물리적 기상 증착(PVD)은 기판에 얇은 층의 재료를 증착하는 데 사용되는 공정입니다.
이는 일반적으로 고온 진공 조건에서 이루어집니다.
PVD에 사용되는 재료는 금속과 비금속을 모두 포함한 순수한 원자 원소 또는 산화물과 질화물과 같은 분자일 수 있습니다.
이러한 재료는 일반적으로 고출력 전기 또는 레이저를 통해 가스화된 다음 기판 위에 증착됩니다.
이렇게 하면 얇고 단단하며 부식에 강한 코팅이 형성됩니다.
5가지 주요 재료 및 공정
1. 순수 원자 원소
순수 원자 원소에는 알루미늄, 티타늄, 구리와 같은 금속과 비금속이 포함됩니다.
이러한 원소는 전도성, 경도 또는 내식성과 같은 특정 특성으로 인해 선택되는 경우가 많습니다.
2. 분자
PVD에 사용되는 분자의 일반적인 예로는 산화물과 질화물이 있습니다.
예를 들어 질화 티타늄은 극한의 경도와 내마모성으로 널리 사용됩니다.
따라서 절삭 공구 및 장식용 코팅에 이상적입니다.
3. 열 증발
열 증발은 고진공 환경에서 재료를 끓는점까지 가열하는 것을 포함합니다.
이로 인해 재료가 증발한 다음 기판에 응축됩니다.
이 기술은 순수 금속 및 일부 화합물을 증착하는 데 적합합니다.
4. 스퍼터링
스퍼터링 공정에서는 증착할 재료(타겟)에 고에너지 입자를 분사합니다.
이로 인해 원자 또는 분자가 방출되어 기판 위에 증착됩니다.
스퍼터링을 사용하면 합금과 화합물을 포함하여 더 다양한 재료를 증착할 수 있습니다.
또한 코팅의 접착력과 균일성이 향상됩니다.
5. 응용 분야 및 이점
PVD 코팅은 경도, 마모 및 부식에 대한 내성, 고온 내성으로 인해 다양한 용도로 사용됩니다.
특히 항공우주, 의료, 전자 등의 산업에서 선호됩니다.
PVD의 환경 친화성과 사용되는 재료의 청결성 및 순도는 수술용 임플란트와 같은 응용 분야에 이상적인 선택이기도 합니다.
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