CVD 증착은 고품질 고체 재료를 생산하는 데 사용되는 진공 증착 방법인 화학 기상 증착 공정을 말합니다. CVD를 사용하여 증착할 수 있는 재료는 다음과 같습니다:
1. 실리콘: 실리콘에는 이산화규소, 탄화규소, 질화규소, 산화규소가 포함됩니다. 이러한 재료는 반도체 산업에서 다양한 용도로 널리 사용됩니다.
2. 탄소: CVD는 탄소 섬유, 나노 섬유, 나노 튜브, 다이아몬드 및 그래핀과 같은 다양한 형태의 탄소를 증착할 수 있습니다. 탄소 소재는 전자, 복합재 및 에너지 저장 분야에서 광범위하게 응용되고 있습니다.
3. 탄화불소: 탄소와 불소 원자를 포함하는 화합물입니다. 단열재로 사용되거나 마찰이 적은 특성으로 인해 자주 사용됩니다.
4. 필라멘트: CVD는 얇고 유연한 실 또는 섬유인 다양한 유형의 필라멘트를 증착할 수 있습니다. 이러한 필라멘트는 금속 또는 폴리머와 같은 다양한 재료로 만들 수 있습니다.
5. 텅스텐: 텅스텐은 일반적으로 CVD를 사용하여 증착되는 금속입니다. 텅스텐 필름은 녹는점이 높으며 고온 저항이 필요한 응용 분야에 사용됩니다.
6. 질화 티타늄: 티타늄과 질소의 화합물입니다. 경도가 높고 내마모성이 뛰어나 코팅 재료로 자주 사용됩니다.
7. 고-κ 유전체: 유전체는 전기 에너지를 저장하고 방출할 수 있는 절연 재료입니다. 고-κ 유전체는 유전율이 높기 때문에 전자기기의 소형화를 가능하게 합니다.
요약하면, CVD 증착은 실리콘, 탄소, 탄화 플루오르, 필라멘트, 텅스텐, 질화 티타늄, 고 κ 유전체 등 다양한 재료를 증착하는 데 사용할 수 있습니다. 이러한 재료는 전자, 반도체, 재료 과학 등 다양한 산업 분야에서 활용됩니다.
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