진공로
진공 아크 유도 용해로
품목 번호 : KT-VA
가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의
- 용량
- 1-200 kg
- 작동 전압
- 20-40 V
- 진공 압력
- 1.3-1.3x10-2
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응용 분야
진공 아크로는 주로 티타늄, 니오븀, 지르코늄과 같은 활성 금속과 텅스텐, 몰리브덴과 같은 내화 금속을 용해하는 데 사용됩니다. 또한 철 기반, 니켈 기반, 코발트 기반 및 기타 합금 재료를 용해하는 데도 사용됩니다.
진공 아크로는 고온, 고속 용해, 뛰어난 탈기 효과, 용융 금속의 내화물 오염 없음, 금속 내 비금속 개재물 감소 가능 등의 특징이 있습니다.
진공 아크로는 학교, 연구소 및 기관에서 초고온 금속 재료, 고엔트로피 합금 재료, 모합금 재료, 내화 금속 재료, 희귀 및 귀금속 재료의 제련 및 정제에 널리 사용됩니다. 산소와 불순물을 효과적으로 제거할 수 있습니다.
세부 정보 및 부품
특징
- 로 본체는 모두 스테인리스 스틸로 되어 있어 외관이 아름답고 녹슬지 않습니다.
- 수직 원통형 진공 챔버 채택
- 대형 관찰창이 장착되어 있어 로 내부의 용해 상황을 실시간으로 관찰할 수 있습니다.
- 용해 온도가 높으며, 온도는 3500도 이상이 될 수 있습니다.
- 아크 용해용 특수 용해 전원 공급 장치 채택
- 작동 시뮬레이션 화면이 장착되어 제어 데이터가 직관적으로 표시되며 작동이 직관적이고 간단합니다.
- 고진공 설계, 진공도는 5x10E-4Pa 이상에 도달할 수 있습니다.
- 과열 보호 기능을 사용하고 필터 유리를 추가하여 눈을 보호합니다.
- 수냉식 구리 전극은 360도 회전이 가능하여 작동이 유연합니다. 동시에 수냉식 도가니는 작고 교체 가능하며 맞춤 제작할 수 있습니다.
- 재료 회전 장치가 있어 재료의 한쪽 면이 불균일하게 녹는 현상을 극복합니다.
- 진공 흡입 주조가 있는 주조 스테이션
- 장비 효율성: 대부분의 금속 재료는 1분 이내에 가열 및 재용해됩니다.
기술 사양
| 모델 | KT-VA1 | KT-VA5 | KT-VA25 | KT-VA200 |
| 용량 (Kg) | 1 | 5-15 | 25 | 200 |
| 작동 전압 (V) | 20-40 | |||
| 작동 전류 (A) | 1000A | 3000A | 6000A | 12000A |
| 진공 압력 (Pa) | 1.3-1.3x10-2 | |||
| 전극 크기 (mm) | Φ25-40 x 400 | Φ10-45x1200 | Φ30-60x1350 | Φ56-150x1745 |
| 잉곳 크기 (mm) | Φ60x100 | Φ80x135 | Φ100x400mm | Φ200x670mm |
| 치수 (m) | 0.8x0.35x1.8 | 3.81x3.0x5.21 | 4.43x3.33x4.93 | 7.4x3.4x6.72 |
경고
작업자 안전이 가장 중요한 문제입니다! 주의하여 장비를 작동하십시오. 인화성 및 폭발성 또는 독성 가스로 작업하는 것은 매우 위험하므로 작업자는 장비를 시작하기 전에 필요한 모든 예방 조치를 취해야 합니다. 반응기 또는 챔버 내부에서 양압으로 작업하는 것은 위험하므로 작업자는 안전 절차를 엄격히 준수해야 합니다. 특히 진공 상태에서 공기 반응성 물질을 사용하여 작동할 때는 각별한 주의를 기울여야 합니다. 누출은 장치 안으로 공기를 빨아들여 격렬한 반응을 일으킬 수 있습니다.
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FAQ
진공 유도로란 무엇이며 어떻게 작동하나요?
진공로는 어떤 용도로 사용되나요?
CVD로란?
화학 기상 증착(CVD)은 가열, 플라즈마 여기 또는 빛 방사와 같은 다양한 에너지원을 사용하여 기상 또는 기체-고체 계면에서 기체 또는 증기 화학 물질을 화학적으로 반응시켜 반응기에서 고체 침전물을 형성하는 기술입니다. 화학 반응. 간단히 말해서 두 가지 이상의 기체 상태의 원료를 반응 챔버에 넣은 다음 서로 반응하여 새로운 물질을 형성하고 기판 표면에 증착합니다.
CVD로는 고온 관상로 장치, 가스 제어 장치 및 진공 장치가 있는 하나의 결합된로 시스템으로 복합 재료 준비, 마이크로 전자 공정, 반도체 광전자, 태양 에너지 이용, 광섬유 통신, 초전도체의 실험 및 생산에 널리 사용됩니다. 기술, 보호 코팅 분야.
진공 유도로의 주요 응용 분야는 무엇인가요?
진공 유도 용해로는 어떻게 작동합니까?
진공 아크 용융 공정이란 무엇입니까?
진공로의 공정은 무엇입니까?
CVD 전기로는 어떻게 작동합니까?
CVD로 시스템은 고온 튜브로 장치, 반응 가스 소스 정밀 제어 장치, 진공 펌프 스테이션 및 해당 조립 부품으로 구성됩니다.
진공 펌프는 반응 튜브에서 공기를 제거하고 반응 튜브 내부에 원치 않는 가스가 없는지 확인한 후 튜브 퍼니스가 반응 튜브를 목표 온도로 가열한 다음 반응 가스 소스 정밀 제어 장치가 다른 도입할 수 있음을 확인합니다. 화학 반응을 위해 로 튜브에 설정된 비율로 가스를 넣으면 화학 기상 증착이 CVD 로에서 형성됩니다.
진공 유도로를 사용하면 어떤 이점이 있을까요?
진공 유도 용융의 장점은 무엇입니까?
VAR 진공 아크 재용해로(VAR) Furnace란 무엇입니까?
진공로에서 사용되는 가스는?
CVD 공정에 사용되는 가스는?
CVD 공정에는 엄청난 가스 소스가 사용될 수 있으며 CVD의 일반적인 화학 반응에는 열분해, 광분해, 환원, 산화, 산화 환원이 포함되므로 이러한 화학 반응에 관련된 가스를 CVD 공정에서 사용할 수 있습니다.
CVD 그래핀 성장을 예로 들면 CVD 공정에 사용되는 가스는 CH4,H2,O2 및 N2입니다.
진공 유도로에서 가공할 수 있는 재료의 종류에는 어떤 것이 있나요?
유도 용해로에서 진공이 어떻게 도움이 됩니까?
진공 아크 용해로는 어떻게 작동합니까?
진공로에서 사용되는 발열체는 무엇입니까?
CVD 시스템의 장점은 무엇입니까?
- 필요에 따라 금속막, 비금속막, 다성분 합금막 등 다양한 피막을 생산할 수 있습니다. 동시에 GaN, BP 등 다른 방법으로는 얻기 힘든 고품질 결정을 제조할 수 있다.
- 필름 형성 속도는 빠르며 일반적으로 분당 수 미크론 또는 분당 수백 미크론입니다. LPE(액상 에피택시) 및 MBE(분자선 에피택시)와 같은 다른 필름 제조 방법과 비교할 수 없는 균일한 조성으로 많은 양의 코팅을 동시에 증착할 수 있습니다.
- 작업 조건은 상압 또는 저진공 조건에서 수행되므로 코팅은 회절이 좋으며 복잡한 형상의 작업물을 균일하게 코팅할 수 있어 PVD보다 훨씬 우수합니다.
- 반응 기체, 반응 생성물 및 기질의 상호 확산으로 인해 내마모성 및 부식 방지 필름과 같은 표면 강화 필름을 제조하는 데 중요한 접착 강도가 우수한 코팅을 얻을 수 있습니다.
- 일부 필름은 필름 재료의 녹는점보다 훨씬 낮은 온도에서 성장합니다. 저온 성장 조건에서는 반응 가스와 반응기 벽 및 그 안에 포함된 불순물이 거의 반응하지 않아 순도가 높고 결정성이 좋은 막을 얻을 수 있다.
