그래핀은 다양한 재료에서 다양한 방법으로 생산할 수 있으며, 가장 일반적인 탄소 공급원은 메탄가스입니다. 생산 방법에는 흑연에서 기계적으로 박리하는 '하향식' 방법과 화학 기상 증착(CVD)과 같은 '상향식' 방법이 있습니다. 철 나노 입자, 니켈 폼, 갈륨 증기와 같은 촉매도 생산 공정을 개선하는 데 사용됩니다.
탄소 공급원:
그래핀 생산의 주요 탄소 공급원은 메탄 가스입니다. 메탄은 가용성과 그래핀 합성을 위한 탄소 공급의 효율성 때문에 선호됩니다. CVD 공정에서 메탄은 그래핀 격자를 형성하는 탄소 원자를 공급하는 데 사용됩니다. 그러나 이 공정에는 기판에 탄소 증착을 돕고 비정질 탄소를 제거하여 그래핀의 품질을 개선하기 위해 수소 가스도 필요합니다. 과도한 수소는 격자 구조를 부식시켜 그래핀의 품질을 저하시킬 수 있으므로 메탄과 수소 유량 간의 균형이 매우 중요합니다.촉매 사용:
촉매는 그래핀 생산, 특히 CVD 공정에서 중요한 역할을 합니다. 철 나노입자, 니켈 폼, 갈륨 증기와 같은 촉매는 탄소 공급원의 분해와 그에 따른 기판의 탄소 증착을 촉진하여 그래핀 형성을 용이하게 합니다. 이러한 촉매는 성장 공정에 직접 사용하거나 증착 영역에서 멀리 떨어진 곳에 배치할 수 있습니다. 일부 촉매는 그래핀 형성 후 제거를 위한 추가 단계가 필요할 수 있으며, 이는 전체 공정의 복잡성과 비용에 영향을 미칠 수 있습니다.
생산 방법:
그래핀 생산은 크게 '하향식'과 '상향식' 방식으로 분류할 수 있습니다. '하향식' 방식은 흑연을 기계적으로 박리하는 방식으로, 확장성이 제한적이기 때문에 주로 연구 목적으로 사용됩니다. 이와는 대조적으로 '상향식' 방식, 특히 CVD는 대규모 생산에 널리 사용됩니다. CVD를 사용하면 구리 호일과 같은 금속 기판 위에 고품질의 대면적 그래핀 필름을 성장시킬 수 있으며, 이는 상업적 응용에 매우 중요합니다. CVD 공정은 배치 간 또는 롤투롤 공정을 사용하여 처리량을 향상시키고 더 큰 크기의 그래핀 필름을 달성하기 위해 더욱 최적화할 수 있습니다.
도전 과제와 고려 사항:
