화학 기상 증착(CVD)은 다양한 기판에 박막을 만드는 데 사용되는 복잡한 공정입니다.
CVD 반응의 5가지 주요 단계
1) 전구체 화학물질 도입
전구체 화학 물질이 CVD 반응기에 공급됩니다.
이 화학 물질은 원하는 박막을 형성하기 위해 반응할 출발 물질입니다.
2) 전구체 분자의 이송
반응기 내부에 들어가면 전구체 분자를 기판 표면으로 운반해야 합니다.
이는 일반적으로 유체 수송과 확산의 조합을 통해 이루어집니다.
3) 기판 표면의 흡착
기질 표면에 도달한 전구체 분자는 흡착을 거쳐야 합니다.
흡착은 이러한 분자가 기판 표면에 부착되는 것을 말합니다.
이 단계는 후속 반응이 일어나기 위해 매우 중요합니다.
4) 화학 반응
일단 흡착되면 전구체 분자는 기판 표면과 반응하여 원하는 박막을 형성합니다.
이러한 반응은 균일한 기체 상 반응 또는 가열된 기판 표면에서/근처에서 발생하는 이질적인 반응일 수 있습니다.
5) 부산물 탈착
화학 반응 중에 부산물 분자가 형성됩니다.
이러한 부산물은 더 많은 전구체 분자를 위한 공간을 확보하기 위해 기판 표면에서 탈착되어야 합니다.
탈착은 이러한 분자가 기체 상으로 방출되는 것을 말합니다.
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