, 염기, 기체 오염 물질 및 유기물로부터 보호되어 오염 위험 및 기타 모든 중요한 문제를 줄입니다. 당사의 기계는 다목적이며 코팅, 분말, 섬유, 나노튜브 및 반도체 및 금속 합금을 포함한 모놀리식 구성 요소를 합성할 수 있습니다. 또한 새로운 시스템 세대를 위한 PECVD 및 활성 스퍼터링을 제공합니다.
CVD 장비의 응용
- 코팅, 분말, 섬유, 나노튜브 및 모놀리식 구성 요소의 합성
- 탄화물, 질화물 및 산화물과 같은 대부분의 금속 및 금속 합금 및 그 화합물 생산
- 탄소 및 실리콘을 포함한 반도체 및 금속 산화물과 같은 비금속 시스템의 제조
- PECVD 및 활성 스퍼터링과 같은 새로운 시스템 생성
- 반도체 산업의 박막 개발
CVD 장비의 장점
- CVD 기계는 금속, 합금 및 세라믹을 포함한 다양한 코팅 재료를 증착할 수 있는 기능을 제공합니다.
- 이 프로세스는 쉽게 확장 및 제어할 수 있어 배치 생산 실행에 이상적이며 규모의 경제로 비용을 절감할 수 있습니다.
- CVD는 순도가 99.995% 이상인 매우 순수한 필름을 증착하며 일반적으로 미세 입자이므로 DLC(Diamond-like Carbon) 코팅과 같은 높은 경도를 가능하게 합니다.
- CVD 기계는 PVD 공정만큼 높은 진공을 필요로 하지 않으며 반응으로 인한 화학 부산물을 제외하고 자체 세척됩니다.
- CVD 기계는 가스가 기판 표면 위로 흐르는 방식의 물리적 특성으로 인해 불규칙한 모양의 표면에 균일하고 매우 균일한 필름을 생성할 수 있습니다.
- CVD 프로세스는 대기압에서 반응성 및 작동을 개선하기 위해 서로 다른 재료의 공동 증착, 플라즈마 포함 또는 개시제와 같은 증착 중에 유연성을 허용합니다.
- CVD 기계는 대형 스크린 TV 디스플레이에서 물 여과 시스템에 이르기까지 광범위한 응용 분야에 사용되는 벌집 구조로 배열된 혼성화된 탄소 원자의 원자적으로 얇은 시트인 그래핀의 대규모 시트 생산을 가능하게 했습니다.
당사의 CVD 장비는 경제성과 맞춤화를 결합하여 완벽한 솔루션을 제공합니다. 당사의 광범위한 제품 라인과 맞춤 설계 서비스를 통해 당사의 CVD 장비는 고객의 특정 요구 사항에 맞게 조정되어 효율적이고 효과적인 솔루션을 제공합니다. 당사의 장비 및 CVD 공정은 모든 유형의 오염 물질로부터 보호되어 최종 결과가 최고 품질임을 보장합니다.
FAQ
CVD의 기본 원리는 무엇입니까?
화학 기상 증착(CVD)의 기본 원리는 박막 증착을 생성하기 위해 표면에서 반응하거나 분해되는 하나 이상의 휘발성 전구체에 기판을 노출시키는 것입니다. 이 공정은 패터닝 필름, 절연 재료 및 전도성 금속층과 같은 다양한 응용 분야에 사용될 수 있습니다. CVD는 코팅, 분말, 섬유, 나노튜브 및 모놀리식 구성 요소를 합성할 수 있는 다목적 프로세스입니다. 또한 대부분의 금속 및 금속 합금과 그 화합물, 반도체 및 비금속 시스템을 생산할 수 있습니다. 증기 상태의 화학 반응으로 인해 가열된 표면에 고체가 증착되는 것이 CVD 공정의 특징입니다.
CVD 방법의 다른 유형은 무엇입니까?
다양한 유형의 CVD 방법에는 대기압 CVD(APCVD), 저압 CVD(LPCVD), 초고진공 CVD, 에어로졸 지원 CVD, 직접 액체 주입 CVD, 고온벽 CVD, 저온벽 CVD, 마이크로웨이브 플라즈마 CVD, 플라즈마- 강화 CVD(PECVD), 원격 플라즈마 강화 CVD, 저에너지 플라즈마 강화 CVD, 원자층 CVD, 연소 CVD 및 고온 필라멘트 CVD. 이러한 방법은 화학 반응이 유발되는 메커니즘과 작동 조건이 다릅니다.
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