전자빔 증발 전류는 진공 환경에서 물질을 증발시키는 과정에서 사용되는 전자빔 전류를 말합니다. 이 전류는 일반적으로 암페어(A) 단위로 측정되며 증발되는 물질에 전달되는 전력을 결정하는 중요한 매개변수입니다. 제공된 참고 문헌의 맥락에서 전자 빔은 증발할 물질이 들어 있는 도가니로 자기적으로 향하는 것으로 설명됩니다. 이 빔은 일반적으로 약 10kV의 고전압에서 작동하며 0.1A의 작은 전류로도 1킬로와트의 상당한 전력을 전달하여 효과적으로 물질을 가열할 수 있습니다.
전자빔 전류는 증착 속도와 생산된 필름의 품질에 직접적인 영향을 미치기 때문에 매우 중요합니다. 전류가 높을수록 특정 설정과 관련된 재료에 따라 분당 0.1nm에서 분당 100nm에 이르는 더 높은 증착 속도를 얻을 수 있습니다. 이러한 높은 증착 속도는 기판에 대한 접착력을 높인 고밀도 필름 코팅을 달성하는 데 유리합니다.
또한 전자빔 증착 공정은 전체 도가니 또는 진공 챔버를 가열하지 않고 대상 재료에 에너지를 집중하도록 설계되었습니다. 이러한 국소 가열은 재료 활용의 효율성을 높일 뿐만 아니라 기판의 오염 및 열 손상 위험도 줄여줍니다. 이 공정은 특히 텅스텐이나 탄탈륨과 같이 기화에 상당한 에너지가 필요한 융점이 높은 재료에 효과적입니다.
요약하면 전자빔 증발의 전류는 증발 공정의 전력과 효율을 결정하는 핵심 작동 파라미터입니다. 전자빔 전류를 제어함으로써 제조업체는 증착 속도를 최적화하고 오염을 최소화하면서 고품질의 순수한 필름을 생산할 수 있습니다.
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