스퍼터링은 물리적 기상 증착(PVD)의 일종입니다. 이 프로세스에는 고에너지 입자를 사용하여 소스 재료에서 원자를 녹인 다음 기판에 증착하여 박막을 형성하는 과정이 포함됩니다.
PVD 스퍼터링에 대한 설명:
물리적 기상 증착(PVD) 스퍼터링은 기판에 재료의 박막을 증착하는 데 사용되는 방법입니다. 이 과정에서 일반적으로 고체 금속 또는 화합물 재료인 대상 물질을 진공 챔버에 넣습니다. 그런 다음 챔버를 비워 진공 환경을 조성합니다. 챔버 내에서 아르곤 플라즈마가 생성되고, 이 플라즈마는 고에너지 이온으로 대상 물질을 타격하는 데 사용됩니다. 이 충격으로 인해 대상 물질의 원자가 방출되거나 "스퍼터링"되고 이러한 원자가 기판에 증착되어 박막을 형성합니다.화학 기상 증착(CVD)과 비교:
PVD와 CVD는 모두 박막을 증착하는 데 사용되는 방법이지만 접근 방식이 다릅니다. CVD는 휘발성 전구체를 사용하여 열이나 압력으로 시작된 화학 반응을 통해 기판 표면에 기체 상태의 소스 물질을 증착합니다. 반면, PVD는 재료를 녹는점 이상으로 가열하여 증기를 발생시키거나 스퍼터링과 같은 방법을 사용하여 소스 재료에서 원자를 배출하는 등 기판에 박막을 증착하는 물리적 방법을 사용합니다.
스퍼터링의 응용 분야:
