PVD 공정의 온도는 일반적으로 섭씨 50~600도입니다.
이 온도 범위는 금속 및 기타 원소의 증발에 필요합니다.
그런 다음 이러한 요소를 적절한 기판에 다시 증착하여 박막과 코팅을 형성합니다.
사용되는 특정 온도는 증발되는 물질과 코팅의 원하는 특성에 따라 달라집니다.
PVD 공정 온도에 대해 알아야 할 5가지 핵심 사항
1. 증발을 위한 온도 범위
PVD 공정은 감압된 대기가 제어된 챔버에서 진행됩니다.
이 압력은 일반적으로 0.1 ~ 1 N/m²입니다.
2. 가시광선 증착
이 환경은 "가시선" 증착 방법을 용이하게 합니다.
고체 물질의 원자는 챔버를 통과하여 경로에 있는 물체에 스스로 박힙니다.
균일한 코팅을 얻으려면 증착 과정에서 물체가 챔버 내에 올바르게 배치되어야 합니다.
3. PVD 기법의 유형
PVD 기술에는 열 증착, 스퍼터링, 이온 도금의 세 가지 주요 유형이 있습니다.
열 증발은 재료를 가열하여 기판에 응축되어 코팅을 형성하는 증기를 형성하는 것입니다.
이러한 가열은 핫 필라멘트, 전기 저항, 전자 또는 레이저 빔, 전기 아크 등 다양한 방법을 통해 이루어질 수 있습니다.
4. 스퍼터링 및 이온 도금
스퍼터링과 이온 도금 역시 PVD 공정의 지정된 온도 및 압력 조건 내에서 작동하는 다른 방법입니다.
5. PVD 공정의 특성
전반적으로 PVD 공정은 저압(고진공)과 비교적 낮은 온도가 특징입니다.
따라서 일반적으로 1~10µm 범위의 매우 얇은 코팅이 생성됩니다.
이러한 코팅은 질화 티타늄과 같은 재료를 증착하여 강철 공구의 내마모성을 개선하는 등 다양한 용도로 사용됩니다.
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