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인발 다이 나노 다이아몬드 코팅용 HFCVD 장비 시스템

MPCVD

인발 다이 나노 다이아몬드 코팅용 HFCVD 장비 시스템

품목 번호 : MP-CVD-100

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HFCVD 화학 기상 증착 다이아몬드의 작동 원리는 다음과 같습니다. 과포화 수소와 탄소 함유 분위기를 혼합하고 특정 방식으로 활성화한 다음, 특정 분위기 조성, 활성화 에너지, 기판 온도, 기판과 활성화 소스 간의 거리를 통과시킵니다. 이러한 조건에서 바닥 표면에 다이아몬드 필름이 증착됩니다. 일반적으로 다이아몬드 필름의 핵 생성 및 성장은 세 단계로 나눌 수 있습니다.

  1. 탄소 함유 가스와 라돈 가스가 특정 온도에서 탄소, 수소 원자 및 기타 활성 자유 라디칼로 분해됩니다. 이들은 매트릭스와 결합하여 매우 얇은 탄화물 전이층을 먼저 형성합니다.
  2. 탄소 원자는 기판에 형성된 전이층에 다이아몬드 핵을 증착합니다.
  3. 형성된 다이아몬드 결정 핵은 적절한 환경에서 다이아몬드 미세 항목으로 성장한 다음 다이아몬드 필름으로 성장합니다.

Detail & Parts

Working scene of wire drawing die nano diamond coating HFCVD equipment detial coating platform detail 01 coating platform detail 02 nano diamond coated drawing die detial 01 nano diamond coated drawing die detial 02

Technical specifications

 HFCVD 기술 구성
기술 매개변수  장비 구성 시스템 구성
 벨 자: 직경 500mm, 높이 550mm, SUS304 스테인리스 스틸 챔버; 내부 스테인리스 스틸 스킨 단열, 리프팅 높이 350mm; 진공 챔버(벨 자) 본체 1세트(자켓형 수냉 구조)  진공 챔버(벨 자) 본체; 공동은 고품질 304 스테인리스 스틸로 제작됩니다. 수직 벨 자: 자켓형 수냉 자켓이 벨 자 전체 외부에 설치됩니다. 벨 자의 내부 벽은 스테인리스 스틸 스킨으로 단열되어 있으며, 벨 자는 측면에 고정됩니다. 정확하고 안정적인 위치 지정; 관찰 창: 진공 챔버 중간에 수평으로 배치된 200mm 관찰 창, 수냉, 배플, 측면 및 상단 구성 45도 경사 각도, 50도 관찰 창 (수평 관찰 창 및 샘플 지지대와 동일한 지점 관찰); 두 개의 관찰 창은 기존 위치와 크기를 유지합니다. 벨 자 하단은 벤치 평면보다 20mm 높으며, 냉각 장치가 설치됩니다. 대형 밸브, 배기 밸브, 공기 압력 측정, 바이패스 밸브 등 평면에 예약된 구멍은 금속 메쉬로 밀봉되어 전극 인터페이스 설치를 위해 예약됩니다.
 장비 테이블: L1550* W900*H1100mm  드래그 샘플 테이블 장치 1세트(듀얼 축 구동 방식)  샘플 홀더 장치: 스테인리스 스틸 샘플 홀더(용접 수냉) 6구 장치; 개별적으로 조정 가능하며, 상하 조정만 가능하고, 상하 조정 범위는 25mm이며, 좌우 흔들림은 상하 이동 시 3% 미만이어야 합니다(즉, 1mm 상승 또는 하강 시 좌우 흔들림은 0.03mm 미만). 샘플 스테이지는 상승 또는 하강 시 회전하지 않습니다.
최고 진공도: 2.0×10-1Pa ; 진공 시스템 1세트  진공 시스템: 진공 시스템 구성: 기계식 펌프 + 진공 밸브 + 물리적 블리드 밸브 + 메인 배기 파이프 + 바이패스; (진공 펌프 공급업체 제공), 진공 밸브는 공압 밸브 사용; 진공 시스템 측정: 막 압력. 
압력 상승 속도 : ≤5Pa/h; 2채널 질량 유량계 가스 공급 시스템 가스 공급 시스템: 질량 유량계는 B사가 구성하며, 양방향 공기 흡입, 유량은 질량 유량계로 제어되며, 양방향 합류 후 상단에서 진공 챔버로 유입되며, 공기 흡입 파이프 내부는 50mm입니다.
 샘플 테이블 이동: 상하 범위 ± 25m; 상하 이동 시 좌우 흔들림 비율 ± 3% 요구됨; 전극 장치 1세트(2채널) 전극 장치: 4개의 전극 구멍의 길이 방향은 지지대 플랫폼의 길이 방향과 평행하며, 길이 방향은 200mm 직경의 메인 관찰 창을 향합니다.
 작동 압력: 막 게이지 압력계 사용, 측정 범위: 0 ~ 10kPa; 1kPa ~ 5kPa에서 일정하게 작동하며, 일정 압력 값은 ± 0.1kPa 변동합니다. 냉각수 시스템 1세트  냉각수 시스템: 벨 자, 전극, 하부 플레이트 모두 순환 수냉 파이프라인이 장착되어 있으며, 물 흐름 부족 경보 장치 3.7: 제어 시스템이 장착되어 있습니다. 벨 자 리프팅, 배기, 진공 펌프, 메인 라인, 바이패스, 경보, 흐름, 공기 압력 등의 스위치, 계측기, 계측기 및 전원 공급 장치는 스탠드 측면에 설정되어 있으며, 14인치 터치 스크린으로 제어됩니다. 장비는 수동 개입 없이 완전 자동 제어 프로그램을 갖추고 있으며 데이터를 저장하고 호출할 수 있습니다.
공기 흡입 위치: 벨 자 상단에서 공기 흡입, 배기 포트 위치는 샘플 홀더 바로 아래에 위치합니다.   제어 시스템
 제어 시스템: PLC 컨트롤러 + 10인치 터치 스크린  자동 압력 제어 시스템 1세트(독일산 오리지널 압력 제어 밸브)
 인플레이션 시스템: 2채널 질량 유량계, 유량 범위: 0-2000sccm 및 0-200sccm; 공압 밸브  저항 진공 게이지
3.1.10 진공 펌프: D16C 진공 펌프

Advantages

나노 다이아몬드 복합 코팅 인발 다이는 초경합금(WC-Co)을 기판으로 사용하며, 화학 기상 증착법(CVD법)을 이용하여 금형 내측 구멍 표면에 일반 다이아몬드 및 나노 다이아몬드 복합 코팅을 합니다. 연삭 및 연마 후 얻어지는 신제품입니다. 내측 구멍 표면에 코팅된 나노 다이아몬드 복합 코팅은 일반 다이아몬드 코팅의 강한 접착력과 내마모성 특성을 가질 뿐만 아니라, 나노 다이아몬드 코팅의 평탄하고 매끄러운 표면, 낮은 마찰 계수, 쉬운 연삭 및 연마의 장점을 가지고 있습니다. 코팅 기술은 코팅 접착 문제뿐만 아니라 다이아몬드 코팅 표면의 연마 어려움이라는 병목 현상을 극복하고 CVD 다이아몬드 필름의 산업화를 위한 장애물을 제거합니다. 

전통적인 인발 다이와 나노 다이아몬드 코팅 인발 다이 비교표

기술 지표

전통적인 인발 다이

나노 다이아몬드 코팅 인발 다이

코팅 표면 입자 크기

없음

20~80nm

코팅 다이아몬드 함량

없음

≥99%

다이아몬드 코팅 두께

없음

10 ~ 15mm

표면 거칠기

Ra≤0.1mm

A급: Ra≤0.1mm

B급: Ra≤0.05mm

코팅 인발 다이 내측 구멍 직경 범위

Ф3 ~ Ф70mm

Ф3 ~ Ф70mm

수명

수명은 작업 조건에 따라 다름

6-10배 더 김

표면 마찰 계수

0.8

0.1

 

  • 장비의 금형 리프팅 플랫폼의 평행도 및 직진도를 위해 당사는 특수 공구를 특별히 생산했습니다. 이축 리프팅 방식을 사용하면 양쪽 끝을 약 ±2 와이어만큼 올리고 내릴 수 있어 더 작은 금형을 만들 수 있습니다.
  • 장비의 공구에 대해 당사는 각 회사의 공구 위치를 통합하여 금형의 공구 및 공정을 목표로 합니다. 우수한 공구 및 클램핑, 안정적이고 신뢰할 수 있으며, 고정밀, 작동 용이.
  • 장비의 차단 밸브에 대해 다른 제조업체는 배플 밸브를 사용하지만 선형으로 조정할 수 없습니다(즉, 열자마자 간격이 빠르게 증가합니다). 당사는 차단 밸브 원리와 안정적인 압력 제어에 따라 설계하여 차단 간격을 선형으로 조정하여 안정적인 압력 제어를 달성할 수 있도록 합니다.
  • 완전 자동 제어 시스템은 컴퓨터 알고리즘에 따라 압력을 자동으로 제어합니다. 작업자의 임의성을 줄이고 공정을 더 기밀하게 만들 수 있습니다. 노동력을 절약하고 동일한 사양의 금형 품질 일관성이 더 이상적입니다.
  • 리프팅 벨 자의 안정성을 위해 당사는 자체 윤활 베어링을 사용하여 회전이 더 유연하고 걸림이 없습니다. 기본 공정, 각 고객의 다이아몬드 코팅 공정에 따라 다이아몬드 코팅을 만들 수 있습니다.

 

경고

작업자 안전이 가장 중요한 문제입니다! 주의하여 장비를 작동하십시오. 인화성 및 폭발성 또는 독성 가스로 작업하는 것은 매우 위험하므로 작업자는 장비를 시작하기 전에 필요한 모든 예방 조치를 취해야 합니다. 반응기 또는 챔버 내부에서 양압으로 작업하는 것은 위험하므로 작업자는 안전 절차를 엄격히 준수해야 합니다. 특히 진공 상태에서 공기 반응성 물질을 사용하여 작동할 때는 각별한 주의를 기울여야 합니다. 누출은 장치 안으로 공기를 빨아들여 격렬한 반응을 일으킬 수 있습니다.

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