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전자빔 증착 코팅 도전성 질화붕소 도가니(BN Crucible)

박막 증착 부품

전자빔 증착 코팅 도전성 질화붕소 도가니(BN Crucible)

품목 번호 : KES03

가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의


재료
질화붕소
사양
35-64.5mm*17-35mm
ISO & CE icon

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애플리케이션

전도성 질화붕소 도가니는 전자 빔 증발 코팅용으로 설계된 고순도의 매끄러운 도가니입니다. 고온 저항 및 열 사이클 성능이 우수하며 다양한 금속 및 세라믹 희토류와 반응하지 않습니다. 도가니는 급속한 가열 및 냉각 조건에서도 그대로 유지됩니다. 그것은 합금 용융, 희토류 및 세라믹 소결, 전자빔 증발 코팅에 응용됩니다. 고주파 유도 가열, 코팅, 전자빔 증착 코팅, 알루미늄 도금, 실리콘 도금과 같은 열 증착 공정에 자주 사용됩니다.

전도성 질화 붕소 도가니는 고순도, 고마감 및 우수한 전자빔 증착 코팅 성능을 가지고 있습니다. 증발 속도를 높이고 재료 전환을 가속화하며 열 안정성을 개선하고 전력 요구 사항을 줄여 궁극적으로 생산성과 비용 효율성을 높일 수 있습니다.

세부 정보 및 부품

전자빔 증발 코팅 전도성 질화붕소 도가니 상세

전자빔 증착 코팅 도전성 질화붕소 도가니 상세도 2

전자빔 증발 코팅 전도성 질화붕소 도가니 세부사항3

기술 사양

외경 35mm 40mm 45mm 50mm 64.5mm
높은 17mm 20mm 22.5mm 25mm 35mm

우리가 보여주는 도가니는 다양한 크기로 제공되며 요청 시 맞춤 크기를 사용할 수 있습니다.

이점

  • 이 필름은 마감이 우수하고 순도가 높으며 오염이 적고 수명이 길다.
  • 우수한 고온 저항, 열 순환 저항.
  • 낮은 열팽창, 대부분의 용융 금속에 의한 젖음에 저항합니다.
  • 2000℃까지의 내열성, 질화붕소는 알루미늄과 반응하지 않고 쉽게 휘발되지 않습니다.
  • 증가된 증발 속도; 증가된 증발 속도는 주기 시간을 줄이고 전체 수율을 증가시킵니다.
  • 빠른 재료 전환; 전도성 질화붕소 도가니는 빠른 재료 전환을 촉진하여 챔버 가동 중지 시간을 최소화하고 공정 효율성을 높입니다.
  • 향상된 열 안정성; 이러한 도가니는 열 안정성이 향상되어 도가니 자체의 열 전달을 줄이고 일관되고 제어된 증발을 보장합니다.

FAQ

물리적 기상 증착(PVD)이란 무엇입니까?

PVD(Physical Vapor Deposition)는 진공 상태에서 고체 물질을 기화시킨 후 기판에 증착시켜 박막을 증착하는 기술입니다. PVD 코팅은 내구성, 긁힘 방지 및 내부식성이 뛰어나 태양 전지에서 반도체에 이르기까지 다양한 응용 분야에 이상적입니다. PVD는 또한 고온을 견딜 수 있는 박막을 생성합니다. 그러나 PVD는 비용이 많이 들 수 있으며 사용하는 방법에 따라 비용이 달라집니다. 예를 들어 증발은 저비용 PVD 방법인 반면 이온 빔 스퍼터링은 다소 비쌉니다. 반면에 마그네트론 스퍼터링은 더 비싸지만 확장성이 더 큽니다.

고순도 흑연 도가니는 어떻게 만들어지나요?

고순도 흑연 도가니는 일반적으로 등압성형이라는 공정을 통해 제조됩니다. 이 방법은 흑연분말을 고무틀에 넣은 후 모든 방향에서 고압을 가하는 방식이다. 이 압력은 흑연 입자를 조밀하고 균일한 도가니 모양으로 압축합니다. 그런 다음 도가니를 고온으로 가열하여 불순물을 제거하고 순도를 높입니다.

마그네트론 스퍼터링이란 무엇입니까?

