증착 챔버는 증착된 필름의 순도와 품질을 보장하기 위해 주로 고진공이 필요합니다. 이는 기화된 원자의 평균 자유 경로를 증가시키고 오염 수준을 줄이며 기체 및 증기상 구성에 대한 제어를 강화하기 위해 가스 압력을 최소화함으로써 달성할 수 있습니다.
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평균 자유 경로 증가: 고진공 환경에서는 가스 압력이 크게 감소하여 기화된 원자의 평균 자유 경로가 증가합니다. 이는 이러한 원자가 다른 가스 분자와 충돌하지 않고 더 먼 거리를 이동한다는 것을 의미합니다. 이는 증기 내 그을음의 핵 생성을 방지하고 원자가 산란 없이 기판에 도달하여 보다 균일하고 고품질의 증착이 이루어지도록 하기 때문에 매우 중요합니다.
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오염 수준 감소: 고진공 조건은 잠재적 오염원인 챔버 내 배경 가스의 존재를 크게 줄여줍니다. 이는 유기 발광 장치 및 유기 광전지와 같이 산소 및 습기에 민감한 응용 분야에 특히 중요하며, 미량의 가스만으로도 활성 기능성 종을 소멸시킬 수 있습니다. 10^-6~10^-9 토르 범위의 진공을 유지하면 증발된 필름의 순도가 크게 향상됩니다.
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기체 및 증기상 구성에 대한 제어 강화: 고진공 환경을 통해 기술자는 기체 및 증기상 구성을 정밀하게 제어할 수 있습니다. 이러한 제어는 필름의 화학 성분이 정확해야 하는 광학 코팅과 같은 특수 박막을 만드는 데 필수적입니다.
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더 나은 접착력을 위한 깨끗한 표면: 고진공은 또한 챔버 내부의 표면을 깨끗하게 유지합니다. 이러한 청결은 증발된 원자가 기질에 더 잘 부착되어 안정적이고 균일한 층을 형성할 수 있도록 하기 때문에 매우 중요합니다. 고진공이 없으면 증발된 원자가 잘 달라붙지 않아 불안정하거나 고르지 않은 증착이 발생할 수 있습니다.
요약하면, 증착 챔버의 고진공은 고품질의 순수하고 균일한 박막을 얻기 위해 필수적입니다. 고진공은 기화된 원자의 평균 자유 경로를 늘리고 오염을 줄이며 증착 환경을 정밀하게 제어하고 깨끗한 표면을 보장하여 필름 접착력을 향상시킵니다.
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