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수동 고온 열 프레스

고객이 만든 언론

수동 고온 열 프레스

품목 번호 : PCHT

가격은 다음을 기준으로 달라집니다 사양 및 사용자 정의


압력 프로세스
수동 가압
압력 유지 시간
1초 ~ ∞초
실린더 스트로크
80mm
가열 온도
최대 1000℃
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소개

고온 핫 프레스는 고온 환경에서 재료를 프레스, 소결 및 가공하기 위해 특별히 설계된 기계입니다. 다양한 고온 공정 요구 사항을 위해 섭씨 수백도에서 섭씨 수천도 범위에서 작동할 수 있습니다. 작동 중 압력, 온도 및 기타 매개변수를 조절하고 제어하려면 수동 개입이 필요합니다.

애플리케이션

고온 핫 프레스는 다음과 같은 분야에서 널리 사용됩니다:

고온 합금 제조: 항공 엔진 부품, 우주선 재료 등을 제조하는 데 사용됩니다.

분말 야금: 복잡한 구조의 정밀 부품 및 금속 제품 제조에 사용됩니다.

세라믹 재료: 고온 세라믹의 소결 및 가공에 사용됩니다.

전자 재료: 반도체 재료 및 자성 재료 제조에 사용됩니다.

세부 및 부품

수동 고온 열 프레스

설정 인터페이스
설정 인터페이스
작동 인터페이스
작동 인터페이스
  • 1단계: 데이터 화면을 선택하고 설정 인터페이스로 들어갑니다.
  • 2단계: "프로그래밍 가능한 세그먼트 설정"을 선택합니다.
  • 3단계: 프로그램에는 20개의 온도 상승 제어 프로그램이 있으며, 첫 번째 세그먼트를 선택합니다.
  • 4단계: 실험 요구 사항에 따라 첫 번째 세그먼트의 온도 및 가열 속도를 설정합니다.
  • 5 단계 : 여러 온도 상승 프로그램이 필요한 경우 20 개의 세그먼트를 설정할 수 있습니다.
  • 6 단계 : 설정 후 메인 인터페이스를 눌러 작동 인터페이스로 돌아갑니다.
  • 7단계: 메인 인터페이스에서 "난방 시작"을 누릅니다.
  • 8단계: 프로그램에 따라 장비가 가열되기 시작합니다.
  • 9단계: 가열 후 장비가 자동으로 정지합니다. 지정된 시간 내에 설정 온도에 도달하지 못하는 등 설정이 잘못되면 장비가 자동으로 종료됩니다.

원리

고온 핫 프레스는 고온 및 고압 환경의 물리적, 화학적 효과를 활용하여 재료에 높은 압력과 온도를 가하여 재료 분자의 재배열 또는 결정화를 유도하여 재료를 프레스, 소결 및 가공합니다. 고온 조건에서 재료 원자는 에너지 장벽을 더 쉽게 통과할 수 있어 화학 반응, 입자 성장 및 재료 치밀화에 도움이 되며, 따라서 재료의 기계적 특성과 내열성을 개선하고 복잡한 구조 재료의 제조를 개선할 수 있습니다.

특징

고온 작동 능력: 최대 섭씨 수천 도의 초고온에서도 안정적으로 작동할 수 있습니다.

정밀한 제어: 정밀한 온도 제어 및 압력 제어 시스템을 탑재하여 정확하고 반복 가능한 가공을 보장합니다.

다양한 재료에 대한 적응: 금속, 세라믹, 복합재 등 다양한 유형의 재료를 처리할 수 있습니다.

고성능: 장비 설계 및 공정 최적화를 통해 높은 생산성과 고품질의 제품을 대량으로 생산할 수 있습니다.

기술 사양

장비 모델 PCHT
압력 범위 0-5.0톤
압력 프로세스 수동 가압
압력 유지 시간 1초 ~ ∞초
실린더 스트로크 80mm
가열 온도 최대 1000℃
금형 재료 니켈 기반 합금(고온 내성 소재)
샘플 크기 중간 10-30mm
금형 모양 중형 50x90mm
용광로 직경 중형 60mm
전체 기계 크기 400x380x780(LxWxH)
전원 공급 장치 220V 50Hz
분말 정제 프레스 크기 다이어그램 분말 정제 프레스 크기 다이어그램

작동 단계

1. 샘플을 금형에 넣습니다.