마그네트론 스퍼터링은 접착력이 뛰어난 매우 조밀한 필름을 생산하는 데 사용되는 플라즈마 기반 코팅 기술로, 녹는점이 높고 증발할 수 없는 재료에 코팅을 생성하는 다목적 방법입니다. 이 방법은 양전하를 띤 에너지 이온이 음전하를 띤 타겟 물질과 충돌하여 원자가 방출되거나 "스퍼터링"되는 타겟 표면 근처에 자기적으로 제한된 플라즈마를 생성합니다. 이렇게 방출된 원자는 기판이나 웨이퍼에 증착되어 원하는 코팅을 생성합니다.

스퍼터링 타겟이란?

스퍼터링 타겟은 스퍼터 증착 공정에 사용되는 소재로 타겟 소재를 작은 입자로 분해하여 스프레이를 형성하고 실리콘 웨이퍼와 같은 기판을 코팅합니다. 스퍼터링 타겟은 일반적으로 금속 요소 또는 합금이지만 일부 세라믹 타겟을 사용할 수 있습니다. 그들은 다양한 크기와 모양으로 제공되며 일부 제조업체는 더 큰 스퍼터링 장비를 위한 분할 대상을 만듭니다. 스퍼터링 타겟은 높은 정밀도와 균일성으로 박막을 증착할 수 있기 때문에 마이크로 전자공학, 박막 태양 전지, 광전자 공학 및 장식 코팅과 같은 분야에서 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다.

박막 증착에 사용되는 방법은 무엇입니까?

박막 증착에 사용되는 두 가지 주요 방법은 화학 기상 증착(CVD) 및 물리 기상 증착(PVD)입니다. CVD는 반응 가스를 챔버로 도입하여 웨이퍼 표면에서 반응하여 고체 막을 형성합니다. PVD는 화학 반응을 수반하지 않습니다. 대신 구성 물질의 증기가 챔버 내부에서 생성된 다음 웨이퍼 표면에 응결되어 단단한 필름을 형성합니다. PVD의 일반적인 유형에는 증발 증착 및 스퍼터링 증착이 포함됩니다. 증발 증착 기술의 세 가지 유형은 열 증발, 전자 빔 증발 및 유도 가열입니다.

고순도 흑연 도가니의 일반적인 용도는 무엇입니까?

고순도 흑연 도가니는 야금, 주조 및 실험실과 같은 산업에서 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다. 일반적으로 알루미늄, 구리 및 귀금속을 포함한 비철금속을 용융 및 주조하는 데 사용됩니다. 고순도 흑연 도가니는 합금 및 고온 세라믹 생산에도 활용됩니다. 이는 실험실의 화학 분석, 분광학 및 샘플 준비와 같은 프로세스에 필수적입니다. 또한 이러한 도가니는 반도체 산업에서 실리콘 및 기타 반도체 재료를 녹이고 성장시키는 용도로 사용됩니다.

왜 마그네트론 스퍼터링인가?

마그네트론 스퍼터링은 증발법을 능가하는 막 두께와 코팅 밀도에서 높은 정밀도를 달성할 수 있기 때문에 선호됩니다. 이 기술은 특정 광학적 또는 전기적 특성을 가진 금속 또는 절연 코팅을 만드는 데 특히 적합합니다. 또한 마그네트론 스퍼터링 시스템은 여러 마그네트론 소스로 구성할 수 있습니다.

스퍼터링 타겟은 어떻게 만들어지나요?

스퍼터링 타겟은 타겟 재료의 특성과 용도에 따라 다양한 제조 공정을 사용하여 만들어집니다. 여기에는 진공 용융 및 압연, 열간 프레스, 특수 프레스 소결 공정, 진공 열 프레스 및 단조 방법이 포함됩니다. 대부분의 스퍼터링 타겟 재료는 다양한 모양과 크기로 가공할 수 있으며 원형 또는 직사각형 모양이 가장 일반적입니다. 타겟은 일반적으로 금속 원소 또는 합금으로 만들어지지만 세라믹 타겟도 사용할 수 있습니다. 산화물, 질화물, 붕화물, 황화물, 셀렌화물, 텔루르화물, 탄화물, 결정질 및 복합 혼합물을 포함한 다양한 화합물로 만든 복합 스퍼터링 타겟도 사용할 수 있습니다.

박막증착장비란?

박막 증착 장비는 기판 재료에 박막 코팅을 생성하고 증착하는 데 사용되는 도구 및 방법을 말합니다. 이러한 코팅은 다양한 재료로 만들 수 있으며 기질의 성능을 개선하거나 변경할 수 있는 다양한 특성을 가지고 있습니다. PVD(Physical Vapor Deposition)는 진공 상태에서 고체 물질을 증발시킨 다음 기판에 증착하는 일반적인 기술입니다. 다른 방법으로는 증발 및 스퍼터링이 있습니다. 박막 증착 장비는 광전자 장치, 의료용 임플란트 및 정밀 광학 제품 생산에 사용됩니다.

