화학 기상 증착(CVD)은 균일한 두께로 조밀하고 순수한 코팅을 성장시키는 매우 다재다능하고 빠른 방법입니다.
이는 열 또는 플라즈마에 의해 구동되는 기체 화학 전구체의 화학 반응을 통해 기판에 박막을 생성하는 상향식 접근 방식입니다.
알아야 할 5가지 핵심 사항
1. 높은 증착 속도
CVD는 비교적 빠른 박막 증착 방법입니다.
특히 증착 공정을 향상시키기 위해 플라즈마를 사용할 때 높은 증착 속도를 제공합니다.
2. 플라즈마 강화 CVD(PECVD)
플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)은 반응물이 플라즈마 형태이므로 낮은 기판 온도에서 증착 속도를 향상시킬 수 있습니다.
따라서 다양한 기판에 질화규소, 비정질 실리콘, 미세 결정 실리콘과 같은 재료의 박막을 증착하는 데 적합합니다.
3. 레이저 화학 기상 증착
레이저 화학 기상 증착을 사용하여 CVD 공정의 속도를 높일 수도 있습니다.
이 방법에서는 레이저 빔을 사용하여 기판의 일부를 가열하여 가열된 쪽에서 증착이 더 빠르게 일어나도록 합니다.
4. 추가 장점
화학 기상 증착은 빠른 증착 속도 외에도 몇 가지 다른 장점이 있습니다.
비교적 저렴한 코팅 방법이며 다양한 원소 및 화합물을 코팅하는 데 사용할 수 있습니다.
결과물인 코팅은 순도가 높고 접착력이 뛰어납니다.
또한 이 공정은 균일한 코팅이 가능하며, 비시선 공정이므로 대상 재료와 기판 사이에 직접적인 시선이 필요하지 않으므로 한 번의 반응으로 여러 부품을 코팅할 수 있습니다.
5. 응용 분야
또한 화학 기상 증착은 초박막 층을 생성할 수 있어 전기 회로와 같이 얇은 코팅이 필요한 응용 분야에 이상적입니다.
전반적으로 화학 기상 증착은 다른 증착 기술에 비해 여러 가지 장점을 가진 다목적의 빠르고 효율적인 박막 증착 방법입니다.
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