기상 증착은 다양한 산업 분야에서 특히 특정 기계적, 광학적, 화학적 또는 전자적 특성을 가진 박막을 만드는 데 중요한 공정입니다. 이 공정은 크게 기화 및 특성화 기술과 스퍼터링 기술의 두 가지 주요 그룹으로 분류할 수 있습니다.
기상 증착의 5가지 주요 유형
기화 및 특성화 기술
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전자빔 기화: 이 방법은 높은 에너지의 전자 빔을 사용하여 금속 매트릭스를 기화시킵니다. 그런 다음 기화된 물질을 기판이나 섬유에 응축합니다.
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화학 기상 증착(CVD): CVD는 증기 상에서 화학 반응을 통해 박막을 증착하는 방식입니다. 여기에는 화학조 증착, 전기 도금, 분자 빔 에피택시 및 열 산화와 같은 방법이 포함됩니다.
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물리적 기상 증착(PVD): PVD는 박막과 코팅을 생성하는 진공 증착 방법입니다. 이 방법은 재료가 응축상에서 증기상으로, 그리고 다시 박막 응축상으로 전이되는 과정을 포함합니다. 일반적인 PVD 공정에는 스퍼터링과 증착이 포함됩니다.
스퍼터링 기법
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마그네트론 스퍼터링: 이 기술은 자기장을 사용하여 대상 물질 근처에 전자를 가두어 고밀도 플라즈마와 효율적인 스퍼터링을 생성합니다.
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이온 빔 스퍼터링: 이 방법에서는 이온이 대상 물질을 향해 가속되어 대상 원자의 스퍼터링을 일으킵니다.
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반응성 스퍼터링: 반응성 가스가 스퍼터링 챔버에 도입되어 화합물 박막을 형성합니다.
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이온 보조 스퍼터링: 이 기술은 스퍼터링이 발생하는 동안 기판에 에너지가 있는 이온을 동시에 가하는 기술입니다.
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가스 흐름 스퍼터링: 가스 흐름은 스퍼터링 속도를 향상시키고 필름 품질을 개선하는 데 사용됩니다.
이 기술은 다양한 기능을 위해 박막을 필요로 하는 제품을 제조하는 데 필수적입니다. 증착 방법의 선택은 원하는 필름 특성, 대상 재료 및 공정 요구 사항과 같은 요인에 따라 달라집니다.
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