스퍼터링은 표면에 얇은 필름을 만드는 데 사용되는 방법입니다.
이 기술은 전자 및 광학 등 많은 산업에서 중요합니다.
이 공정에는 필름이 올바르게 만들어지도록 하는 몇 가지 주요 단계가 있습니다.
스퍼터링 공정의 6가지 주요 단계는 무엇인가요?
1. 진공 만들기
먼저 공정이 진행되는 챔버에 공기를 비웁니다.
이 작업은 약 10^-6 토르의 매우 낮은 압력으로 이루어집니다.
이 단계는 환경을 깨끗하게 유지하기 때문에 중요합니다.
2. 스퍼터링 가스 도입
다음으로 아르곤과 같은 가스를 챔버에 넣습니다.
사용되는 가스의 종류는 만드는 재료에 따라 다릅니다.
3. 플라즈마 생성
전압을 가하여 글로우 방전을 생성합니다.
이 방전은 다음 단계에 필요한 일종의 플라즈마입니다.
4. 가스 이온화
플라즈마에서 전자가 가스 원자에 부딪칩니다.
이렇게 하면 원자는 전자를 잃고 양전하를 띤 이온이 됩니다.
5. 표적을 향해 이온 가속
그런 다음 양이온은 표적 물질을 향해 밀려갑니다.
이 이온은 많은 에너지로 표적 물질에 부딪힙니다.
6. 방출된 물질을 증착
높은 에너지의 충돌로 인해 타겟의 물질이 떨어져 나옵니다.
그런 다음 이 물질이 표면으로 이동하여 얇은 필름을 형성합니다.
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