CVD 및 PECVD 전기로
경사 회전 플라즈마 강화 화학 기상 증착 PECVD 장비 튜브 퍼니스 기계
품목 번호 : KT-PED
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 시료 홀더 가열 온도
- ≤800℃
- 가스 퍼지 채널
- 4 채널
- 진공 챔버 크기
- Φ500mm × 550 mm
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소개
플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)은 증기 또는 가스를 전구체로 사용하여 코팅을 생성하는 진공 박막 증착 공정입니다. PECVD는 화학 기상 증착(CVD)의 변형으로, 열 대신 플라즈마를 사용하여 소스 가스 또는 증기를 활성화합니다. 고온을 피할 수 있기 때문에 가능한 기판의 범위가 저융점 재료, 경우에 따라 플라스틱까지 확장됩니다. 또한 증착할 수 있는 코팅 재료의 범위도 넓어집니다. PECVD는 유전체, 반도체, 금속, 절연체를 포함한 다양한 재료를 증착하는 데 사용됩니다. PECVD 코팅은 태양 전지, 평판 디스플레이, 마이크로일렉트로닉스를 포함한 광범위한 응용 분야에 사용됩니다.
응용 분야
플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 코팅 기계는 다양한 산업 및 응용 분야에 대한 다용도 솔루션을 제공합니다:
- LED 조명:** 발광 다이오드(LED)용 고품질 유전체 및 반도체 필름 증착.
- 전력 반도체:** 전력 반도체 장치의 절연층, 게이트 산화물 및 기타 중요 부품 형성.
- MEMS:** 센서 및 액추에이터와 같은 마이크로 전기 기계 시스템(MEMS)용 박막 제작.
- 광학 코팅:** 반사 방지 코팅, 광학 필터 및 기타 광학 부품 증착.
- 박막 태양 전지:** 태양 전지 장치용 비정질 및 미세 결정질 실리콘 박막 생산.
- 표면 개질:** 내식성, 내마모성, 생체 적합성과 같은 표면 특성 향상.
- 나노 기술:** 나노 입자, 나노 와이어 및 박막을 포함한 나노 물질 합성.
특징
플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD) 코팅 기계는 생산성을 향상시키고 탁월한 결과를 제공하는 수많은 이점을 제공합니다:
- 저온 증착: 기존 CVD 방법보다 훨씬 낮은 온도에서 고품질 필름을 형성할 수 있어 민감한 기판에 적합합니다.
- 높은 증착 속도: 필름을 빠르게 증착하여 효율성을 극대화하고 생산 시간을 단축하며 출력을 늘립니다.
- 균일하고 균열 방지 필름: 일관된 필름 특성을 보장하고 균열 위험을 최소화하여 신뢰할 수 있고 내구성 있는 코팅을 제공합니다.
- 기판에 대한 우수한 접착력: 필름과 기판 사이에 강력한 결합을 제공하여 오래 지속되는 성능을 보장하고 박리를 방지합니다.
- 다용도 코팅 기능: 다양한 응용 요구 사항을 충족하기 위해 SiO2, SiNx, SiOxNy 및 기타 매체 필름을 포함한 광범위한 재료를 증착할 수 있습니다.
- 복잡한 형상에 대한 맞춤화: 복잡한 모양의 기판을 수용하여 균일한 코팅과 최적의 성능을 보장합니다.
- 낮은 유지 보수 및 쉬운 설치: 가동 중지 시간을 최소화하고 설정을 단순화하여 생산성과 비용 효율성을 향상시킵니다.