1. 샘플을 금형에 넣습니다.

2. 금형을 핫 프레스에 넣습니다.

2. 금형을 핫 프레스에 넣습니다.

샘플을 사전 프레스합니다.

3. 샘플을 사전 프레스합니다.

4. 데이터 화면을 클릭하여 가열 온도를 설정합니다.

4. 데이터 화면을 클릭하여 가열 온도를 설정합니다.

5. 데이터 화면에서 최대 20개의 가열 프로그램을 설정할 수 있으며 가열 속도를 조정할 수 있습니다.

5. 데이터 화면에서 최대 20개의 가열 프로그램을 설정할 수 있으며 가열 속도를 조정할 수 있습니다.

6. 메인 인터페이스로 돌아가서 가열을 시작합니다.

6. 메인 인터페이스로 돌아가서 가열을 시작합니다.

7. 온도가 설정 온도에 도달하면 가압을 시작합니다.

7. 온도가 설정 온도에 도달하면 가압을 시작합니다.

8. 시료를 꺼냅니다.

8. 메인 인터페이스로 돌아가 가열을 시작합니다.

FAQ

MPCVD란 무엇입니까?

MPCVD는 Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition의 약자로 표면에 박막을 증착하는 공정입니다. 진공 챔버, 마이크로파 발생기 및 가스 전달 시스템을 사용하여 반응 화학 물질과 필요한 촉매로 구성된 플라즈마를 생성합니다. MPCVD는 다이아몬드 시드 기판에서 새로운 다이아몬드를 성장시키기 위해 메탄과 수소를 사용하여 다이아몬드 층을 증착하기 위해 ANFF 네트워크에서 많이 사용됩니다. 저비용, 고품질의 대형 다이아몬드를 생산할 수 있는 유망한 기술이며 반도체 및 다이아몬드 절삭 산업에서 광범위하게 사용됩니다.

MPcvd 머신이란 무엇입니까?

MPCVD(Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) 기계는 고품질 다이아몬드 필름을 성장시키는 데 사용되는 실험실 장비입니다. 탄소 함유 가스와 마이크로파 플라즈마를 사용하여 다이아몬드 기판 위에 플라즈마 볼을 생성하여 특정 온도로 가열합니다. 플라즈마 볼이 와벽과 접촉하지 않아 다이아몬드 성장 과정에 불순물이 없고 다이아몬드의 품질이 향상됩니다. MPCVD 시스템은 진공 챔버, 마이크로파 발생기 및 챔버로의 가스 흐름을 제어하는 가스 전달 시스템으로 구성됩니다.

MPcvd의 장점은 무엇입니까?

MPCVD는 더 높은 순도, 더 적은 에너지 소비 및 더 큰 다이아몬드를 생산할 수 있는 능력과 같은 다른 다이아몬드 생산 방법에 비해 몇 가지 장점이 있습니다.

CVD 다이아몬드는 진짜입니까 아니면 가짜입니까?

CVD 다이아몬드는 가짜가 아닌 진짜 다이아몬드입니다. 그들은 화학 기상 증착(CVD)이라는 공정을 통해 실험실에서 성장합니다. 지표면 아래에서 채굴되는 천연 다이아몬드와 달리 CVD 다이아몬드는 실험실에서 첨단 기술을 사용하여 만들어집니다. 이 다이아몬드는 100% 탄소이며 유형 IIa 다이아몬드로 알려진 가장 순수한 형태의 다이아몬드입니다. 그들은 천연 다이아몬드와 동일한 광학적, 열적, 물리적 및 화학적 특성을 가지고 있습니다. 유일한 차이점은 CVD 다이아몬드는 실험실에서 생성되며 지구에서 채굴되지 않는다는 것입니다.
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