흑연화로
수직형 고온 흑연화로
품목 번호 : GF-05
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 용량(L)
- 125 / 196 / 282 / 550 / 1000 / 1500
- 유효가열면적(mm)
- Φ400×1000 / Φ500×1000 / Φ600×1000 / Φ700×1400 / Φ900×1600 / Φ1000×2000
- 전력(KW)
- 150 / 200 / 300 / 500 / 600 / 800
- 주파수(HZ)
- 1500 / 1000
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소개
수직형 고온 흑연화로는 흑연화 실험 및 다양한 탄소재료 생산에 사용되는 고온로입니다. 빠른 온도 상승, 고효율, 균일한 온도 분포가 특징입니다. 퍼니스는 이중 알루미나 벽돌 단열재를 사용하여 단락을 방지하고 단열, 내화성 및 안정성을 보장합니다. 디지털 흐름 모니터링 시스템과 포괄적인 PLC 물, 전기, 가스 자동 제어 및 보호 시스템이 특징입니다.
응용
수직 고온 흑연화로는 다음을 포함한 다양한 산업 분야에서 널리 사용됩니다.
- 세라믹 소성
- 탄화물 성장
- 탄화
- 흑연화
- 소결
- 가열 냉각
- 브레이징
- 탈기
특징
수직형 고온 흑연화로는 사용자에게 다양한 이점을 제공하는 최고급 실험실 장비입니다. 이러한 이점은 다음과 같습니다.
- 높은 온도 균일성: 퍼니스의 독특한 설계는 퍼니스 챔버 전체에 온도가 고르게 분포되도록 보장하며, 이는 일관된 결과를 얻는 데 필수적입니다.
- 낮은 에너지 소비: 퍼니스의 이중층 알루미나 벽돌 단열재는 열 손실을 최소화하여 에너지 소비와 운영 비용을 줄입니다.
- 우수한 안정성: 퍼니스의 고성능 중주파 접촉기와 포괄적인 PLC 물, 전기, 가스 자동 제어 및 보호 시스템은 퍼니스가 안정적이고 안정적으로 작동하도록 보장합니다.
- 디지털 흐름 모니터링 시스템: 퍼니스의 디지털 흐름 모니터링 시스템은 전원 캐비닛의 물 흐름을 실시간으로 모니터링하여 퍼니스의 과열 및 손상을 방지하는 데 도움이 됩니다.
- 여러 용광로의 전원을 켜서 가열하고 전원을 꺼서 각각 냉각하여 지속적인 작업을 달성할 수 있습니다. 이 기능을 사용하면 사용자가 여러 용광로를 동시에 실행할 수 있어 생산성과 처리량이 향상될 수 있습니다.
원칙
수직형 고온 흑연화로는 흑연을 발열체로 사용하는 고온 진공로입니다. 퍼니스는 수냉식 재킷이 있는 원통형 흑연 챔버로 구성됩니다. 챔버는 흑연 벽을 통해 전류를 통과시켜 가열됩니다. 퍼니스의 온도는 전류 흐름을 조정하여 제어됩니다.
수직 고온 흑연화로는 다음을 포함한 다양한 응용 분야에 사용됩니다.
- 탄소재료의 흑연화
- 금속분말의 소결
- 금속 및 세라믹의 열처리
- 금속의 어닐링
- 결정 성장
장점
- 급속 가열 및 냉각: 흑연의 뛰어난 열-기계적 특성으로 인해 온도 변화가 빨라지고 공정 주기가 단축됩니다.
- 고온 균일성: 독특한 퍼니스 설계로 퍼니스 챔버 전체에 일관된 온도 분포가 보장됩니다.
- 낮은 에너지 소비: 이중층 알루미나 벽돌 단열재는 열 손실을 최소화하고 에너지 효율성을 향상시킵니다.
- 다중 퍼니스 작동: 단일 전원 공급 장치로 여러 퍼니스를 수용할 수 있어 지속적인 작동이 가능합니다.
- 종합적인 모니터링 및 제어: PLC 기반 시스템은 물, 전기, 가스에 대한 실시간 모니터링 및 자동 제어를 제공합니다.
- 경제성: 고온 흑연로는 고온 응용 분야에 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.
- 손쉬운 유지 관리: 흑연 핫존의 현장 교체가 간단하고 빠르며 가동 중지 시간이 최소화됩니다.
기술 매개변수 및 사양
로 체온 균일성: 중주파 유도 가열을 사용하여 온도가 빠르게 상승하고 효율이 높습니다. 독특한 퍼니스 디자인은 퍼니스 체온 균일성을 크게 향상시킵니다.