도가니 증발에 사용되는 일반적인 재료는 무엇입니까?

증발 도가니는 일반적으로 텅스텐, 탄탈륨, 몰리브덴, 흑연 또는 세라믹 화합물과 같은 재료로 만들어집니다. 이러한 재료는 녹는점이 높고 열전도율이 좋기 때문에 증발 중에 필요한 고온 조건에 적합합니다. 도가니 재료의 선택은 증발 재료, 원하는 필름 특성 및 공정 매개변수와 같은 요인에 따라 달라집니다.

고순도 흑연 도가니를 선택할 때 고려해야 할 요소는 무엇입니까?

고순도 흑연 도가니를 선택할 때 몇 가지 요소를 고려해야 합니다. 첫째, 도가니의 크기와 용량은 의도한 용도와 용융 또는 처리할 재료의 양에 맞춰야 합니다. 도가니의 열 전도성, 열충격 저항성 및 화학적 호환성을 평가하여 특정 공정 요구 사항을 충족하는지 확인해야 합니다. 오염을 최소화하고 우수한 성능을 보장하려면 순도가 높은 고품질 흑연 재료로 만든 도가니를 선택하는 것이 중요합니다. 손잡이가 있거나 쉽게 다룰 수 있도록 쏟아지는 주둥이 등 도가니의 디자인과 구조도 고려해야 합니다. 또한 특정 응용 분야에 가장 적합한 고순도 흑연 도가니를 선택하려면 해당 분야의 제조업체 또는 전문가와 상담하는 것이 좋습니다.

박막 증착에 사용되는 재료는 무엇입니까?

박막 증착은 일반적으로 금속, 산화물 및 화합물을 재료로 사용하며 각각 고유한 장점과 단점이 있습니다. 금속은 내구성과 증착 용이성 때문에 선호되지만 상대적으로 비쌉니다. 산화물은 내구성이 뛰어나고 고온을 견딜 수 있으며 저온에서 증착될 수 있지만 부서지기 쉽고 작업하기 어려울 수 있습니다. 화합물은 강도와 내구성을 제공하고 저온에서 증착될 수 있으며 특정 특성을 나타내도록 조정될 수 있습니다.

박막 코팅을 위한 재료 선택은 적용 요건에 따라 다릅니다. 금속은 열 및 전기 전도에 이상적이며 산화물은 보호 기능을 제공하는 데 효과적입니다. 컴파운드는 특정 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. 궁극적으로 특정 프로젝트에 가장 적합한 재료는 응용 프로그램의 특정 요구 사항에 따라 달라집니다.

스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?

스퍼터링 타겟은 이온을 사용하여 타겟에 충격을 가하는 물질의 박막을 기판에 증착하기 위해 스퍼터링이라고 하는 공정에 사용됩니다. 이러한 타겟은 마이크로 전자 공학, 박막 태양 전지, 광전자 공학 및 장식 코팅을 포함한 다양한 분야에서 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다. 높은 정밀도와 균일성으로 다양한 기판에 재료의 박막을 증착할 수 있어 정밀 제품 생산에 이상적인 도구입니다. 스퍼터링 타겟은 다양한 모양과 크기로 제공되며 응용 분야의 특정 요구 사항을 충족하도록 특화될 수 있습니다.

박막 증착 기술이란?

박막 증착 기술은 수 나노미터에서 100마이크로미터에 이르는 두께 범위의 매우 얇은 재료 필름을 기판 표면이나 이전에 증착된 코팅에 도포하는 공정입니다. 이 기술은 반도체, 광학 장치, 태양광 패널, CD 및 디스크 드라이브를 포함한 현대 전자 제품 생산에 사용됩니다. 박막 증착의 두 가지 광범위한 범주는 화학적 변화가 화학적으로 증착된 코팅을 생성하는 화학적 증착과 재료가 소스에서 방출되어 기계적, 전기기계적 또는 열역학적 프로세스를 사용하여 기판에 증착되는 물리적 기상 증착입니다.

증발 도가니를 사용하면 어떤 이점이 있나요?

