진공 챔버에서 달성할 수 있는 최소 압력은 챔버의 유형과 설계에 따라 달라질 수 있습니다. 초고진공(UHV) 애플리케이션용으로 설계된 직사각형 박스형 진공 챔버의 경우, 압력은 100나노파스칼(10^-7 토르에 해당)까지 낮아질 수 있습니다. 이는 다른 유형의 진공 챔버에서 일반적으로 달성되는 압력보다 훨씬 낮은 수준입니다.
설명:
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직사각형 박스형 진공 챔버: 이 챔버는 초고진공 조건을 위해 특별히 설계되었습니다. 이 설계를 통해 박막 증착, 마찰 테스트, 우주 조건 시뮬레이션과 같은 다양한 과학 및 산업 공정에 필요한 극도로 낮은 압력을 생성할 수 있습니다. 이러한 저압을 달성하는 능력은 오염을 최소화하고 챔버 내에서 수행되는 공정의 무결성을 보장하는 데 매우 중요합니다.
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압력 측정 및 제어: 진공 챔버 내부의 압력은 특수 게이지를 사용하여 모니터링합니다. 예를 들어, DTT 모델 증착 시스템은 대기압 수준에서 10^-9 토르까지 압력을 측정할 수 있는 Leybold Company의 풀레인지 압력 게이지를 사용합니다. 이러한 정밀한 측정은 다양한 공정의 요구 사항에 따라 진공 레벨을 유지하고 조정하는 데 필수적입니다.
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진공 레벨과 그 중요성: 이 문서에서는 거친/저진공(1000~1 mbar)에서 극고진공(< 10^-11 mbar)에 이르는 다양한 진공 압력 범주에 대해 설명합니다. 진공 레벨의 선택은 공정의 특정 요구 사항에 따라 달라집니다. 예를 들어, 열 증발 공정에서는 일반적으로 약 3.0 x 10^-4 Torr 이하의 긴 평균 자유 경로를 보장할 수 있을 만큼 압력이 낮아야 합니다. 이는 입자 간의 충돌을 방지하고 증착 공정의 방향성을 유지하는 데 필요합니다.
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불활성 기체 대 고진공: 또한 대기압에서 불활성 가스를 사용하는 환경과 고진공을 사용하는 환경의 청결도를 비교합니다. 불활성 가스 환경에서는 이론적으로 불순물 분압이 0.001 mbar에 도달할 수 있지만, 고진공 환경에서는 0.0001 mbar 미만의 압력을 달성할 수 있어 민감한 공정에 훨씬 더 깨끗한 환경을 제공합니다.
요약하면, 진공 챔버의 최소 압력은 다양한 고정밀 과학 및 산업 응용 분야에 필수적인 특수 UHV 챔버의 경우 100 나노파스칼(10^-7 Torr)까지 낮출 수 있습니다. 이러한 저압의 정밀한 제어와 측정은 첨단 압력 게이지와 진공 챔버의 세심한 설계를 통해 가능합니다.
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