지식 저온 압력에서 PECVD로 증착된 이산화규소 필름의 특성은 무엇인가요? 8가지 핵심 포인트
작성자 아바타

기술팀 · Kintek Solution

업데이트됨 1 month ago

저온 압력에서 PECVD로 증착된 이산화규소 필름의 특성은 무엇인가요? 8가지 핵심 포인트

저온 및 저압에서 플라즈마 기상 증착(PECVD)으로 증착된 이산화규소 필름은 첨단 전자 애플리케이션에 이상적인 몇 가지 고유한 특성을 제공합니다.

PECVD로 증착된 이산화규소 필름의 8가지 핵심 사항

저온 압력에서 PECVD로 증착된 이산화규소 필름의 특성은 무엇인가요? 8가지 핵심 포인트

1. 낮은 증착 온도

PECVD 공정을 사용하면 기존의 화학 기상 증착(CVD) 방법보다 훨씬 낮은 온도에서 이산화규소 필름을 증착할 수 있습니다.

일반적으로 300°C에서 350°C 범위인데, CVD에서는 650°C에서 850°C가 필요합니다.

이러한 저온 작업은 기판의 열 손상을 최소화하고 필름과 기판 재료 사이의 상호 확산 및 반응을 감소시키기 때문에 매우 중요합니다.

2. 내부 스트레스 감소

PECVD의 낮은 증착 온도는 필름과 모재 사이의 선팽창 계수 불일치로 인해 발생하는 내부 응력을 줄이는 데 도움이 됩니다.

이는 기판에서 필름의 구조적 무결성과 접착력을 유지하는 데 중요합니다.

3. 높은 증착률

PECVD는 낮은 온도에도 불구하고 다른 CVD 공정과 비슷한 수준의 높은 증착률을 달성합니다.

이러한 효율성은 처리량이 중요한 산업 분야에 특히 유용합니다.

4. 비정질 및 미세 결정질 필름

PECVD로 촉진되는 저온 증착은 비정질 및 미세 결정질 필름을 얻는 데 도움이 됩니다.

이러한 유형의 필름은 균일하고 안정적인 특성으로 인해 많은 전자 응용 분야에서 바람직합니다.

5. 균일한 필름 특성 및 두께

PECVD 시스템의 독점적인 반응기 설계는 기판 표면 전체에 걸쳐 균일한 가스 분포와 온도 프로파일을 보장합니다.

그 결과 전자 장치에서 증착된 필름의 신뢰성과 성능에 필수적인 매우 균일한 필름 특성과 두께를 얻을 수 있습니다.

6. 우수한 스텝 커버리지

PECVD는 우수한 스텝 커버리지를 제공하므로 필름이 기판의 복잡한 지형을 순응적으로 코팅할 수 있습니다.

이는 복잡한 전자 부품을 효과적으로 절연하고 보호하는 데 매우 중요합니다.

7. 탁월한 재료 특성 제어

PECVD를 사용하면 굴절률, 응력, 경도 등 다양한 재료 특성을 정밀하게 제어할 수 있습니다.

이러한 정밀도는 특정 애플리케이션 요구 사항에 맞게 필름 특성을 조정하는 데 필수적입니다.

8. VLSI 및 ULSI 생산에의 적용

PECVD 기술은 초대형 집적 회로(VLSI, ULSI) 생산에 성공적으로 적용되었습니다.

보호 실리콘 질화물 필름, 층간 절연 실리콘 산화물 필름을 형성하고 액티브 매트릭스 LCD 디스플레이용 박막 트랜지스터(TFT)를 생산하는 데 사용됩니다.

계속 알아보기, 전문가와 상담하기

킨텍 솔루션과 함께 반도체 필름 기술의 미래를 발견하세요! 당사의 최첨단 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 시스템은 다음과 같은 비할 데 없는 이점을 제공합니다.낮은 증착 온도,내부 스트레스 감소,높은 증착률균일한 필름 특성. 정밀하게 설계된 PECVD 시스템으로 반도체 제조 공정을 개선하고 VLSI 및 ULSI 생산의 혁신을 주도하십시오. 우수한 재료 특성과 업계 최고의 성능을 제공하는 킨텍 솔루션을 신뢰하십시오.지금 바로 연락하여 귀사의 전자 애플리케이션을 혁신하십시오!