증발 도가니는 박막 증착 공정에서 여러 가지 장점을 제공합니다. 재료 증발을 위한 제어된 환경을 제공하여 필름 두께와 균일성을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 도가니는 고온을 견딜 수 있고 효율적인 열 전달을 제공하여 일관된 증발 속도를 보장합니다. 다양한 증발 시스템과 기판 구성을 수용할 수 있도록 다양한 크기와 모양으로 제공됩니다. 또한 증발 도가니를 사용하면 금속, 반도체, 세라믹 등 다양한 재료를 증착할 수 있습니다. 쉽게 로드하고 언로드할 수 있어 신속한 재료 변경이나 공정 조정이 용이합니다. 전반적으로 증발 도가니는 박막 증착 기술의 필수 도구로 다양성, 신뢰성 및 재현성을 제공합니다.

최적의 박막 증착을 달성하는 방법은 무엇입니까?

원하는 특성을 가진 박막을 얻기 위해서는 고품질 스퍼터링 타겟과 증발 재료가 필수적입니다. 이러한 재료의 품질은 순도, 입자 크기 및 표면 상태와 같은 다양한 요인에 의해 영향을 받을 수 있습니다.

스퍼터링 타겟 또는 증발 재료의 순도는 결정적인 역할을 합니다. 불순물은 생성된 박막에 결함을 일으킬 수 있기 때문입니다. 입자 크기는 또한 박막의 품질에 영향을 미치며 입자가 클수록 필름 특성이 저하됩니다. 또한 표면이 거칠면 필름에 결함이 생길 수 있으므로 표면 상태가 중요합니다.

최고 품질의 스퍼터링 타겟 및 증발 재료를 얻으려면 고순도, 작은 입자 크기 및 매끄러운 표면을 가진 재료를 선택하는 것이 중요합니다.

박막 증착의 용도

산화아연 기반 박막

ZnO 박막은 열, 광학, 자기 및 전기와 같은 여러 산업 분야에서 응용되지만 주로 코팅 및 반도체 장치에 사용됩니다.

박막 저항기

박막 저항기는 현대 기술에 매우 중요하며 라디오 수신기, 회로 기판, 컴퓨터, 무선 주파수 장치, 모니터, 무선 라우터, Bluetooth 모듈 및 휴대폰 수신기에 사용됩니다.

자성 박막

자성 박막은 전자, 데이터 저장, 무선 주파수 식별, 마이크로파 장치, 디스플레이, 회로 기판 및 광전자 공학의 핵심 구성 요소로 사용됩니다.

광학 박막

광학 코팅 및 광전자 공학은 광학 박막의 표준 응용 분야입니다. 분자 빔 에피택시는 광전자 박막 장치(반도체)를 생산할 수 있으며, 여기서 에피택셜 필름은 기판에 한 번에 원자 하나씩 증착됩니다.

고분자 박막

고분자 박막은 메모리 칩, 태양 전지 및 전자 장치에 사용됩니다. 화학 증착 기술(CVD)은 적합성 및 코팅 두께를 포함하여 폴리머 필름 코팅을 정밀하게 제어합니다.

박막 전지

박막 전지는 이식형 의료기기와 같은 전자 기기에 전력을 공급하며, 리튬 이온 전지는 박막의 사용 덕분에 크게 발전했습니다.

박막 코팅

박막 코팅은 다양한 산업 및 기술 분야에서 대상 물질의 화학적 및 기계적 특성을 향상시킵니다. 반사 방지 코팅, 자외선 방지 또는 적외선 방지 코팅, 긁힘 방지 코팅 및 렌즈 편광이 몇 가지 일반적인 예입니다.

박막형 태양전지

박막형 태양전지는 상대적으로 저렴하고 깨끗한 전기를 생산할 수 있어 태양광 산업에 필수적이다. 광전지 시스템과 열 에너지는 두 가지 주요 적용 기술입니다.

전자 제품용 스퍼터링 타겟이란 무엇입니까?

전자 제품용 스퍼터링 타겟은 트랜지스터, 다이오드 및 집적 회로와 같은 전자 장치를 만들기 위해 실리콘 웨이퍼에 박막을 증착하는 데 사용되는 알루미늄, 구리 및 티타늄과 같은 재료의 얇은 디스크 또는 시트입니다. 이러한 타겟은 스퍼터링이라는 프로세스에 사용되며, 타겟 재료의 원자가 표면에서 물리적으로 방출되고 타겟에 이온을 충격을 가하여 기판에 증착됩니다. 전자 제품용 스퍼터링 타겟은 마이크로 전자 제품 생산에 필수적이며 일반적으로 고품질 장치를 보장하기 위해 높은 정밀도와 균일성이 필요합니다.

