이온 빔 스퍼터링(IBS)은 정밀 광학, 반도체 생산, 질화물 필름 제작 등 다양한 분야에 적용되는 매우 정밀한 박막 증착 기술입니다. 이 공정은 대상 물질에 이온 빔을 집중시킨 다음 기판에 스퍼터링하여 고품질의 고밀도 필름을 생성하는 과정을 포함합니다.
정밀 광학:
이온 빔 스퍼터링은 정밀 광학 제품 생산에 매우 중요합니다. 이 기술을 사용하면 렌즈 및 레이저 바 코팅과 같은 응용 분야에 필수적인 탁월한 균일성과 밀도를 가진 박막을 증착할 수 있습니다. IBS가 제공하는 정밀한 제어를 통해 제조업체는 표면층을 제거하고 증착할 때 원자 수준의 정확도를 달성하여 부품의 광학적 특성을 향상시킬 수 있습니다.반도체 생산:
반도체 산업에서 IBS는 디바이스 성능에 중요한 역할을 하는 필름 증착에 중요한 역할을 합니다. 이 기술은 반도체 재료의 전기적 및 기계적 특성을 향상시킬 수 있는 제어된 화학량론으로 필름을 증착하는 데 사용됩니다. 예를 들어, 증착 시 O2+ 및 Ar+ 이온을 사용하면 밀도 및 결정 구조와 같은 필름 특성을 수정하여 전반적인 디바이스 기능을 향상시킬 수 있습니다.
질화물 필름:
IBS는 경도와 내마모성으로 인해 다양한 산업 응용 분야에서 필수적인 질화물 필름을 만드는 데도 사용됩니다. 이 공정을 통해 두께 및 구성과 같은 필름 특성을 정밀하게 제어할 수 있으며, 이는 내마모성 코팅에서 전자 장치에 이르기까지 다양한 응용 분야에서 원하는 성능 특성을 달성하는 데 매우 중요합니다.기타 응용 분야:
이 외에도 IBS는 깨끗하고 잘 정의된 표면을 만드는 것이 가장 중요한 전계 전자 현미경, 저에너지 전자 회절 및 오거 분석에 사용됩니다. 또한 높은 운동 에너지로 필름을 증착하는 이 기술은 코팅의 접착 강도를 향상시켜 강력한 접착력과 내구성이 요구되는 응용 분야에 이상적입니다.
