이온 빔 스퍼터링은 박막을 만드는 데 사용되는 방법입니다. 이온 소스라는 특수 도구를 사용하여 이온이라는 작은 입자를 대상 물질에 쏘는 방식입니다. 이 이온은 대상 물질의 일부를 떨어뜨린 다음 표면에 떨어져 박막을 형성합니다. 이 과정을 통해 매우 조밀하고 고품질의 필름이 생성됩니다.
이온 빔 스퍼터링의 과정은 무엇인가요? (4가지 주요 단계 설명)
1. 이온 빔 생성
이온 소스는 이온 빔을 생성합니다. 이러한 이온은 일반적으로 아르곤과 같은 불활성 가스로 만들어집니다. 이온은 모두 동일한 에너지 레벨을 가지며 곧고 좁은 경로로 이동합니다.
2. 이온이 표적에 미치는 영향
이온 빔은 금속 또는 유전체일 수 있는 목표 물질을 조준합니다. 고에너지 이온이 표적에 부딪히면 에너지 전달로 인해 원자나 분자가 떨어져 나갑니다.
3. 기판 위에 증착
타겟에서 튕겨져 나온 물질은 진공을 통과하여 기판 위에 떨어집니다. 이렇게 하면 기판 표면에 얇은 막이 형성됩니다.
4. 제어 및 정밀도
이온 빔의 에너지와 방향을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 이를 통해 고정밀 애플리케이션에 중요한 매우 균일하고 조밀한 필름을 생성할 수 있습니다.
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