증착 제품은 일반적으로 물질이 고체 표면에 원자 단위 또는 분자 단위로 제어된 방식으로 증착될 때 형성되는 물질입니다. 이러한 제품은 일반적으로 용도에 따라 기판 표면의 특성을 변경하는 역할을 하는 얇거나 두꺼운 층의 형태입니다. 이러한 층의 두께는 증착 방법과 사용된 재료에 따라 단일 원자(나노미터)에서 수 밀리미터까지 다양할 수 있습니다.
증착 방법은 다양하며 스프레이, 스핀 코팅, 도금 및 진공 증착과 같은 기술이 포함됩니다. 특히 진공 증착은 기판에 재료를 증착하는 데 사용되는 다양한 표면 공학적 처리를 포괄하는 광범위한 용어입니다. 이러한 코팅은 금속(카드뮴, 크롬, 구리, 니켈, 티타늄 등) 또는 비금속(탄소/탄소, 탄소/탄화규소와 같은 세라믹 매트릭스 복합재 등)일 수 있습니다.
진공 증착 기술은 물리적 기상 증착(PVD)과 화학 기상 증착(CVD)으로 분류할 수 있습니다. PVD는 액체 또는 고체 상태의 물질이 증기로 응축되는 반면, CVD는 증기를 생성하는 화학 반응으로 인해 발생합니다. 이러한 공정은 종종 진공 환경에서 진행되며, 플라즈마를 사용하여 표면에 운동 에너지를 추가하여 처리 온도를 낮출 수 있습니다.
진공 환경은 증발되거나 스퍼터링된 재료가 챔버를 가로질러 이동하고 공기 분자의 간섭 없이 기판에 정착하여 균일한 층을 형성할 수 있기 때문에 재료 증착에 유리합니다. 증착 후에는 진공이 깨지기 전에 시스템이 냉각되고 챔버가 대기 중으로 배출됩니다.
널리 사용되는 진공 증착 코팅 기술에는 기계적, 전기기계적 또는 열역학적 수단을 사용하여 고체의 박막을 생성하는 물리적 증착이 포함됩니다. 물리적 증착의 예는 성에의 형성과 같은 일상적인 현상에서 볼 수 있습니다.
박막 증착 제품은 보호 코팅, 광학 코팅, 장식 코팅, 전기 작동 코팅, 바이오 센서, 플라즈몬 장치, 박막 광전지, 박막 배터리 등 다양한 용도로 사용됩니다.
기상 증착과 관련된 화학 공정은 대상 재료, 증착 기술, 챔버 압력 및 기판 온도와 같은 요소를 포함하는 복잡하고 경쟁이 치열합니다. 대상 재료는 금속부터 반도체까지 다양하며 증착 기술에는 전자빔 리소그래피, 원자층 증착, 대기압 화학 기상 증착, 플라즈마 강화 화학 기상 증착과 같은 방법이 포함됩니다. 챔버 압력과 기판 온도는 각각 증착할 수 있는 물질의 유형과 증발 및 증기 형성 속도를 결정하는 데 중요한 역할을 합니다.
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