스퍼터링은 고에너지 입자에 의한 충격으로 원자가 고체 대상 물질에서 방출되는 과정을 예로 들 수 있습니다. 이는 고품질 반사 코팅, 반도체 장치 및 나노 기술 제품 제조를 위한 박막 재료 증착과 같은 다양한 응용 분야에서 입증될 수 있습니다.
스퍼터링 공정에서는 입자 가속기, 무선 주파수 마그네트론, 플라즈마, 이온 소스, 방사성 물질에서 나오는 알파 방사선, 우주에서 나오는 태양풍으로 생성된 이온과 같은 고에너지 입자가 고체 표면의 표적 원자와 충돌합니다. 이러한 충돌은 모멘텀을 교환하여 인접 입자에서 충돌 캐스케이드를 유발합니다. 이러한 충돌 캐스케이드의 에너지가 표면 표적 결합 에너지보다 크면 표면에서 원자가 방출되는데, 이 현상을 스퍼터링이라고 합니다.
스퍼터링은 3~5kV 전압의 직류(DC 스퍼터링) 또는 14MHz 범위의 주파수를 가진 교류(RF 스퍼터링)를 사용하여 수행할 수 있습니다. 이 기술은 거울과 감자칩 봉지, 반도체 장치, 광학 코팅의 반사 코팅 생산 등 다양한 산업 분야에서 널리 사용됩니다.
스퍼터링의 한 가지 구체적인 예는 무선 주파수 마그네트론을 사용하여 유리 기판에 2차원 물질을 증착하는 것으로, 태양 전지에 적용하여 박막에 미치는 영향을 연구하는 데 사용됩니다. 마그네트론 스퍼터링은 다양한 기판에 소량의 산화물, 금속 및 합금을 증착할 수 있는 환경 친화적인 기술입니다.
요약하면, 스퍼터링은 과학 및 산업 분야에서 다양한 응용 분야를 가진 다목적의 성숙한 공정으로 광학 코팅, 반도체 장치 및 나노 기술 제품과 같은 다양한 제품 제조에서 정밀한 에칭, 분석 기술 및 박막 층의 증착을 가능하게 합니다.
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