인듐 주석 산화물 타겟의 약자인 ITO 타겟은 박막 산업에서 사용되는 스퍼터링 타겟의 일종입니다. 산화 인듐(In2O3)과 산화 주석(SnO2)의 혼합물로 구성되며, 무게 비율은 In2O3 90%, SnO2 10%입니다.
ITO는 전기 전도성과 광학적 투명성의 조합으로 인해 스퍼터링 타겟에 널리 사용됩니다. 반도체, 태양광 및 코팅 응용 분야뿐만 아니라 광학 응용 분야에서도 일반적으로 사용됩니다.
ITO 타겟을 제조하는 방법에는 여러 가지가 있습니다. 한 가지 방법은 플라즈마, 아크 및 콜드 스프레이 생산 방법을 포함하는 열 스프레이 로터리 타겟을 사용하는 것입니다. 다른 제조 방법으로는 주조, 압출, 열간 등방성 프레싱(HIP)/소결 등이 있습니다.
회전 가능한 타겟, 특히 원통형 타겟은 건축용 유리 및 평판 디스플레이의 대면적 코팅 제조에 자주 사용됩니다. 이러한 타겟은 평면 타겟에 비해 몇 가지 장점이 있습니다. 더 많은 재료를 포함하므로 생산 시간이 길어지고 가동 중단 시간이 줄어듭니다. 열 축적이 표면적에 고르게 분산되어 전력 밀도를 높이고 증착 속도를 높일 수 있습니다. 이는 반응성 스퍼터링 시 성능 향상으로 이어집니다.
킨텍은 고순도 ITO 타겟을 전문적으로 생산하는 공급업체입니다. 직경 2인치에서 최대 8.625인치, 길이 몇 인치에서 최대 160인치에 이르는 다양한 크기의 맞춤형 원통형 회전식 스퍼터링 타겟을 제공합니다. 타겟은 최고의 품질을 보장하기 위해 XRF(X-선 형광), GDMS(글로우 방전 질량 분석법), ICP(유도 결합 플라즈마)와 같은 기술을 사용하여 분석됩니다.
최상의 성능을 달성하고 균열이나 과열을 방지하려면 ITO 타겟을 백킹 플레이트에 접착하는 것이 좋습니다. 킨텍이 사용하는 복합 타겟 생산 방법에는 진공 열간 프레스, 열간 등방성 프레스, 냉간 등방성 프레스 및 냉간 프레스 소결이 포함됩니다. 타겟은 특정 요구 사항에 따라 직사각형, 환형 또는 타원형을 포함한 다양한 모양과 크기로 제조할 수 있습니다.
요약하면, ITO 타겟은 산화 인듐과 산화 주석의 혼합물로 구성된 스퍼터링 타겟입니다. 박막 증착을 위해 다양한 산업에서 사용되며 전기 전도성과 광학 투명성의 조합을 제공합니다. 다양한 방법으로 제조되는 ITO 타겟은 주로 회전 가능한 타겟 형태로, 재료 활용도와 증착 성능 측면에서 평면 타겟에 비해 장점이 있습니다. 킨텍은 다양한 크기와 형태의 고순도 ITO 타겟을 전문적으로 생산하는 공급업체입니다.
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