- 화학 기상 증착은 매끄러운 증착 표면을 얻을 수 있습니다. 이는 LPE와 비교하여 화학적 기상 증착(CVD)이 고포화 상태에서 수행되어 높은 핵 생성 속도, 높은 핵 생성 밀도 및 전체 평면에 균일한 분포로 인해 거시적으로 매끄러운 표면을 생성하기 때문입니다. 동시에 화학 기상 증착에서 분자(원자)의 평균 자유 경로는 LPE보다 훨씬 크므로 분자의 공간 분포가 더 균일하여 매끄러운 증착 표면을 형성하는 데 도움이 됩니다.
- MOS(금속산화물반도체) 및 기타 소자 제조에 필요한 조건인 낮은 Radiation Damage
진공 유도로의 진공 환경은 재료 특성을 어떻게 개선하나요?
진공 유도 용해로는 무엇입니까?
PECVD는 무엇을 의미합니까?
PECVD는 플라즈마를 이용하여 반응 가스를 활성화하고 기판 표면 또는 표면 공간 근처에서 화학 반응을 촉진하여 고체 막을 생성하는 기술입니다. 플라즈마 화학 기상 증착 기술의 기본 원리는 RF 또는 DC 전기장의 작용하에 소스 가스가 이온화되어 플라즈마를 형성하고 저온 플라즈마를 에너지 원으로 사용하고 적절한 양의 반응 가스가 플라즈마 방전을 이용하여 반응가스를 활성화시켜 화학기상증착을 구현한다.
플라즈마를 발생시키는 방법에 따라 RF 플라즈마, DC 플라즈마 및 마이크로파 플라즈마 CVD 등으로 나눌 수 있습니다.
CVD와 PECVD의 차이점은 무엇입니까?
PECVD와 기존 CVD 기술의 차이점은 플라즈마가 화학 기상 증착 공정에 필요한 활성화 에너지를 제공할 수 있는 많은 수의 고에너지 전자를 포함하여 반응 시스템의 에너지 공급 모드를 변경한다는 것입니다. 플라즈마의 전자 온도는 10000K만큼 높기 때문에 전자와 가스 분자 간의 충돌은 반응 가스 분자의 화학 결합 파괴 및 재결합을 촉진하여 더 많은 활성 화학 그룹을 생성하는 반면 전체 반응 시스템은 더 낮은 온도를 유지합니다.
따라서 CVD 공정에 비해 PECVD는 더 낮은 온도에서 동일한 화학 기상 증착 공정을 수행할 수 있습니다.
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Vacuum arc furnace is a great tool for melting active metals and preparing bulk amorphous materials by vacuum suction casting.
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The vacuum induction furnace allows for the smelting of refractory metals and the production of special corrosion-resistant and heat-resistant alloys.
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Vacuum induction melting furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
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Vacuum arc furnace is characterized by high temperature, high speed melting, remarkable degassing effect, and free of refractory contamination of molten metal.
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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The vacuum arc furnace is mainly used to melt active metals such as titanium, niobium, zirconium and refractory metals such as tungsten and molybdenum.
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Vacuum induction melting technology and induction smelting technology have been applied in different occasions.
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The development and progress of vacuum induction furnace are mainly reflected in the gradual improvement of the overall structure of the equipment, the increasingly obvious trend of modularization and the more intelligent control system.
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Vacuum arc furnace is suitable for scientific research and small batch preparation of new vacuum metallurgy materials in universities and scientific research institutes.
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The vacuum induction furnace is widely used in the smelting and purification of ultra-high temperature metal materials, high entropy alloy materials, parent alloy materials, refractory metal materials, rare and precious metal materials.
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The vacuum arc furnace can effectively remove oxygen and impurities.
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The vacuum induction furnace is mainly used to melt active metals, such as titanium alloy, etc.
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The vacuum induction furnace can prevent melting of metals and alloys, and react with non-metallic inclusions.
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The vacuum induction furnace can remove the harmful dissolved gases and pollutants in molten metals.
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The vacuum induction furnace has the advantages of no air and vacuum induction furnace slag pollution, pure alloy, and low gas content.
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The vacuum arc furnace is widely used in the smelting and purification of various metal materials in schools, research institutes, and institutions.
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The vacuum induction melting furnace is mainly composed of a furnace shell, inductor, crucible, furnace tilting mechanism, mold mechanism, power supply device, and a water cooling system.
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