박막 증착은 기판 표면 또는 이전에 증착된 코팅 위에 매우 얇은 재료 필름을 적용하여 층을 형성하는 기술입니다. 이 기술은 전자, 광학, 데이터 저장, 생의학 등 다양한 산업에서 엔지니어링 부품의 표면 특성을 수정하는 데 사용됩니다. 박막 코팅은 유리의 광학적 특성, 금속의 부식성, 반도체의 전기적 특성을 변경할 수 있습니다.
박막 증착에는 화학 기상 증착(CVD)과 물리적 기상 증착(PVD) 등 다양한 기술과 방법이 사용됩니다. CVD는 기판 표면에서 가스가 반응하여 박막을 증착하는 방식이며, PVD는 증발 또는 스퍼터링과 같은 공정을 통해 원자 또는 분자를 원재료에서 기판으로 물리적으로 옮기는 방식입니다. 이러한 기술을 통해 박막의 두께와 구성을 정밀하게 제어할 수 있습니다.
박막 증착은 반도체, 태양 전지판, 광학 장치 및 데이터 저장 장치와 같은 현대 기술 개발에 필수적인 요소가 되었습니다. 이를 통해 전도성, 내마모성, 내식성, 경도 등과 같은 특정 특성을 가진 코팅을 생산할 수 있습니다. 코팅은 단일 재료 또는 여러 층으로 구성될 수 있으며, 두께는 옹스트롬에서 미크론까지 다양합니다.
전반적으로 박막 증착은 다양한 재료와 소자의 성능과 기능을 향상시키는 데 중요한 역할을 하므로 많은 산업에서 기본 기술이 되고 있습니다.
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