지식 LAGP 분말에 2단계 볼 밀링 공정을 사용하는 이유는 무엇인가요? 100nm 정밀도 및 고순도 달성
작성자 아바타

기술팀 · Kintek Solution

업데이트됨 4 days ago

LAGP 분말에 2단계 볼 밀링 공정을 사용하는 이유는 무엇인가요? 100nm 정밀도 및 고순도 달성


LAGP 분말의 2단계 볼 밀링 공정은 순도를 손상시키지 않고 재료를 거친 소결 블록에서 균일한 나노 입자로 전환하도록 설계되었습니다.

첫 번째 단계는 건식 밀링을 사용하여 크고 소결된 덩어리를 거친 분말로 기계적으로 분쇄합니다. 두 번째 단계는 1mm 지르코니아 비드와 에탄올 용매를 사용한 습식 밀링을 통해 높은 전단 주파수를 발생시켜 고성능 복합 전해질에 사용하기 위해 분말을 평균 입자 크기 약 100nm로 효과적으로 줄입니다.

핵심 통찰력: 두 번째 단계에서 1mm 비드를 사용하는 것은 정밀한 전략입니다. 이는 입자 접촉점을 최대화하여 재료를 부드럽게 나노 스케일로 분쇄하고, 더 크고 충격이 큰 연삭 매체로 인해 발생하는 구조적 손상을 방지합니다.

2단계 전략의 메커니즘

1단계: 거친 분쇄 (건식 밀링)

LAGP의 초기 처리는 일반적으로 고온 소결로 인해 생성된 크고 단단한 블록으로 시작됩니다.

건식 볼 밀링은 주요 분쇄 메커니즘으로 작용합니다. 높은 충격 에너지를 사용하여 이러한 소결된 블록을 다루기 쉬운 거친 분말로 분쇄하여 정제 단계에 필요한 원료를 만듭니다.

2단계: 나노 스케일 정제 (습식 밀링)

재료가 분쇄되면 목표는 분쇄에서 정제로 전환됩니다.

여기서는 종종 에탄올을 용매로 사용하여 슬러리를 만드는 습식 밀링이 사용됩니다. 이는 입자 응집을 방지하고 평균 직경 100nm를 목표로 하는 균일한 크기 감소를 촉진합니다.

전단력의 역할

이 습식 단계에서 유체와 매체 간의 상호 작용은 높은 전단 주파수를 생성합니다.

이는 입자가 단순히 분쇄되는 것이 아니라 연마되고 분리되도록 보장하며, 이는 제조 공정 후반에 매끄럽고 균일한 전해질 페이스트를 만드는 데 중요합니다.

1mm 지르코니아 비드가 중요한 이유

접촉점 최대화

1mm 마이크로 비드의 선택은 연삭의 기하학적 구조에 특화되어 있습니다.

작은 비드는 주어진 무게에 대해 더 많은 부피를 차지하여 비드와 LAGP 분말 간의 접촉점 수를 기하급수적으로 증가시킵니다. 이를 통해 마찰과 전단력을 통해 입자 크기를 줄이는 효율적이고 지속적인 연삭이 가능하며, 이는 큰 충격보다는 연삭을 통해 이루어집니다.

결정 구조 보존

더 작고 가벼운 비드를 사용하는 것은 "저에너지 습식 밀링"(LWM) 접근 방식입니다.

1mm 비드의 개별 충격 에너지가 더 큰 볼보다 낮기 때문에, 이 공정은 입자 크기를 정제하여 재료의 결정 구조를 파괴하지 않습니다. LAGP의 이온 전도도는 결정 구조의 무결성에 크게 의존하므로 이는 매우 중요합니다.

화학적 순도 보장

지르코니아는 극도의 경도와 화학적 불활성 때문에 선택됩니다.

100nm에 도달하기 위해 필요한 장기간의 밀링 동안, 더 부드러운 매체는 마모되어 배치에 불순물을 도입할 것입니다. 지르코니아는 이러한 마모에 저항하여 최종 전해질의 이온 전도도를 저하시킬 수 있는 금속 오염을 방지합니다.

장단점 이해

과도한 밀링의 위험

작은 입자는 최종 배터리에서 더 나은 접촉 면적을 제공하지만, 유익한 크기 감소에는 한계가 있습니다.

밀링 공정이 1mm 비드를 사용하더라도 너무 공격적이거나 오래 지속되면 결정질 LAGP가 비정질 상으로 변환될 위험이 있습니다. 이러한 결정성의 손실은 재료의 이온 전도도를 크게 감소시킬 것입니다.

용매 호환성

습식 밀링 공정은 용매와 세라믹의 호환성에 의존합니다.

에탄올은 입자를 잘 분산시키고 깨끗하게 증발하기 때문에 표준입니다. 그러나 LAGP와 반응하거나 나노 입자를 분산시키지 못하는 용매를 사용하면 응집이 발생하여 1mm 비드의 이점이 상쇄됩니다.

목표에 맞는 선택

LAGP 준비를 최적화하려면 특정 성능 목표에 맞게 밀링 매개변수를 조정하십시오.

  • 주요 초점이 높은 이온 전도도인 경우: 고순도 지르코니아 매체를 사용하는 것을 우선시하고 결정 구조 손상을 방지하기 위해 밀링 시간을 엄격하게 모니터링하십시오.
  • 주요 초점이 복합 페이스트 품질인 경우: 두 번째 습식 밀링 단계에서 균일한 100nm 분포를 생성하여 전해질과 활성 물질 간의 계면을 최대화하십시오.

LAGP 준비의 성공은 재료를 분쇄하는 데 필요한 기계적 힘과 전기화학적 특성을 보존하는 데 필요한 섬세함 사이의 균형에 있습니다.

요약 표:

밀링 단계 방법 주요 목표 주요 매체/조건
1단계 건식 볼 밀링 소결 블록의 거친 분쇄 고충격 에너지 매체
2단계 습식 볼 밀링 나노 스케일 정제 (~100 nm) 1mm 지르코니아 비드 + 에탄올
이점 전단 주파수 균일한 입자 분리 저에너지 마찰
결과 순도 및 구조 높은 이온 전도도 최소 마모 및 결정 보존

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