낮은 에너지 소비 및 우수한 안정성: 이중층 알루미나 벽돌 단열재는 탄소 펠트와 코일 사이의 단락을 방지하고 단열 및 내화성이 우수하며 열 손실이 적고 장비 안정성이 우수한 데 사용됩니다.
소결 공정 시간의 필요에 따라 단일 전원 공급 장치를 여러 전기로로 구성할 수 있으며, 여러 전기로의 전원을 켜서 각각 가열하고 전원을 끄고 냉각하여 연속 작동을 달성할 수 있습니다.
디지털 흐름 모니터링 시스템, 전원 캐비닛의 각 물 흐름 모니터링 및 보호 채널, 고성능 중주파 접촉기를 사용한 용광로 변환; 포괄적인 PLC 물, 전기, 가스 자동 제어 및 보호 시스템.
제품 모델 사양 | GF-05-Ф40×100 | GF-05-Ф50×100 | GF-05-Ф60×100 | GF-05-Ф70×140 | GF-05-Ф90×160 | GF-05-Ф100×200 |
---|---|---|---|---|---|---|
용량(L) | 125 | 196 | 282 | 550 | 1000 | 1500 |
정격온도(C) | 2800 | 2800 | 2800 | 2800 | 2800 | 2600 |
한계온도(C) | 3100 | 3100 | 3100 | 3100 | 300 | 2800 |
유효가열면적(mm) | Ф400×1000 | Ф500×1000 | Ф600×1000 | Ф700×1400 | Ф900×1600 | Ф1000×2000 |
전력(KW) | 150 | 200 | 300 | 500 | 600 | 800 |
주파수(HZ) | 1500 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 | 1000 |
온도 조절 방법 | 일본 시마 전기 온도 조절기 | |||||
가열 방식 | 유도 가열 | |||||
진공 시스템 | 회전 날개 진공 펌프(고진공 요구 사항의 경우 루츠 진공 펌프 및 오일 확산 펌프가 필요함) | |||||
소결분위기 | N² Ar 및 기타 가스 | |||||
정격전원전압(V) | 380 | |||||
정격 가열 전압(V) | 750 | |||||
진공 한계(Pa) | 100(진공냉각상태) |
FAQ
흑연화로란 무엇인가요?
CVD로란?
화학 기상 증착(CVD)은 가열, 플라즈마 여기 또는 빛 방사와 같은 다양한 에너지원을 사용하여 기상 또는 기체-고체 계면에서 기체 또는 증기 화학 물질을 화학적으로 반응시켜 반응기에서 고체 침전물을 형성하는 기술입니다. 화학 반응. 간단히 말해서 두 가지 이상의 기체 상태의 원료를 반응 챔버에 넣은 다음 서로 반응하여 새로운 물질을 형성하고 기판 표면에 증착합니다.
CVD로는 고온 관상로 장치, 가스 제어 장치 및 진공 장치가 있는 하나의 결합된로 시스템으로 복합 재료 준비, 마이크로 전자 공정, 반도체 광전자, 태양 에너지 이용, 광섬유 통신, 초전도체의 실험 및 생산에 널리 사용됩니다. 기술, 보호 코팅 분야.
진공로는 어떤 용도로 사용되나요?
관상로란 무엇입니까?
실험실 용광로는 하나의 고전적인 외부 가열 고온 용광로이며 고온 벽 가열로라고도합니다.
다른 작동 온도에 따라 퍼니스 튜브 재료는 일반적으로 투명한 석영 튜브, 고순도 알루미나 세라믹 튜브 및 고강도 금속 합금 튜브가 될 수 있습니다.
다양한 열 연구 목적을 충족하기 위해 튜브 퍼니스는 다중 가열 영역으로 설계되어 튜브 작업 챔버에서 온도 구배를 유연하게 제어할 수 있습니다. 용광로 튜브는 제어된 대기 작업 환경 또는 고진공 작업 환경에서 작동할 수 있습니다.
머플로는 무엇을 위해 사용됩니까?
치과 용광로는 무엇입니까?
고무 가공 기계의 주요 유형은 무엇인가요?
수직형 고온 흑연로와 고온 흑연(HTG)로의 차이점은 무엇입니까?
수직형 고온 흑연화로의 목적은 무엇입니까?
흑연 용광로의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
CVD 전기로는 어떻게 작동합니까?
CVD로 시스템은 고온 튜브로 장치, 반응 가스 소스 정밀 제어 장치, 진공 펌프 스테이션 및 해당 조립 부품으로 구성됩니다.
