지식 CVD 튜브 용광로란?고온 재료 연구를 위한 최고의 도구
작성자 아바타

기술팀 · Kintek Solution

업데이트됨 2 months ago

CVD 튜브 용광로란?고온 재료 연구를 위한 최고의 도구

화학 기상 증착 튜브 퍼니스는 화학 기상 증착(CVD), 소결 및 재료 테스트와 같은 고온 공정을 위해 설계된 특수 가열 장치입니다.수직으로 세워진 챔버와 고정식 웰 튜브 반응기가 있어 온도와 대기를 정밀하게 제어할 수 있는 것이 특징입니다.퍼니스에는 고알루미나 섬유 단열재와 강력한 히터가 장착되어 있어 균일한 가열을 보장합니다.진공 및 대기 조건을 모두 지원하므로 담금질, 어닐링 및 재료 합성과 같은 다양한 응용 분야에 다용도로 사용할 수 있습니다.마이크로프로세서 PID 제어, 빠른 가열/냉각 속도, 석영 또는 알루미나 튜브 옵션을 갖추고 있어 실험실, 대학 및 산업 현장에서 고급 재료 연구 및 가공을 위해 널리 사용됩니다.

핵심 사항 설명:

CVD 튜브 용광로란?고온 재료 연구를 위한 최고의 도구
  1. 정의 및 목적:

    • CVD 튜브 퍼니스는 화학 기상 증착(CVD) 공정뿐만 아니라 소결, 담금질, 재료 합성과 같은 기타 고온 응용 분야를 위해 특별히 설계된 퍼니스 유형입니다.
    • 실험실 및 산업 환경에서 정밀한 온도 제어와 분위기 조절을 위해 사용됩니다.
  2. 디자인 및 구조:

    • 이 퍼니스는 수직으로 세워진 챔버와 고정식 웰 튜브 반응기를 갖추고 있어 재료를 효율적으로 가열하고 냉각할 수 있습니다.
    • 챔버는 일반적으로 원통형 또는 반원통형이며 단열을 위해 고알루미나 섬유로 라이닝되고 균일한 온도 분포를 보장하기 위해 전방위 히터가 장착되어 있습니다.
  3. 주요 구성품:

    • SS KF 플랜지가 있는 진공 튜브:진공 펌핑 및 가스 퍼징을 가능하게 하여 퍼니스가 제어된 대기 또는 진공 조건에서 작동할 수 있도록 합니다.
    • 퍼니스 튜브:필요한 온도 범위와 재료 호환성에 따라 석영(직경 25mm~300mm, 최대 1200°C) 또는 알루미나(직경 25mm~100mm, 최대 1700°C)로 제공됩니다.
    • 마이크로프로세서 PID 제어:정밀한 온도 조절, 빠른 가열/냉각 속도, 낮은 에너지 소비를 보장합니다.
  4. 애플리케이션:

    • 재료 가공:재료, 특히 와이어 모양 또는 작은 강철 조각의 담금질, 어닐링, 소결 및 템퍼링에 사용됩니다.
    • 화학 및 물리적 공정:화학 분석, 물리적 분해, 정제, 승화 및 가스 제거에 적합합니다.
    • 고급 연구:진공 코팅, 나노 필름 준비, 나노 와이어 성장, 배터리 재료 건조 및 소결에 이상적입니다.
  5. 대기 제어:

    • 진공 또는 제어된 대기(예: 불활성 가스)에서 작동할 수 있으므로 CVD/CVI 실험 또는 대기 환원과 같이 정밀한 환경 조건이 필요한 공정에 적합합니다.
  6. 다목적성 및 사용 사례:

    • 대학, 연구기관, 산업체에서 고온 실험 및 재료 합성을 위해 널리 사용됩니다.
    • 고온 대기 소결, 나노 와이어 성장, 전자 세라믹 및 나노 필름과 같은 첨단 소재의 제조에 주로 사용됩니다.
  7. 장점:

    • 온도 균일성:강력한 전방위 히터와 고알루미나 섬유 단열재로 챔버 전체에 일관된 난방을 보장합니다.
    • 에너지 효율:빠른 가열 및 냉각 속도로 에너지 소비를 줄입니다.
    • 유연성:다양한 용광로 튜브 재질과 직경을 사용할 수 있어 다양한 재료 및 공정과 호환됩니다.
  8. 산업 및 연구 관련성:

    • 재료 과학, 전자 및 나노 기술 관련 산업 및 연구 부서에 필수적입니다.
    • 원소 분석, 재료 테스트, 신소재 개발과 같은 실험실 및 산업 환경의 주기적인 작업을 지원합니다.

정밀한 온도 제어, 다양한 분위기 옵션, 견고한 설계가 결합된 CVD 튜브 퍼니스는 학술 및 산업 환경 모두에서 첨단 재료 연구와 고온 처리를 위한 중요한 도구입니다.

요약 표:

기능 설명
목적 CVD, 소결, 어닐링 및 재료 합성을 위해 설계되었습니다.
디자인 고알루미나 섬유 단열재와 전방위 히터가 장착된 수직 챔버.
온도 범위 최대 1700°C(알루미나 튜브) 또는 1200°C(석영 튜브).
대기 제어 진공 및 제어된 대기(예: 불활성 가스)를 지원합니다.
응용 분야 담금질, 어닐링, 나노 와이어 성장, 나노 필름 준비 등.
장점 균일한 가열, 에너지 효율, 다양한 재료와의 호환성.

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