증발 도가니는 어떻게 취급하고 유지관리해야 합니까?

증발 도가니는 수명과 성능을 보장하기 위해 주의해서 취급하고 유지관리해야 합니다. 도가니는 매번 사용하기 전에 철저하게 세척하여 이전 침전물에서 남은 물질을 제거해야 합니다. 도가니 표면을 손상시킬 수 있는 연마재를 사용하지 마십시오. 적재 및 하역 중에는 오염을 방지하기 위해 깨끗한 장갑이나 특수 도구를 사용하여 도가니를 다루십시오. 사용하지 않을 때에는 부식이나 품질 저하를 방지하기 위해 도가니를 건조하고 깨끗한 환경에 보관하십시오. 증발 과정에서 예상치 못한 고장을 방지하려면 도가니에 균열, 결함 또는 마모 징후가 있는지 정기적으로 검사하는 것이 중요합니다. 도가니의 수명을 연장하려면 어닐링이나 표면 처리와 같은 특정 유지 관리 절차에 대한 제조업체의 권장 사항을 따르십시오.

박막 증착에 영향을 미치는 요인 및 매개변수

공술서 비율:

일반적으로 두께를 시간으로 나눈 값으로 측정되는 필름 생산 속도는 응용 분야에 적합한 기술을 선택하는 데 중요합니다. 적당한 증착 속도는 박막에 충분하고 빠른 증착 속도는 후막에 필요합니다. 속도와 정확한 필름 두께 제어 사이의 균형을 맞추는 것이 중요합니다.

일률:

기판 전체에 걸친 필름의 일관성은 균일성으로 알려져 있으며, 일반적으로 필름 두께를 나타내지만 굴절률과 같은 다른 특성과도 관련될 수 있습니다. 균일성을 과소 또는 과도하게 지정하지 않도록 애플리케이션을 잘 이해하는 것이 중요합니다.

채우기 기능:

충전 능력 또는 스텝 커버리지는 증착 공정이 기판의 지형을 얼마나 잘 커버하는지를 나타냅니다. 사용된 증착 방법(예: CVD, PVD, IBD 또는 ALD)은 스텝 커버리지 및 충전에 상당한 영향을 미칩니다.

필름 특성:

필름의 특성은 애플리케이션의 요구 사항에 따라 달라지며 광자, 광학, 전자, 기계 또는 화학으로 분류할 수 있습니다. 대부분의 영화는 둘 이상의 범주에서 요구 사항을 충족해야 합니다.

공정 온도:

필름 특성은 공정 온도의 영향을 크게 받으며, 적용 분야에 따라 제한될 수 있습니다.

손상:

각 증착 기술은 증착되는 재료를 손상시킬 가능성이 있으며 작은 피처는 프로세스 손상에 더 취약합니다. 오염, UV 방사선 및 이온 충격은 손상의 잠재적인 원인 중 하나입니다. 재료와 도구의 한계를 이해하는 것이 중요합니다.

스퍼터링 타겟의 수명은 얼마입니까?

스퍼터링 타겟의 수명은 재료 구성, 순도 및 사용되는 특정 용도와 같은 요인에 따라 달라집니다. 일반적으로 타겟은 수백에서 수천 시간의 스퍼터링 동안 지속될 수 있지만 이는 각 실행의 특정 조건에 따라 크게 달라질 수 있습니다. 적절한 취급 및 유지 관리는 또한 대상의 수명을 연장할 수 있습니다. 또한 회전식 스퍼터링 타겟을 사용하면 실행 시간을 늘리고 결함 발생을 줄일 수 있으므로 대량 공정을 위한 보다 비용 효율적인 옵션이 됩니다.
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다양한 금속 및 합금의 증착에 사용할 수 있습니다. 대부분의 금속은 손실 없이 완전히 증발할 수 있습니다. 증발 바구니는 재사용할 수 있습니다.

알루미나 도가니(Al2O3) 덮힌 열 분석/TGA/DTA

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TGA/DTA 열 분석 용기는 산화알루미늄(강옥 또는 산화알루미늄)으로 만들어집니다. 고온에 견딜 수 있어 고온 시험이 필요한 물질 분석에 적합합니다.

실험실 머플로용 알루미나(Al2O3) 세라믹 도가니

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알루미나 세라믹 도가니는 일부 재료 및 금속 용융 도구에 사용되며 바닥이 평평한 도가니는 더 나은 안정성과 균일성으로 더 큰 배치의 재료를 용융 및 처리하는 데 적합합니다.

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