관련 제품

플라즈마 강화 증발 증착 PECVD 코팅기

플라즈마 강화 증발 증착 PECVD 코팅기

PECVD 코팅 장비로 코팅 공정을 업그레이드하십시오. LED, 전력 반도체, MEMS 등에 이상적입니다. 저온에서 고품질의 고체 필름을 증착합니다.

적외선 실리콘 / 고저항 실리콘 / 단결정 실리콘 렌즈

적외선 실리콘 / 고저항 실리콘 / 단결정 실리콘 렌즈

실리콘(Si)은 근적외선(NIR) 범위(약 1μm ~ 6μm) 응용 분야에서 가장 내구성이 뛰어난 광물 및 광학 소재 중 하나로 널리 알려져 있습니다.

RF PECVD 시스템 무선 주파수 플라즈마 강화 화학 기상 증착

RF PECVD 시스템 무선 주파수 플라즈마 강화 화학 기상 증착

RF-PECVD는 "Radio Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition"의 약어입니다. 게르마늄 및 실리콘 기판에 DLC(Diamond-like carbon film)를 증착합니다. 그것은 3-12um 적외선 파장 범위에서 활용됩니다.

내마모성 실리콘 카바이드(SIC) 세라믹 시트

내마모성 실리콘 카바이드(SIC) 세라믹 시트

탄화규소 세라믹 시트는 고순도 탄화규소와 초미세 분말로 구성되어 있으며, 진동 성형과 고온 소결로 형성됩니다.

실리콘 카바이드(SIC) 세라믹 플레이트

실리콘 카바이드(SIC) 세라믹 플레이트

질화규소(sic) 세라믹은 소결 중에 수축하지 않는 무기 재료 세라믹입니다. 고강도, 저밀도, 고온 내성 공유 결합 화합물입니다.

질화 규소(SiNi) 세라믹 시트 정밀 가공 세라믹

질화 규소(SiNi) 세라믹 시트 정밀 가공 세라믹

질화규소 판은 고온에서 균일한 성능을 발휘하기 때문에 야금 산업에서 일반적으로 사용되는 세라믹 소재입니다.

실험실용 플로트 소다석회 광학유리

실험실용 플로트 소다석회 광학유리

박막/후막 증착을 위한 절연 기판으로 널리 선호되는 소다석회 유리는 용융 주석 위에 용융 유리를 부유시켜 만듭니다. 이 방법은 균일한 두께와 예외적으로 평평한 표면을 보장합니다.

CVD 다이아몬드 코팅

CVD 다이아몬드 코팅

CVD 다이아몬드 코팅: 절삭 공구, 마찰 및 음향 응용 분야를 위한 탁월한 열 전도성, 결정 품질 및 접착력

고순도 실리콘(Si) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

고순도 실리콘(Si) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

실험실용 고품질 실리콘(Si) 재료를 찾고 계십니까? 더 이상 보지 마세요! 당사의 맞춤형 실리콘(Si) 재료는 고유한 요구 사항에 맞게 다양한 순도, 모양 및 크기로 제공됩니다. 스퍼터링 타겟, 분말, 포일 등을 찾아보십시오. 지금 주문하세요!

고순도 이산화규소(SiO2) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

고순도 이산화규소(SiO2) 스퍼터링 타겟 / 분말 / 와이어 / 블록 / 과립

실험실용 이산화규소 재료를 찾고 계십니까? 당사의 전문적으로 맞춤화된 SiO2 재료는 다양한 순도, 모양 및 크기로 제공됩니다. 오늘 당사의 다양한 사양을 살펴보십시오!

적외선 투과 코팅 사파이어 시트 / 사파이어 기판 / 사파이어 창

적외선 투과 코팅 사파이어 시트 / 사파이어 기판 / 사파이어 창

사파이어로 제작된 기판은 비교할 수 없는 화학적, 광학적 및 물리적 특성을 자랑합니다. 열충격, 고온, 모래 침식 및 물에 대한 놀라운 저항력으로 차별화됩니다.

인발다이나노다이아몬드 코팅 HFCVD 장비

인발다이나노다이아몬드 코팅 HFCVD 장비

나노 다이아몬드 복합 코팅 드로잉 다이는 초경합금(WC-Co)을 기판으로 사용하고 화학 기상법(줄여서 CVD법)을 사용하여 금형 내부 구멍 표면에 기존 다이아몬드와 나노 다이아몬드 복합 코팅을 코팅합니다.


메시지 남기기