물리적 기상 증착(PVD)은 물질을 응축된 상태에서 증기 상태로 전환하여 박막과 코팅을 만드는 데 사용되는 기술입니다.
PVD는 원자 수준에서 작동하는 기화 코팅 기술입니다.
일반적으로 진공 환경에서 이러한 박막과 코팅을 생성하는 데 사용됩니다.
PVD에서는 고체 또는 액체 소스 재료가 진공 챔버 내에서 기화됩니다.
이러한 기화는 스퍼터링, 열 증발, 전자빔 증발, 레이저 제거 등과 같은 다양한 방법을 통해 이루어질 수 있습니다.
기화된 물질은 기판 표면에 원자 또는 분자의 형태로 응축됩니다.
이렇게 하면 원자 몇 개 두께에 불과한 얇은 PVD 코팅이 생성됩니다.
이 공정은 여러 가지 이유로 진공 환경에서 이루어집니다.
첫째, 진공은 챔버 내 원자의 밀도를 감소시켜 원자의 평균 자유 경로를 길게 만듭니다.
이를 통해 원자가 챔버의 잔류 가스 분자와 충돌하지 않고 기판에 도달할 수 있습니다.
또한 상업용 물리적 증착 시스템이 제대로 작동하려면 저압 증기 환경이 필요합니다.
PVD 공정에는 증발, 이송, 반응, 증착의 네 가지 주요 단계가 포함됩니다.
증발하는 동안 소스 재료는 기화되어 증기상으로 전환됩니다.
그런 다음 증발된 재료는 진공 챔버 내에서 기판으로 이송됩니다.
기판에 도달하면 기화된 물질이 원자 또는 분자의 형태로 표면 물질에 응축되는 반응이 일어납니다.
마지막으로 응축된 물질이 기판 위에 증착되어 박막 또는 코팅이 생성됩니다.
전반적으로 PVD는 원하는 특성을 가진 박막을 만드는 데 사용할 수 있는 다목적 기술입니다.
전자, 광학, 자동차 등 다양한 산업 분야에서 널리 사용됩니다.
내식성, 내마모성, 광학 코팅, 장식용 코팅 등 다양한 용도로 사용됩니다.
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