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주요 CVD 매개변수: 가스 흐름, 온도, 압력 및 기판에 대해 알아보십시오. 필름 품질, 성장 속도 또는 저온 증착을 위해 최적화하십시오.
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C@Si 양극재에 대기 튜브로가 필수적인 이유를 알아보세요: 산화를 방지하고 전도성 탄화를 보장합니다.
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고온 분위기 로가 분위기 제어를 통해 실리콘 수지가 Si-O-C 세라믹으로 변환되는 과정을 알아보세요.
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마이크로파 플라즈마 방법(MPCVD)이 마이크로파 에너지를 사용하여 플라즈마를 생성하고 실험실에서 재배한 다이아몬드와 같은 고순도 재료를 합성하는 방법을 알아보세요.
직접 vs. 원격 PECVD: 민감한 기판 또는 고처리량 애플리케이션을 위한 이온 충격, 증착 속도 및 박막 품질 비교.
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로(Retort)로는 열처리 중 재료를 격리하기 위한 밀봉된 용기로, 질화(nitriding) 및 소결(sintering)과 같은 공정을 위해 분위기를 정밀하게 제어할 수 있게 해줍니다.
물리 기상 증착(PVD)과 화학 기상 증착(CVD) 방법을 비교합니다. 귀하의 응용 분야에 적합한 진공 코팅 공정을 선택하는 방법을 알아보세요.
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