진공 펌프는 반응 튜브에서 공기를 제거하고 반응 튜브 내부에 원치 않는 가스가 없는지 확인한 후 튜브 퍼니스가 반응 튜브를 목표 온도로 가열한 다음 반응 가스 소스 정밀 제어 장치가 다른 도입할 수 있음을 확인합니다. 화학 반응을 위해 로 튜브에 설정된 비율로 가스를 넣으면 화학 기상 증착이 CVD 로에서 형성됩니다.
열분해로는 무엇입니까?
진공로의 공정은 무엇입니까?
진공 핫 프레스 퍼니스의 목적은 무엇입니까?
관상로는 어떻게 작동합니까?
관로 가열 요소는 원통형 캐비티 주변에 배치되며, 퍼니스는 간접 열 복사를 통해서만 원통형 캐비티의 샘플을 가열할 수 있습니다. 퍼니스 튜브는 샘플 재료가 퍼니스 가열 요소 및 단열재와 접촉하는 것을 방지할 수 있으므로 튜브 퍼니스는 깨끗한 절연을 생성합니다. 챔버를 가열하고 용광로에 의해 시료 물질이 오염될 위험을 줄입니다.
회전식 관상로는 무엇입니까?
머플로의 종류는 무엇입니까?
치과 용광로의 다른 유형은 무엇입니까?
전기로타리킬른이란?
트윈 스크류 압출기 플라스틱 과립 기계의 작동 원리는 무엇입니까?
흑연 용광로에는 어떤 종류가 있나요?
CVD 공정에 사용되는 가스는?
CVD 공정에는 엄청난 가스 소스가 사용될 수 있으며 CVD의 일반적인 화학 반응에는 열분해, 광분해, 환원, 산화, 산화 환원이 포함되므로 이러한 화학 반응에 관련된 가스를 CVD 공정에서 사용할 수 있습니다.
CVD 그래핀 성장을 예로 들면 CVD 공정에 사용되는 가스는 CH4,H2,O2 및 N2입니다.
열분해로는 어떻게 작동하나요?
회전로 유형은 무엇입니까?
진공로에서 사용되는 가스는?
진공 핫 프레스 퍼니스의 장점은 무엇입니까?
관상로의 용도는 무엇입니까?
관로는 주로 야금, 유리, 열처리, 리튬 양극 및 음극 재료, 신 에너지, 연마재 및 기타 산업에 사용되며 특정 온도 조건에서 재료를 측정하는 전문 장비입니다.
관상로는 간단한 구조, 쉬운 작동, 쉬운 제어 및 연속 생산을 특징으로 합니다.
관상로는 또한 CVD(화학 기상 증착) 및 플라즈마 강화 CVD 시스템에 널리 적용됩니다.
회전식 관상로는 어떻게 작동합니까?
머플로는 화학에서 무엇입니까?
치과 용광로의 온도는 무엇입니까?
전기 로터리 가마는 어떻게 작동합니까?
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왜 바이오매스의 열분해인가?
흑연화로는 어떻게 작동하나요?
CVD 시스템의 장점은 무엇입니까?
- 필요에 따라 금속막, 비금속막, 다성분 합금막 등 다양한 피막을 생산할 수 있습니다. 동시에 GaN, BP 등 다른 방법으로는 얻기 힘든 고품질 결정을 제조할 수 있다.
- 필름 형성 속도는 빠르며 일반적으로 분당 수 미크론 또는 분당 수백 미크론입니다. LPE(액상 에피택시) 및 MBE(분자선 에피택시)와 같은 다른 필름 제조 방법과 비교할 수 없는 균일한 조성으로 많은 양의 코팅을 동시에 증착할 수 있습니다.
- 작업 조건은 상압 또는 저진공 조건에서 수행되므로 코팅은 회절이 좋으며 복잡한 형상의 작업물을 균일하게 코팅할 수 있어 PVD보다 훨씬 우수합니다.
- 반응 기체, 반응 생성물 및 기질의 상호 확산으로 인해 내마모성 및 부식 방지 필름과 같은 표면 강화 필름을 제조하는 데 중요한 접착 강도가 우수한 코팅을 얻을 수 있습니다.
- 일부 필름은 필름 재료의 녹는점보다 훨씬 낮은 온도에서 성장합니다. 저온 성장 조건에서는 반응 가스와 반응기 벽 및 그 안에 포함된 불순물이 거의 반응하지 않아 순도가 높고 결정성이 좋은 막을 얻을 수 있다.
