CVD 그래핀의 저항, 특히 시트 저항은 일반적으로 구리 기판에서 성장했을 때 약 350 Ω/sq이며 투명도는 90%입니다.
이 값은 투명도 98%에 시트 저항이 약 6kΩ인 도핑되지 않은 그래핀에 비해 투명도/시트 저항 비율이 크게 개선되었음을 나타냅니다.
4가지 주요 인사이트
1. CVD 그래핀의 시트 저항
구리 기판 위에 화학 기상 증착(CVD)으로 생산된 그래핀의 시트 저항은 350 Ω/sq로 보고되고 있습니다.
이 측정은 그래핀이 높은 수준의 투명도(특히 90%)를 유지하는 조건에서 수행됩니다.
시트 저항은 전도성과 투명성 사이의 균형이 필수적인 투명 전도성 필름과 같은 애플리케이션에서 중요한 파라미터입니다.
2. 도핑되지 않은 그래핀과의 비교
한 원자 두께의 2차원 결정 동소체인 언도핑된 그래핀은 98%의 투명도로 약 6kΩ의 시트 저항을 나타냅니다.
구리를 사용한 CVD 그래핀에 비해 이 높은 저항은 CVD 공정이 그래핀의 투명성을 크게 손상시키지 않으면서도 전도성을 향상시킬 수 있음을 나타냅니다.
3. 층 두께의 영향
그래핀의 시트 저항은 더 많은 층을 추가할수록 감소합니다.
가설적으로 층이 독립적으로 작동한다면 시트 저항은 일정하게 유지되어야 하며 다층 필름의 저항과 관련이 있어야 합니다.
이는 CVD 공정을 최적화하여 레이어 수를 제어함으로써 특정 애플리케이션 요구 사항을 충족하도록 시트 저항을 조정할 수 있음을 시사합니다.
4. 응용 분야 및 향후 전망
CVD 그래핀은 센서, 터치 스크린, 발열체 등 다양한 응용 분야에 사용됩니다.
CVD 그래핀 생산 비용을 절감하고 처리하는 더 나은 방법이 개발되면 그 응용 분야가 더욱 확대될 것으로 예상됩니다.
표면적이 넓고 전기적 특성이 우수한 그래핀을 생산할 수 있는 CVD는 산업용 애플리케이션에 매력적인 방법입니다.
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