회전식 증발기(로토뱁)에서의 부딪힘은 심각한 문제가 될 수 있습니다.
이는 시료의 용매가 갑자기 끓어 "분출"할 때 발생합니다.
이는 잠재적인 시료 손실과 효율성 저하로 이어집니다.
이 현상은 주로 진공 상태에서 가열과 액상에서 기포가 갑자기 방출되는 현상이 결합되어 발생합니다.
범핑의 원인:
1. 진공 상태에서 가열
회전식 증발기는 감압 상태에서 시료를 가열하여 작동합니다.
이는 용매의 끓는점을 낮춥니다.
이로 인해 액체가 실제로 끓지 않고도 정상 끓는점보다 훨씬 뜨거워지는 과열이 발생할 수 있습니다.
핵 형성 부위(기포가 형성될 수 있는 장소)가 존재하거나 생성되면 과열된 액체가 빠르게 끓어 격렬한 분출 또는 "범프"를 일으킬 수 있습니다.
2. 수증기 기포의 갑작스러운 방출
액상에서 기포가 갑작스럽고 격렬하게 방출되는 것이 범프의 주요 특징입니다.
이는 교반이 부족하거나 시료 플라스크의 표면적이 불충분할 때 악화될 수 있습니다.
이러한 요인들은 열의 고른 분포와 핵 형성 부위의 형성을 방해합니다.
범핑 방지:
1. 진공 와류 증발기 사용
이 기술은 범핑을 크게 줄이는 데 도움이 됩니다.
이 기술은 공기 흐름 기반의 액체 와류에서 시료를 교반하면서 일정한 대기압을 유지합니다.
이 방법을 사용하면 증기가 보다 제어되고 점진적으로 방출되어 갑작스러운 분출을 방지할 수 있으므로 범핑을 최소화할 수 있습니다.
2. 시료 농도 줄이기
적절한 용매로 샘플을 희석하면 거품 발생 경향을 줄일 수 있습니다.
이는 결과적으로 범핑을 완화할 수 있습니다.
농도가 낮은 시료는 과열될 가능성이 적고 균일하게 가열하기가 더 쉽습니다.
3. 적절한 플라스크 회전
회전식 증발기의 플라스크가 최적의 속도로 회전하는지 확인하면 가열 배스에 노출되는 표면적을 늘릴 수 있습니다.
이렇게 하면 더 고르게 가열되고 과열 및 부딪힘이 발생할 가능성이 줄어듭니다.
4. 충돌 방지 과립 사용
이는 기포가 형성될 수 있는 핵 형성 부위를 제공하기 위해 시료에 첨가할 수 있는 작고 다공성인 물질입니다.
이는 액체가 과열된 온도에 도달하는 것을 방지하고 증기 방출을 제어하는 데 도움이 됩니다.
범핑의 원인을 이해하고 해결함으로써 사용자는 회전식 증발기 작동을 최적화하여 시료 손실을 방지하고 공정의 효율성을 높일 수 있습니다.
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