스퍼터링 공정 가스는 일반적으로 불활성 가스이며, 가장 일반적으로 아르곤이 사용됩니다. 이 가스는 진공 챔버로 유입되어 이온화되어 플라즈마를 형성합니다. 이 플라즈마의 이온은 음극의 일부인 표적 물질을 향해 가속되고 표적 물질에서 원자 또는 분자를 전위시킵니다. 이렇게 전위된 입자는 증기 흐름을 형성하여 기판에 증착되어 박막 또는 코팅을 생성합니다.
가스 선택은 스퍼터링 공정의 특정 요구 사항에 따라 달라질 수 있습니다. 아르곤은 화학적 불활성과 대상 물질에 운동량을 효율적으로 전달하는 능력으로 인해 널리 사용됩니다. 그러나 네온, 크립톤, 크세논, 산소 및 질소와 같은 다른 가스도 특히 다양한 유형의 재료를 다루거나 화합물을 형성할 때 사용할 수 있습니다. 가스의 원자량은 최적의 운동량 전달을 위해 대상 물질의 원자량에 가까워야 하므로 중요한 고려 사항입니다.
요약하면, 스퍼터링에서 공정 가스는 가스의 이온화, 플라즈마 형성, 이후 대상 물질 원자의 방출 및 기판으로의 증착을 용이하게 하는 중요한 구성 요소입니다. 가스 선택은 증착되는 재료의 특정 요구 사항과 결과물인 필름 또는 코팅의 원하는 특성에 맞게 조정할 수 있습니다.
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