기술 사양
| 샘플 홀더 | 크기 | 1-6인치 |
| 회전 속도 | 0-20rpm 조절 가능 | |
| 가열 온도 | ≤800℃ | |
| 제어 정확도 | ±0.5℃ SHIMADEN PID 컨트롤러 | |
| 가스 퍼지 | 유량계 | MASS FLOWMETER CONTROLLER (MFC) |
| 채널 | 4 채널 | |
| 냉각 방식 | 순환수 냉각 | |
| 진공 챔버 | 챔버 크기 | Φ500mm X 550mm |
| 관찰 포트 | 배플이 있는 전체 보기 포트 | |
| 챔버 재질 | 316 스테인리스 스틸 | |
| 도어 유형 | 전면 개방형 도어 | |
| 캡 재질 | 304 스테인리스 스틸 | |
| 진공 펌프 포트 | CF200 플랜지 | |
| 가스 입구 포트 | φ6 VCR 커넥터 | |
| 플라즈마 전원 | 소스 전원 | DC 전원 또는 RF 전원 |
| 커플링 모드 | 유도 결합 또는 평판 정전 용량 | |
| 출력 전력 | 500W—1000W | |
| 바이어스 전력 | 500v | |
| 진공 펌프 | 예비 펌프 | 15L/S 베인 진공 펌프 |
| 터보 펌프 포트 | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| 릴리프 포트 | KF25 | |
| 펌프 속도 | 베인 펌프:15L/s, 터보 펌프:1200l/s 또는 1600l/s | |
| 진공도 | ≤5×10-5Pa | |
| 진공 센서 | 이온화/저항 진공 게이지/필름 게이지 | |
| 시스템 | 전원 공급 장치 | AC 220V /380 50Hz |
| 정격 전력 | 5kW | |
| 치수 | 900mm X 820mm X870mm | |
| 무게 | 200kg |
원리
플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)은 증착 중에 플라즈마를 사용하여 화학 반응을 촉진하여 저온에서 고품질의 고체 필름을 형성할 수 있습니다. 고에너지 플라즈마를 사용하여 PECVD 기계는 반응 속도를 높이고 반응 온도를 낮춥니다. 이 기술은 LED 조명, 전력 반도체 및 MEMS에 널리 사용됩니다. SiO2, SiNx, SiOxNy 및 기타 매체 필름을 증착할 수 있을 뿐만 아니라 복합 기판에 SiO 두꺼운 필름을 고속으로 증착할 수 있습니다. PECVD는 우수한 필름 형성 품질을 제공하고 핀홀을 최소화하며 균열을 줄여 비정질 및 미세 결정질 실리콘 박막 태양 전지 장치를 생산하는 데 적합합니다.
장점
- 다양한 재료 증착 가능: PECVD는 다이아몬드 유사 탄소, 실리콘 화합물, 금속 산화물을 포함한 광범위한 재료를 증착할 수 있어 맞춤형 특성을 가진 필름을 만들 수 있습니다.
- 저온 작동: PECVD는 저온(일반적으로 300-450°C)에서 작동하므로 열에 민감한 기판에 적합합니다.
- 고품질 박막: PECVD는 탁월한 균일성, 두께 제어 및 균열 저항성을 가진 박막을 생산합니다.
- 우수한 접착력: PECVD로 증착된 필름은 기판에 대한 강력한 접착력을 보여 내구성과 신뢰성을 보장합니다.
- 등각 코팅: PECVD는 복잡한 형상에 대한 코팅을 가능하게 하여 균일한 커버리지와 보호를 제공합니다.
- 높은 증착 속도: PECVD는 빠른 증착 속도를 제공하여 생산성을 높이고 생산 시간을 단축합니다.
- 낮은 유지 보수: PECVD 시스템은 유지 보수가 적도록 설계되어 가동 중지 시간을 최소화하고 가동 시간을 최대화합니다.
- 쉬운 설치: PECVD 장비는 설치 및 기존 생산 라인 통합이 비교적 쉽습니다.
- 견고한 설계: PECVD 시스템은 견고한 설계를 기반으로 제작되어 안정성과 오래 지속되는 성능을 보장합니다.
- 연장된 작업 수명: PECVD 시스템은 수명이 길도록 설계되어 장기적인 박막 증착 요구에 대한 비용 효율적인 솔루션을 제공합니다.
경고
작업자 안전이 가장 중요한 문제입니다! 주의하여 장비를 작동하십시오. 인화성 및 폭발성 또는 독성 가스로 작업하는 것은 매우 위험하므로 작업자는 장비를 시작하기 전에 필요한 모든 예방 조치를 취해야 합니다. 반응기 또는 챔버 내부에서 양압으로 작업하는 것은 위험하므로 작업자는 안전 절차를 엄격히 준수해야 합니다. 특히 진공 상태에서 공기 반응성 물질을 사용하여 작동할 때는 각별한 주의를 기울여야 합니다. 누출은 장치 안으로 공기를 빨아들여 격렬한 반응을 일으킬 수 있습니다.
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FAQ
PECVD 방법이란?
MPCVD란 무엇입니까?
PECVD는 무엇을 위해 사용됩니까?
MPcvd 머신이란 무엇입니까?
PECVD의 장점은 무엇입니까?
MPcvd의 장점은 무엇입니까?
ALD와 PECVD의 차이점은 무엇입니까?
CVD 다이아몬드는 진짜입니까 아니면 가짜입니까?
PECVD와 스퍼터링의 차이점은 무엇입니까?
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