- 화학 기상 증착은 매끄러운 증착 표면을 얻을 수 있습니다. 이는 LPE와 비교하여 화학적 기상 증착(CVD)이 고포화 상태에서 수행되어 높은 핵 생성 속도, 높은 핵 생성 밀도 및 전체 평면에 균일한 분포로 인해 거시적으로 매끄러운 표면을 생성하기 때문입니다. 동시에 화학 기상 증착에서 분자(원자)의 평균 자유 경로는 LPE보다 훨씬 크므로 분자의 공간 분포가 더 균일하여 매끄러운 증착 표면을 형성하는 데 도움이 됩니다.
- MOS(금속산화물반도체) 및 기타 소자 제조에 필요한 조건인 낮은 Radiation Damage
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관상로는 다양한 기계적 기능과 원활하게 작동할 수 있으므로 실험 목적에 따라 다양한 유형의 관상로 변형이 있으며 일반적인 용광로는 다음과 같습니다.
- 수평 튜브로
- 수직 튜브로
- 분할 튜브로
- 회전식 튜브로
- 틸팅 튜브로
- 슬라이딩 튜브로
- 빠른 가열 및 냉각 튜브 퍼니스
- 연속 공급 및 방전 관로
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PECVD는 무엇을 의미합니까?
PECVD는 플라즈마를 이용하여 반응 가스를 활성화하고 기판 표면 또는 표면 공간 근처에서 화학 반응을 촉진하여 고체 막을 생성하는 기술입니다. 플라즈마 화학 기상 증착 기술의 기본 원리는 RF 또는 DC 전기장의 작용하에 소스 가스가 이온화되어 플라즈마를 형성하고 저온 플라즈마를 에너지 원으로 사용하고 적절한 양의 반응 가스가 플라즈마 방전을 이용하여 반응가스를 활성화시켜 화학기상증착을 구현한다.
플라즈마를 발생시키는 방법에 따라 RF 플라즈마, DC 플라즈마 및 마이크로파 플라즈마 CVD 등으로 나눌 수 있습니다.
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CVD와 PECVD의 차이점은 무엇입니까?
PECVD와 기존 CVD 기술의 차이점은 플라즈마가 화학 기상 증착 공정에 필요한 활성화 에너지를 제공할 수 있는 많은 수의 고에너지 전자를 포함하여 반응 시스템의 에너지 공급 모드를 변경한다는 것입니다. 플라즈마의 전자 온도는 10000K만큼 높기 때문에 전자와 가스 분자 간의 충돌은 반응 가스 분자의 화학 결합 파괴 및 재결합을 촉진하여 더 많은 활성 화학 그룹을 생성하는 반면 전체 반응 시스템은 더 낮은 온도를 유지합니다.
따라서 CVD 공정에 비해 PECVD는 더 낮은 온도에서 동일한 화학 기상 증착 공정을 수행할 수 있습니다.
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분위기 용광로에 대한 종합 가이드: 유형, 애플리케이션 및 이점
자세한 가이드를 통해 분위기 용광로의 세계를 살펴보세요. 용광로의 종류, 야금학 및 그 밖의 응용 분야, 정밀한 재료 열처리를 위한 용광로의 이점에 대해 알아보세요.
몰리브덴 진공로: 고온 소결 및 고급 응용 분야
고온 소결 및 재료 처리에서 몰리브덴 진공로의 고급 기능과 응용 분야를 살펴보세요. 구성, 제어 시스템 및 유지보수 팁에 대해 알아보세요.
스파크 플라즈마 소결(SPS) 용광로의 고급 기능 살펴보기
스파크 플라즈마 소결(SPS) 용광로와 그 혁신적인 기술, 그리고 재료 과학 분야의 응용 분야에 대해 자세히 알아보세요. SPS 용광로가 어떻게 고속, 효율성, 정밀성을 통해 소결 공정을 혁신하는지 알아보세요.
고압 튜브 용광로에 대한 궁극의 가이드: 용도, 유형 및 이점
재료 과학에서의 응용 분야, 수평 및 수직과 같은 유형, 정밀한 고온 공정을 위한 주요 이점 등 고압 튜브 용광로에 대한 종합적인 가이드를 살펴보세요.
대기 용광로: 제어 열처리에 대한 종합 가이드
자세한 가이드를 통해 첨단 대기로의 세계를 살펴보세요. 다양한 산업에서의 작동, 응용 분야 및 이점에 대해 알아보세요. 제어 열처리에 대한 심층적인 지식을 원하는 분들에게 적합합니다.