물리적 기상 증착(PVD)은 재료를 응축상에서 기상 상태로 변환한 다음 다시 응축상으로 변환하여 박막과 코팅을 만드는 데 사용되는 방법입니다. 이 프로세스에는 코팅 종의 원자, 이온 또는 분자를 기판에 물리적으로 증착하는 과정이 포함되며, 일반적으로 1~10µm 두께의 순수 금속, 금속 합금 및 세라믹 코팅을 생성합니다.
프로세스 개요:
PVD 공정은 고체 형태의 재료로 시작하여 다양한 물리적 메커니즘을 통해 증기로 변환합니다. 이 증기는 소스에서 기판까지 저압 영역을 가로질러 이송됩니다. 기판에 도달하면 증기는 응축되어 얇은 필름을 형성합니다. 이 일련의 단계는 정밀하고 제어된 재료 증착을 위해 매우 중요합니다.기술 및 메커니즘:
PVD 기술에는 스퍼터링, 증착, 이온 도금의 세 가지 주요 유형이 있습니다. 이러한 각 기술은 감압된 대기가 포함된 챔버 내에서 작동합니다. 예를 들어 스퍼터링은 에너지 입자에 의한 충격으로 인해 원자가 대상 물질에서 물리적으로 방출되는 운동량 교환을 통해 고체 또는 액체 소스에서 원자를 방출하는 방식입니다.
응용 분야 및 이점:
PVD는 의료 분야를 비롯한 다양한 산업에서 널리 사용되고 있으며, 신체 근처 또는 내부에서 사용되는 의료 기기를 코팅하는 데 매우 중요합니다. 원자 수준에서 재료를 증착하는 PVD의 능력은 코팅이 장치에 적절하고 균일하게 부착되도록 보장합니다. 이 방법은 거의 모든 유형의 무기 재료와 소량의 유기 재료를 적용할 수 있어 다양한 용도로 활용할 수 있습니다.
화학 기상 증착(CVD)과 비교:
